光学扫描装置和成像设备的制作方法

本发明涉及一种光学扫描装置，其安装在诸如复印机和激光束打印机的成像设备上，以及涉及一种其上安装有光学扫描装置的成像设备。

背景技术：

1、传统上，作为用于应用电子照相技术的单色成像设备的光学扫描装置，存在一些光学扫描装置，其包括激光光通量屏蔽构件，该激光光通量屏蔽构件防止激光光通量泄漏到光学扫描装置的外部。例如，日本特开专利申请(jp-a)hei 11-160641中公开的光学扫描装置被配置成使得保持在第一位置的屏蔽构件围绕其旋转轴旋转预定量并移动到第二位置。当屏蔽构件处于第一位置时，其屏蔽激光光通量的光路，并且当其处于第二位置时，其打开(不屏蔽)激光光通量的光路。

2、然而，在传统示例中的屏蔽构件的配置应用于彩色成像设备的光学扫描装置的情况下，打开激光光通量的光路所需的屏蔽构件的旋转角度和可移动面积增加，并且存在容纳屏蔽构件的光学扫描装置尺寸变大的问题。

技术实现思路

1、针对上述问题，本发明的目的是提供一种光学扫描装置，其通过使屏蔽激光光通量的屏蔽构件小型化并使屏蔽构件的可移动面积最小化来实现小型化。

2、根据本发明的一个方面，提供了一种光学扫描装置，其包括：第一光源，所述第一光源配置成发射第一光通量；第二光源，所述第二光源配置成发射第二光通量；旋转多面镜，所述旋转多面镜配置成反射和偏转第一光通量和第二光通量，当在旋转多面镜的旋转轴的轴向方向上观察时，旋转多面镜在与反射第一光通量的方向相反的方向上反射第二光通量；第一透镜，由旋转多面镜偏转的第一光通量穿过该第一透镜；第二透镜，由旋转多面镜偏转的第二光通量穿过该第二透镜，相对于在旋转多面镜的旋转轴的轴向方向上观察，第二透镜设置在与设置作为旋转多面镜的边界的第一透镜的一侧相反的一侧上；以及屏蔽构件，所述屏蔽构件包括屏蔽壁，该屏蔽壁配置成屏蔽从第一光源朝向旋转多面镜的第一光路和从第二光源朝向旋转多面镜的第二光路，屏蔽构件能够绕其旋转轴旋转，并在第一光路和第二光路被屏蔽的屏蔽位置和通过旋转打开第一光路和第二光路的缩回位置之间移动，其中在旋转多面镜的旋转轴的轴向方向上观察时，屏蔽构件的旋转轴定位在第一光路和第二光路之间，并且屏蔽构件的旋转轴的轴线在与第一透镜的光轴交叉的方向上延伸。

3、参考附图，从以下对示例性实施例的描述中，本发明的其他特征将变得显而易见。

技术特征：

1.一种光学扫描装置，包括：

2.根据权利要求1所述的光学扫描装置，其中当沿所述旋转多面镜的旋转轴的轴向方向观察时，所述屏蔽构件设置成使得所述屏蔽构件的旋转轴沿着由所述第一光路和所述第二光路形成的角的平分线排列。

3.根据权利要求1所述的光学扫描装置，所述光学扫描装置还包括第一光学构件，所述第一光学构件包括用于将光通量转换为会聚光的透镜和用于限制光通量的宽度的孔径光阑，所述第一光学构件分别设置在所述第一光路和所述第二光路内，

4.根据权利要求1所述的光学扫描装置，其中所述屏蔽构件的旋转轴相对于竖直方向设置在所述旋转多面镜的下方。

5.根据权利要求1所述的光学扫描装置，所述光学扫描装置还包括外壳，所述外壳配置成容纳所述旋转多面镜、所述第一透镜和所述第二透镜，

6.根据权利要求1所述的光学扫描装置，其中当沿所述屏蔽构件的旋转轴的轴向方向观察时，所述屏蔽壁是v形的，并且

7.根据权利要求1所述的光学扫描装置，其中当所述屏蔽构件处于屏蔽位置时，从所述第一光通量与所述屏蔽壁相交的位置到所述屏蔽构件的旋转轴的距离和从所述第二光通量与所述屏蔽壁相交的位置到所述屏蔽构件的旋转轴的距离是相同的距离。

8.根据权利要求7所述的光学扫描装置，其中所述第一光路相对于竖直方向穿过所述屏蔽壁的上侧，所述第二光路相对于所述竖直方向穿过所述屏蔽壁的下侧。

9.根据权利要求5所述的光学扫描装置，其中所述外壳包括第一限制壁和第二限制壁，所述第一限制壁和所述第二限制壁配置成限制所述屏蔽构件向所述屏蔽构件的旋转轴的轴向方向的移动。

10.根据权利要求9所述的光学扫描装置，其中通过由所述屏蔽构件的屏蔽壁和所述限制壁夹住所述第一限制壁和所述第二限制壁来限制所述屏蔽构件向所述屏蔽构件的旋转轴的轴向方向的移动。

11.根据权利要求5所述的光学扫描装置，所述光学扫描装置还包括配置成关闭所述外壳的开口的盖，

12.一种成像设备，包括：

13.根据权利要求12所述的成像设备，所述成像设备还包括门，所述门配置成处于打开状态以进入所述成像设备的内部以及在成像期间处于关闭状态，

14.一种成像设备，包括：

15.根据权利要求14所述的成像设备，其中所述限制壁包括凸台部分，

技术总结
一种光学扫描装置，包括：第一和第二光源、反射第一和第二光通量的旋转多面镜以及第一和第二透镜。多面镜在与第一光通量相反的方向上反射所述第二光通量，第二透镜设置在与作为多面镜的边界的第一透镜相对的一侧上。屏蔽构件包括屏蔽分别从第一和第二光源朝向多面镜的第一和第二光路的屏蔽壁。屏蔽构件可绕旋转轴旋转并在屏蔽位置和缩回位置之间移动。当在多面镜的旋转轴线方向上观察时，旋转轴定位在第一和第二光路之间，并且旋转轴的轴线在与第一透镜的光轴交叉的方向上延伸。还公开了一种成像设备。

技术研发人员：片山皓贵,室谷拓
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/9/23