一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构及薄膜沉积设备的制作方法

本技术涉及薄膜沉积设备，尤指一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构及薄膜沉积设备。

背景技术：

1、在太阳能及半导体薄膜沉积设备中，尤其是cvd/ald设备中经常会采用圆腔旋转结构，一般反应腔内部主要由上、中、下三部分组成，工艺气体由上部区域向下流出，镀膜工件安装于中部区域载盘上，载盘下部区域为加热区及反应后气体排放区；为了保障膜层的均匀度，载盘会采取旋转措施，因安装及加热等因素影响，绝大多数旋转传递轴安放于载盘中心位置。随着技术的发展以及对产量提高的需求，载盘所承担的工件负载越来越高，尤其是随着太阳能用切割电池片侧面钝化镀膜的研发，要求旋转载盘要承受超上百公斤的负载；众所周知，常规载盘大多选用质量轻热传导性好的材质制成，但此类材质质量轻但刚性较差承受这样的负载有大的风险；而刚性好的材料多数导热性差且比重高，其自身的重量也增加了加热及磁流体旋转轴的负荷，因此，现有的旋转载盘无法同时满足传导性好且负载能力强的需求。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是提供一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构及薄膜沉积设备，同时满足传导性好且负载能力强的需求。

2、本实用新型提供的技术方案如下：

3、一方面，提供一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，安装于旋转轴上，重载旋转机构包括：

4、刚性架，包括刚性旋转套和刚性框架，所述刚性旋转套用于与所述旋转轴固定连接，所述刚性框架呈镂空状且中部与所述刚性旋转套固定连接；

5、载盘，固定设置于所述刚性框架远离所述旋转轴的一侧且不与所述旋转轴接触，所述载盘的导热性高于所述刚性架的导热性，所述载盘的刚性小于所述刚性架的刚性。

6、在一些实施方式中，所述刚性架的材质为为刚性及强度高的材料；

7、所述载盘的材质为导热性好且质量轻的材料。

8、在一些实施方式中，所述刚性框架包括第一环形件、第二环形件、多个第一连接杆和多个第二连接杆，所述第二环形件的直径大于所述第一环形件的直径且所述第二环形件与所述第一环形件为同心圆，多个所述第一连接杆的一端分别与所述刚性旋转套固定连接且沿所述刚性旋转套的周向呈放射状设置，多个所述第一连接杆的另一端分别与所述第一环形件的内壁固定连接，多个所述第二连接杆的一端分别与所述第一环形件的外壁固定连接，多个所述第二连接杆的另一端分别与所述第二环形件的内壁固定连接。

9、在一些实施方式中，所述第二连接杆凸出所述第一环形件和所述第二环形件靠近所述载盘的一侧表面，所述载盘靠近所述刚性架的一面设有装配槽，所述第二连接杆与所述装配槽紧配合。

10、在一些实施方式中，所述刚性框架包括第三环形件和多个第三连接杆，多个所述第三连接杆的一端分别与所述刚性旋转套固定连接且沿所述刚性旋转套的周向呈放射状设置，多个所述第三连接杆的另一端分别与所述第三环形件的内壁固定连接。

11、在一些实施方式中，所述第三连接杆凸出所述第三环形件靠近所述载盘的一侧表面，所述载盘靠近所述刚性架的一面设有装配槽，所述第三连接杆与所述装配槽紧配合。

12、在一些实施方式中，所述刚性架还包括多个加强筋，多个所述加强筋的一端分别与所述刚性旋转套固定连接，多个所述加强筋的另一端分别与所述刚性框架固定连接。

13、在一些实施方式中，所述刚性框架包括相对设置的第一侧面和第二侧面，所述刚性旋转套设置于所述刚性框架的第一侧面且一端伸出所述刚性框架的第二侧面；

14、所述载盘靠近所述刚性框架的一面设有凹陷槽，所述凹陷槽与所述刚性旋转套伸出所述刚性框架的第二侧面的一端定位连接。

15、在一些实施方式中，所述刚性框架的外径大于或等于所述载盘上重载工件的分布区域的最大外径。

16、另一方面，还提供一种薄膜沉积设备，包括旋转轴和上述任一实施方式所述的用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，所述刚性旋转套与所述旋转轴固定连接。

17、本实用新型的技术效果在于：通过刚性架与载盘的巧妙结合，刚性较弱的载盘得到刚性架的支撑，支撑面积有所加大，增加了载盘承受重载工件的安全性，且载盘仍可采用原有的导热性能较好的材料，刚性架中的刚性框架为缕空结构，有较大的空隙区域以利于热传导，进而利于镀膜工件工艺温度要求的实现，本实施例的重载旋转机构，满足了重载支撑的要求，缕空结构减少了刚性支撑材料的重量，有利于加热及磁流体负荷的影响，以满足用户对镀膜工件产量提高的需求。

技术特征：

1.一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，安装于旋转轴上，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，其特征在于，

7.根据权利要求1-6任一项所述的一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，其特征在于，

8.根据权利要求1-6任一项所述的一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，其特征在于，

9.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，其特征在于，

10.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括旋转轴和权利要求1-9任一项所述的用于薄膜沉积设备的重载旋转机构，所述刚性旋转套与所述旋转轴固定连接。

技术总结
本技术属于薄膜沉积设备领域，公开了一种用于薄膜沉积设备的重载旋转机构及薄膜沉积设备，重载旋转机构包括刚性架和载盘，刚性架包括刚性旋转套和刚性框架，刚性旋转套用于与旋转轴固定连接，刚性框架呈镂空状且中部与刚性旋转套固定连接；载盘固定设置于刚性框架远离旋转轴的一侧且不与旋转轴接触，载盘的导热性高于刚性架的导热性，载盘的刚性小于刚性架的刚性。本技术通过刚性架与载盘的巧妙结合，刚性较弱的载盘得到刚性架的支撑，支撑面积有所加大，增加了载盘承受重载工件的安全性，且载盘仍可采用原有的导热性能较好的材料，刚性架中的刚性框架为缕空结构，有较大的空隙区域以利于热传导，进而利于镀膜工件工艺温度要求的实现。

技术研发人员：孙仁君,秦金鹏,刘锋,奚明,黄新,苏青峰,张大永
受保护的技术使用者：理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司
技术研发日：20240227
技术公布日：2024/9/23