一种硅片涂敷辊轴及硅片涂敷设备的制作方法

本申请涉及太阳能电池生产，尤其涉及一种涂敷辊轴及涂敷设备。

背景技术：

1、hjt(hereto-junction with intrinsic thin-layer)电池即异质结构电池，其是太阳能电池的一种。hjt电池硅片质量要求较高，硅片内金属杂质含量越高，对hjt电池效率的影响越大。所以，在hjt电池生产时，会先对其使用的硅片进行“吸杂”处理。

2、目前，对硅片的“吸杂”处理，一般是使涂有磷浆的辊轴与硅片接触，通过高温让硅片体内金属杂质发生扩散，由于杂质固溶度梯度或固溶度区域的突变，高固溶度区域可以作为低固溶度区域的沉积位置，从而金属杂质向硅片表面扩散迁移，后续通过粗抛去除硅片表面金属杂质，完成“吸杂”处理。但是，现有技术中用于对硅片涂敷磷浆的辊轴，对磷浆的利用率低，导致磷浆消耗量大，影响太阳能电池的生产成本，且现有的涂敷装置对硅片上的磷浆涂敷不均匀。

技术实现思路

1、本申请提供一种硅片涂敷辊轴及硅片涂敷设备，以解决上述至少一个技术问题。

2、为解决上述问题，本申请提供一种硅片涂敷辊轴，所述硅片涂敷辊轴包括：

3、转轴；

4、若干段涂敷辊，沿所述转轴的中心轴线方向等间距间隔设置。

5、在一些实施例中，所述涂敷辊的材质选自聚偏二氟乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、聚氨酯、聚烯烃中的一种。

6、在一些实施例中，在沿所述转轴的中心轴线方向上，所述涂敷辊的尺寸与待涂敷硅片的尺寸差值的绝对值定义为d，d的取值范围为：d≤10cm。

7、在一些实施例中，相邻两段所述涂敷辊之间的间距d的取值范围为：

8、d≥10mm。

9、在一些实施例中，所述涂敷辊的表面分布有若干吸附沟槽，所述吸附沟槽用于吸附所述磷浆。

10、本申请还提供一种硅片涂敷设备，所述硅片涂敷设备包括：

11、机架；

12、若干任一如上所述的硅片涂敷辊轴，转动设置于所述机架，若干所述硅片涂敷辊轴中包括一个第一涂敷辊轴和若干第二涂敷辊轴，若干所述第二涂敷辊轴沿所述硅片的输送方向排列设置，所述第一涂敷辊轴位于所述第二涂敷辊轴的上方，且与所述第二涂敷辊轴之间形成涂敷间隙，所述涂敷间隙用于使所述硅片通过。

13、在一些实施例中，所述硅片涂敷设备还包括：

14、匀料辊，转动设置于所述机架，且位于所述第一涂敷辊轴的上方，所述匀料辊用于将磷浆输送至所述第一涂敷辊轴上。

15、在一些实施例中，所述硅片涂敷设备还包括：

16、滴定组件，用于使待涂敷物料滴于所述匀料辊上，所述滴定组件包括滴定喷头，所述滴定喷头沿所述匀料辊的中心轴线方向可移动设置。

17、在一些实施例中，所述滴定组件还包括磷浆箱，所述磷浆箱的一侧设置有滑轨、与所述滑轨配合的滑块、第一带轮、第二带轮和设置于第一带轮和第二带轮之间的传送带，所述滴定喷头设置于所述滑块，所述滑块设置于所述传送带。

