玻璃制品的制作方法、玻璃制品及电子设备与流程

本申请涉及玻璃加工领域，更具体而言，涉及一种玻璃制品的制作方法、玻璃制品及电子设备。

背景技术：

1、目前，在玻璃表面制作纹理图案通常是采用刻蚀工艺实现，具体地，先将形成有纹理图案转的掩膜版覆盖于涂布有光刻胶的玻璃表面进行黄光曝光显影，然后再刻蚀玻璃表面并去除光刻胶，最终得到想要的纹理图案的玻璃制品。然而，刻蚀工艺需要使用掩膜版及曝光显影材料，导致纹理图案的形成成本较高。

技术实现思路

1、本申请实施方式提供一种玻璃制品的制作方法、玻璃制品及电子设备，至少用于解决在玻璃表面制作纹理图案成本较高的问题。

2、本申请实施方式的玻璃制品的制作方法包括：提供一种玻璃基体，所述玻璃基体中包含有多种组分的材料；在所述玻璃基体上转印出初始纹理，以得到中间产品；以及对所述中间产品进行刻蚀处理，以在所述中间产品的表面形成纹理图案。

3、本申请实施方式的玻璃制品采用上述实施方式所述的制作方法制作，所述玻璃制品的表面形成有所述纹理图案。所述玻璃制品的制作方法包括：提供一种玻璃基体，所述玻璃基体中包含有多种组分的材料；提供一种转印模具，所述转印模具上形成有模具纹理；用所述转印模具在所述玻璃基体上转印出初始纹理，以得到中间产品；以及利用刻蚀设备对所述中间产品进行刻蚀处理，以在所述中间产品的表面形成纹理图案。

4、本申请实施方式的玻璃制品的表面形成有所述纹理图案。基于所述玻璃制品的总重量，按质量百分比计，所述玻璃制品包括：氧化锂2％-3％、氧化钠9％-10％、氧化钾0.01％-1％、二氧化硅50％-60％、氧化铝20％-30％、氧化铷0.005％-0.015％、氧化铁0.01％-0.1％、氧化镓0.005％-0.015％、氧化钙0.01％-0.1％、二氧化锆0.005％-0.015％、氧化锌1％-2％、一氧化锰0.005％-0.015％、五氧化二磷5％-6％、氧化硼0.1％-0.5％以及氧化锡0.01％-0.1％。

5、本申请实施方式的电子设备包括本体及玻璃制品，所述玻璃制品与所述本体结合。所述玻璃制品采用上述实施方式所述的方法制作，所述玻璃制品的表面形成有所述纹理图案。所述玻璃制品的制作方法包括：提供一种玻璃基体，所述玻璃基体中包含有多种组分的材料；提供一种转印模具，所述转印模具上形成有模具纹理；用所述转印模具在所述玻璃基体上转印出初始纹理，以得到中间产品；以及利用刻蚀设备对所述中间产品进行刻蚀处理，以在所述中间产品的表面形成纹理图案。

6、本申请实施方式的电子设备包括本体及玻璃制品，所述玻璃制品与所述本体结合。所述玻璃制品的表面形成有所述纹理图案。基于所述玻璃制品的总重量，按质量百分比计，所述玻璃制品包括：氧化锂2％-3％、氧化钠9％-10％、氧化钾0.01％-1％、二氧化硅50％-60％、氧化铝20％-30％、氧化铷0.005％-0.015％、氧化铁0.01％-0.1％、氧化镓0.005％-0.015％、氧化钙0.01％-0.1％、二氧化锆0.005％-0.015％、氧化锌1％-2％、一氧化锰0.005％-0.015％、五氧化二磷5％-6％、氧化硼0.1％-0.5％以及氧化锡0.01％-0.1％。

7、相较于传统使用曝光显影等传统刻蚀工艺形成纹理而言，本申请的玻璃制品的制作方法及玻璃制品采用转印模具在玻璃基体的表面制作纹理图案，降低了工艺的复杂性，同时无需在每次刻蚀时使用曝光显影的材料，降低了在玻璃表面刻蚀纹理图案的成本。

8、本申请的实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实施方式的实践了解到。

技术特征：

1.一种玻璃制品的制作方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述提供一种玻璃基体，包括：

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述玻璃基体包括玻璃基材及涂布于所述玻璃基材表面的光刻胶，基于所述玻璃基材的总重量，按质量百分比计，所述玻璃基材包括：氧化锂2％-3％、氧化钠9％-10％、氧化钾0.01％-1％、二氧化硅50％-60％、氧化铝20％-30％、氧化铷0.005％-0.015％、氧化铁0.01％-0.1％、氧化镓0.005％-0.015％、氧化钙0.01％-0.1％、二氧化锆0.005％-0.015％、氧化锌1％-2％、一氧化锰0.005％-0.015％、五氧化二磷5％-6％、氧化硼0.1％-0.5％及氧化锡0.01％-0.1％。

4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，基于所述光刻胶的总重量，按质量百分比计，所述光刻胶包括：感光高分子材料50％-55％、引发剂1％-5％、溶剂41％-48％及助剂0.1％-0.5％。

