本发明涉及一种涂布装置及感光体的制造方法。
背景技术:
1、在下述专利文献1中公开有一种浸渍涂布装置,其为电子照相感光体的浸渍涂布装置,其具有:浸渍涂布槽,保持用于形成电子照相感光体的涂膜的涂布液,并且浸渍圆筒状基体;及送液装置,将涂布液供给到该浸渍涂布槽,所述浸渍涂布装置拉上浸渍于所述浸渍涂布槽中的圆筒状基体并向其周面形成电子照相感光体的涂膜,其中,在所述浸渍涂布槽的上部空间设置有溶剂蒸汽的供给装置。
2、在下述专利文献2中公开有一种电子照相感光体的制造方法,其通过在圆筒状基体表面层叠n层感光体材料层来制造电子照相感光体,其中,在将第n-1层涂布液的粘度设为大于第n-2层涂布液及第n层涂布液中的任一粘度的条件下,第n-2层及第n-1层使用浸渍涂布装置通过浸渍涂布来形成,第n层通过喷涂来形成,所述浸渍涂布装置至少配备有:浸渍涂布槽,至少在外周壁上部具有溶剂蒸汽泄漏围屏;及伸缩性罩,包围圆筒状基体的侧方。
3、专利文献1:日本特开2000-305293号公报
4、专利文献2:日本特开2003-149836号公报
技术实现思路
1、本发明的目的在于得到与直至基材的轴向上的上部的规定的范围通过从涂布液保持部的液面起规定的区域为止,区域的涂布液的溶剂蒸汽浓度小于规定的值的情况相比,能够抑制基材的涂布层的局部膜厚不均匀的涂布装置及感光体的制造方法。
2、第1方式所涉及的涂布装置具有:涂布液保持部,具备上部开口部和下部开口部,并且保持涂布液,所述涂布液保持部通过使筒状的基材贯穿于所述涂布液保持部中的所述上部开口部和所述下部开口部并使所述基材向上下方向上侧相对移动来将所述涂布液涂布于所述基材的外周面;容器,包围所述涂布液保持部的周围,且在上部具备供使所述涂布液保持部贯穿的所述基材插入的开口;及蒸汽浓度保持部,直至所述基材的轴向上的上部的规定的范围通过从所述涂布液保持部的液面起规定的区域为止,将所述区域的所述涂布液中所包含的溶剂的溶剂蒸汽浓度保持为规定的值以上。
3、第2方式所涉及的涂布装置在第1方式所述的涂布装置中,所述涂布液为用于在所述基材的外周面形成保护层的涂布液,直至所述基材的轴向上的上部的规定的范围通过所述区域为止,所述蒸汽浓度保持部将所述区域的所述溶剂蒸汽浓度保持为5000ppm以上。
4、第3方式所涉及的涂布装置在第1方式或第2方式所述的涂布装置中,使用所述溶剂的沸点为70℃以上且110℃以下的所述涂布液。
5、第4方式所涉及的涂布装置在第2方式或第3方式所述的涂布装置中,在作为涂布所述涂布液的前阶段使所述基材贯穿于所述涂布液保持部之前,所述蒸汽浓度保持部将所述容器内部的所述溶剂蒸汽浓度保持为10000ppm以上。
6、第5方式所涉及的涂布装置在第1方式至第4方式中任一方式所述的涂布装置中,所述蒸汽浓度保持部具有:涂布液供给部,将所述涂布液供给到所述涂布液保持部;涂布液接受部,设置于所述容器,并且接受从所述涂布液保持部流下的所述涂布液;密闭单元,密闭所述容器的除所述开口以外的部分;及解除单元,解除所述密闭。
7、第6方式所涉及的涂布装置在第5方式所述的涂布装置中,所述解除单元具备抽吸部,所述抽吸部连接于所述容器,并且抽吸所述容器内部的气体。
8、第7方式所涉及的涂布装置在第6方式所述的涂布装置中,所述抽吸部具备:通风管,在所述涂布液保持部内部的所述涂布液的液面的高度以下的位置处连接于所述容器;及气体抽吸机,设置于所述通风管。
9、第8方式所涉及的涂布装置在第7方式所述的涂布装置中,所述容器为圆筒状,所述通风管沿着所述容器的周向以相同的间隔连接于3处以上的位置。
10、第9方式所涉及的涂布装置在第6方式至第8方式中任一方式所述的涂布装置中,直至所述基材的轴向上的上部的规定的范围通过所述区域为止,所述蒸汽浓度保持部阻断基于所述抽吸部的所述容器内部的气体的抽吸。
11、第10方式所涉及的涂布装置在第9方式所述的涂布装置中,在所述基材的轴向上的上部的规定的范围通过所述区域之后,所述蒸汽浓度保持部利用所述抽吸部抽吸所述容器内部的气体。
12、第11方式所涉及的涂布装置在第6方式至第8方式中任一方式所述的涂布装置中,所述蒸汽浓度保持部随着所述基材相对于所述涂布液保持部开始向上下方向上侧移动而利用所述抽吸部抽吸所述容器内部的气体。
13、第12方式所涉及的涂布装置在第1方式至第11方式中任一方式所述的涂布装置中,所述基材为圆筒状,所述涂布装置具备从内侧保持所述基材的轴向上的上部的保持夹具,在将所述基材的内径设为r、将所述基材的长度设为l、将所述基材内部的体积设为v、将所述容器的所述开口的内径设为r、将所述保持夹具中向所述基材的插入部的体积设为vc、将从所述涂布液保持部的液面至所述容器的所述开口的缘部上表面为止的高度设为h1、将距所述涂布液保持部的液面的高度为40mm的位置与所述高度h1之差设为h2、将比所述容器的所述开口更靠上侧且距所述涂布液保持部的液面的高度为40mm为止的所述区域的体积设为s时,所述蒸汽浓度保持部为如下单元:在使上端密闭的所述基材从上向下移动而固定于所述涂布液保持部时,使所述容器内的所述涂布液的溶剂蒸汽移动到包含所述容器的所述开口的上侧的所述区域的范围,将从所述固定至所述涂布液的涂布开始为止的保持时间设为规定的时间以上,所述涂布装置构成为满足下述数式