18、在一些实施例中，形成涂敷间隙的所述第二涂敷辊轴和所述第一涂敷辊轴的转动方向相反，所述第一涂敷辊轴和所述匀料辊的转动方向相反。

19、本申请实施方式的有益效果是：本申请提供的硅片涂敷辊轴包括转轴和若干段涂敷辊，通过使若干段涂敷辊沿转轴的中心轴线方向等间距间隔设置，当其应用于硅片涂敷设备中对硅片进行磷浆涂敷，可以使硅片涂敷辊轴中的每一段涂敷辊对应一道硅片的涂敷输送轨道。由于相邻涂敷输送轨道上的硅片一般均具有一定的间距，通过使硅片涂敷辊轴中的每一段涂敷辊对应一道硅片的涂敷输送轨道可以避免涂敷辊上的磷浆滴落相邻涂敷输送轨道上的硅片之间，从而提高磷浆利用率，减少磷浆消耗，降低太阳能电池的生产成本。

20、且当涂敷辊的表面分布有若干吸附沟槽，可以提高涂敷辊对磷浆的吸附能力，进一步提高涂敷辊对磷浆利用率。

21、此外，本申请还提供一种应用有上述硅片涂敷辊轴的硅片涂敷设备，当硅片涂敷设备的滴定喷头可移动设置于硅片涂敷设备的机架，可以使磷浆均匀分布于涂敷辊，提高对硅片上磷浆涂敷的均匀性。

技术特征：

1.一种硅片涂敷辊轴，其特征在于，所述硅片涂敷辊轴包括：

2.如权利要求1所述的硅片涂敷辊轴，其特征在于，所述涂敷辊的材质选自聚偏二氟乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、聚氨酯、聚烯烃中的一种。

3.如权利要求1所述的硅片涂敷辊轴，其特征在于，在沿所述转轴的中心轴线方向上，所述涂敷辊的尺寸与待涂敷硅片的尺寸差值的绝对值定义为d，d的取值范围为：d≤10cm。

4.如权利要求1所述的硅片涂敷辊轴，其特征在于，相邻两段所述涂敷辊之间的间距d的取值范围为：d≥10mm。

5.如权利要求1所述的硅片涂敷辊轴，其特征在于，所述涂敷辊的表面分布有若干吸附沟槽，所述吸附沟槽用于吸附磷浆。

6.一种硅片涂敷设备，其特征在于，包括：

7.如权利要求6所述的硅片涂敷设备，其特征在于，所述硅片涂敷设备还包括：

8.如权利要求7所述的硅片涂敷设备，其特征在于，所述硅片涂敷设备还包括：

9.如权利要求8所述的硅片涂敷设备，其特征在于，所述滴定组件还包括磷浆箱，所述磷浆箱的一侧设置有滑轨、与所述滑轨配合的滑块、第一带轮、第二带轮和设置于第一带轮和第二带轮之间的传送带，所述滴定喷头设置于所述滑块，所述滑块设置于所述传送带。

10.如权利要求7所述的硅片涂敷设备，其特征在于，形成所述涂敷间隙的所述第二涂敷辊轴和所述第一涂敷辊轴的转动方向相反，所述第一涂敷辊轴和所述匀料辊的转动方向相反。

技术总结
本申请涉及太阳能电池生产技术领域，尤其涉及一种硅片涂敷辊轴及硅片涂敷设备。其中，硅片涂敷辊轴包括转轴和若干段涂敷辊，若干段涂敷辊沿转轴的中心轴线方向等间距间隔设置。本申请提供的硅片涂敷辊轴，当其应用于硅片涂敷设备中对硅片进行涂敷，可以使涂敷辊轴中的每一段涂敷辊对应一道硅片的涂敷输送轨道，由于相邻涂敷输送轨道上的硅片一般均具有一定的间距，本申请通过在转轴上设置若干段涂敷辊，这样可以避免涂敷辊上的磷浆滴落相邻涂敷输送轨道上的硅片之间，从而提高磷浆利用率，减少磷浆消耗，降低太阳能电池的生产成本。

技术研发人员：周翔,任明冲,叶方龙,于永峰,程利婷
受保护的技术使用者：东方日升（江苏）新能源有限公司
技术研发日：20230925
技术公布日：2024/9/23