5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述感光高分子材料包括丙烯酸叔丁酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、甲基丙烯酸柏木醇酯及硅氧烷改性丙烯酸树脂；所述引发剂包括光引发剂oxe-01及偶氮二异丁腈；所述溶剂包括丙二醇甲醚醋酸酯及二乙二醇甲乙醚；所述助剂包括流平剂及硅烷偶联剂。

6.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述在所述玻璃基体上转印出初始纹理，以得到中间产品，包括：

7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述对所述中间产品进行刻蚀处理，以在所述中间产品的表面形成纹理图案，包括：

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述刻蚀设备激发的所述刻蚀气体用于刻蚀所述中间产品的表面的所述初始纹理所在的区域，以在所述初始纹理处形成刻蚀纹理；或

9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述刻蚀气体包括三氯化硼、全氟丁二烯及氧气，其中，三氯化硼：全氟丁二烯：氧气的体积比为10:3:1。

10.一种采用权利要求1-9任意一项所述的制作方法制作成的玻璃制品，其特征在于，所述玻璃制品的表面形成有所述纹理图案。

11.一种玻璃制品，其特征在于，所述玻璃制品的表面形成有纹理图案，基于所述玻璃制品的总重量，按质量百分比计，所述玻璃制品包括：氧化锂2％-3％、氧化钠9％-10％、氧化钾0.01％-1％、二氧化硅50％-60％、氧化铝20％-30％、氧化铷0.005％-0.015％、氧化铁0.01％-0.1％、氧化镓0.005％-0.015％、氧化钙0.01％-0.1％、二氧化锆0.005％-0.015％、氧化锌1％-2％、一氧化锰0.005％-0.015％、五氧化二磷5％-6％、氧化硼0.1％-0.5％及氧化锡0.01％-0.1％。

12.根据权利要求11所述的玻璃制品，其特征在于，所述纹理图案包括多个刻蚀纹理，每个所述刻蚀纹理的纵截面的外轮廓形状均为半圆形，多个所述刻蚀纹理之间相互抵触，所述刻蚀纹理的深度范围为[4μm，12μm]，所述刻蚀纹理的宽度范围为[6μm，80μm]，所述刻蚀纹理的纵截面的外轮廓的曲率半径范围为[3μm，40μm]。

13.根据权利要求11所述的玻璃制品，其特征在于，所述纹理图案包括多个刻蚀纹理，每个所述刻蚀纹理的纵截面的外轮廓形状均为三角形，所述刻蚀纹理包括相交的第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁与所述玻璃制品的表面形成的夹角大小和所述第二侧壁与所述玻璃制品的表面形成的夹角大小不同，多个所述刻蚀纹理之间相互抵触，所述刻蚀纹理的深度范围为[2μm，10μm]，所述第一侧壁与所述玻璃制品的表面形成的夹角大小范围为[45°，90°]，所述第二侧壁与所述玻璃制品的表面形成的夹角大小范围为[10°，60°]。

14.根据权利要求11所述的玻璃制品，其特征在于，所述纹理图案包括多个刻蚀纹理，每个所述刻蚀纹理的纵截面的外轮廓形状均为三角形，所述刻蚀纹理包括相交的第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁与所述玻璃制品的表面形成的夹角大小和所述第二侧壁与所述玻璃制品的表面形成的夹角大小相同，多个所述刻蚀纹理之间相互抵触，所述刻蚀纹理的深度范围为[3μm，15μm]，所述第一侧壁与所述玻璃制品的表面形成的夹角大小和所述第二侧壁与所述玻璃制品的表面形成的夹角大小范围为[10°，60°]。

15.根据权利要求11所述的玻璃制品，其特征在于，所述纹理图案包括多个刻蚀纹理，每个所述刻蚀纹理的纵截面的外轮廓形状均为梯形，所述刻蚀纹理的深度范围为[0.1μm，1μm]，所述刻蚀纹理的纵截面的上表面的宽度范围为[0.3μm，0.8μm]，所述刻蚀纹理的纵截面的下表面的宽度范围为[0.3μm，0.8μm]，多个所述刻蚀纹理之间具有间隙，多个所述刻蚀纹理之间的间隙的宽度范围为[0.3μm，0.8μm]。

16.一种电子设备，其特征在于，包括：

技术总结
本申请公开了一种玻璃制品的制作方法、玻璃制品及电子设备。玻璃制品的制作方法包括：提供一种玻璃基体，玻璃基体中包含有多种组分的材料；在玻璃基体上转印出初始纹理，以得到中间产品；以及对中间产品进行刻蚀处理，以在中间产品的表面形成纹理图案。由于转印模具的制作成本较低，因此，相较于传统使用曝光显影等传统刻蚀工艺形成纹理而言，本申请采用转印模具在玻璃基体的表面制作纹理图案，降低了工艺的复杂性，同时无需在每次刻蚀时使用曝光显影的材料，降低了在玻璃表面刻蚀纹理图案的成本。

技术研发人员：吴中正,陈松
受保护的技术使用者：OPPO广东移动通信有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/9/23