14、v-vc>s
15、v=(r/2)2×π×l
16、s=(r/2)2×π×h2
17、h2=40-h1。
18、第13方式所涉及的涂布装置在第1方式至第12方式中任一方式所述的涂布装置中,所述基材的轴向上的上部的规定的范围为从所述基材的上端起20mm为止的范围。
19、第14方式所涉及的感光体的制造方法为使用第1方式至第13方式中任一方式所述的涂布装置将涂布液涂布于圆筒状的基材的外周面来制造感光体的感光体的制造方法,其包括如下工序:通过使所述基材贯穿于所述涂布液保持部并使所述基材相对于所述涂布液保持部向上下方向上侧相对移动来将所述涂布液涂布于所述基材,在所述工序中,在直至所述基材中的轴向上部的规定的范围通过从所述涂布液保持部的液面起规定的区域为止将所述区域中的所述涂布液中所包含的溶剂的溶剂蒸汽浓度保持为规定的值以上的状态下,将所述涂布液涂布于所述基材的外周面。
20、发明效果
21、根据第1方式所涉及的涂布装置,与直至基材的轴向上的上部的规定的范围通过从涂布液保持部的液面起规定的区域为止,区域的涂布液的溶剂蒸汽浓度小于规定的值的情况相比,能够抑制基材的涂布层的局部膜厚不均匀。
22、根据第2方式所涉及的涂布装置,与直至基材的轴向上的上部的规定的范围通过从涂布液保持部的液面起规定的区域为止,区域的溶剂蒸汽浓度小于5000ppm的情况相比,能够抑制基材的保护层的局部膜厚不均匀。
23、根据第3方式所涉及的涂布装置,与使用溶剂的沸点低于70℃或溶剂的沸点高于110℃的涂布液的情况相比,直至基材的轴向上的上部的规定的范围通过区域为止,能够将区域的溶剂蒸汽浓度调整为5000ppm以上。
24、根据第4方式所涉及的涂布装置,与使基材贯穿于涂布液保持部之前的容器内部的溶剂蒸汽浓度小于10000ppm的情况相比,直至基材的轴向上的上部的规定的范围通过区域为止,能够将区域的溶剂蒸汽浓度保持为5000ppm以上。
25、根据第5方式所涉及的涂布装置,与不密闭容器的除开口以外的部分的情况相比,容易调整区域的溶剂蒸汽浓度。
26、根据第6方式所涉及的涂布装置,与不抽吸容器内部的气体的情况相比,容易调整区域的溶剂蒸汽浓度。
27、根据第7方式所涉及的涂布装置,与在比涂布液保持部内部的涂布液的液面的高度高的位置处通风管连接于容器的情况相比,容易控制容器内部的气体的抽吸。
28、根据第8方式所涉及的涂布装置,与通风管在容器的周向上的两处以下的位置处连接的情况相比,容易调整区域的溶剂蒸汽浓度。
29、根据第9方式所涉及的涂布装置,与基材的轴向上的上部的规定的范围通过区域时利用抽吸部抽吸容器内部的气体的情况相比,容易调整区域的溶剂蒸汽浓度。
30、根据第10方式所涉及的涂布装置,与基材的轴向上的上部的规定的范围通过区域之后不抽吸容器内部的气体的情况相比,能够抑制在基材的轴向的下部侧因涂布液的流下而产生膜厚不均匀。
31、根据第11方式所涉及的涂布装置,与基材的轴向上的上部的规定的范围通过区域之后抽吸容器内部的气体的情况相比,容易进行利用抽吸部抽吸气体的控制。
32、根据第12方式所涉及的涂布装置,在满足上述的数式的结构中,能够抑制基材的涂布层的局部膜厚不均匀。
33、根据第13方式所涉及的涂布装置,与区域的溶剂蒸汽浓度小于规定的值的情况相比,能够在从基材的轴向的上端起20mm为止的范围中抑制涂布层的局部膜厚不均匀。
34、根据第14方式所涉及的感光体的制造方法,与直至基材的轴向上的上部的规定的范围通过从涂布液保持部的液面起规定的区域为止,区域的涂布液的溶剂蒸汽浓度小于规定的值的情况相比,能够抑制基材的涂布层的局部膜厚不均匀。
1.一种涂布装置,其具有:
2.根据权利要求1所述的涂布装置,其中,
3.根据权利要求1或2所述的涂布装置,其使用所述溶剂的沸点为70℃以上且110℃以下的所述涂布液。
4.根据权利要求2或3所述的涂布装置,其中,
5.根据权利要求1至4中任一项所述的涂布装置,其中,
6.根据权利要求5所述的涂布装置,其中,
7.根据权利要求6所述的涂布装置,其中,
8.根据权利要求7所述的涂布装置,其中,
9.根据权利要求6至8中任一项所述的涂布装置,其中,
10.根据权利要求9所述的涂布装置,其中,
11.根据权利要求6至8中任一项所述的涂布装置,其中,
12.根据权利要求1至11中任一项所述的涂布装置,其中,
13.根据权利要求1至12中任一项所述的涂布装置,其中,
14.一种感光体的制造方法,其为使用权利要求1至13中任一项所述的涂布装置将涂布液涂布于圆筒状的基材的外周面来制造感光体的感光体的制造方法,其包括如下工序: