显示面板、显示面板的制备方法以及显示装置与流程

本申请涉及显示，尤其涉及一种显示面板、显示面板的制备方法以及显示装置。

背景技术：

1、随着显示面板技术的发展，以及越来越广泛的应用,消费者对显示面板的更优质体验需求也越来越高。如何降低显示面板在使用过程中的反射率、提高穿透率成为了提升显示体验主要课题之一。

2、常见的降低反射率或增加穿透率的方法为在显示面板的表面采用整面镀膜的方式增加一层或多层降低反射膜，但这种方式只能在某个特定波段(如红色r)有效减少反射或增加穿透率，而在另外一种或两种颜色(g和/或b)波段提升效果有限，从而降低显示面板的整体色域效果。

3、因此如何提升显示面板的整体穿透，降低整体反射率，从而提高显示面板色域是亟待解决的问题。

技术实现思路

1、本申请的目的是提供一种提升整体穿透、提高色域的显示面板、显示面板的制备方法以及显示装置。

2、本申请公开一种显示面板，包括衬底、多个子像素和载体基板，多个所述子像素阵列分布在所述衬底上，所述载体基板设置在所述子像素远离所述衬底的一侧，所述显示面板还包括多个减反膜，多个所述减反膜设置在所述载体基板的出光面的一侧，且与多个所述子像素一一对应设置；其中，多个所述减反膜的厚度不同。

3、可选的，所述减反膜的折射率为1.3～1.5。

4、可选的，所述减反膜为单层结构，多个所述减反膜包括第一减反膜、第二减反膜和第三减反膜，多个所述子像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，所述第一减反膜对应所述第一子像素设置，所述第二减反膜对应所述第二子像素设置，所述第三减反膜对应所述第三子像素设置；

5、其中，所述第一减反膜的厚度为115nm-125nm，所述第二减反膜的厚度为89nm-99nm，所述第三减反膜的厚度为70nm-80nm。

6、可选的，所述第一减反膜、第二减反膜和第三减反膜折射率为1.46，且均采用氧化硅材质制成。

7、可选的，所述减反膜包括第一减反膜、第二减反膜和第三减反膜，所述子像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，所述第一减反膜对应所述第一子像素设置，所述第二减反膜对应所述第二子像素设置，所述第三减反膜对应所述第三子像素设置；所述第一减反膜包括依次堆叠的第一材料层、第一减反层和第二材料层，所述第二减反膜包括依次堆叠的第一材料层、第二减反层和第二材料层，所述第三减反膜包括依次堆叠的第一材料层、第三减反层和第二材料层；其中，所述第一减反膜的厚度为115nm-125nm，所述第二减反膜的厚度为109nm-119nm，所述第三减反膜的厚度为90nm-100nm；所述第一材料层的厚度为8nm-12nm，所述第二材料层的厚度为8nm-12nm。

8、可选的，所述显示面板还包括第四子像素，所述减反膜还包括第四减反膜，所述第四减反膜对应所述第四子像素设置，所述第四减反膜的厚度为285nm-315nm。

9、可选的，所述第四减反膜包括依次堆叠的第一减反层、第二减反层和第三减反层。

10、本申请还公开了一种显示面板的制备方法，用于如上所述的显示面板，包括步骤：

11、制备得到具有像素阵列的显示模组；

12、在显示模组的出光面设置载体基板；

13、在所述载体基板上根据显示模组内的对位结构，对应第一子像素制备第一减反膜，对应第二子像素制备第二减反膜，对应第三子像素制备第三减反膜。

14、可选的，所述在所述载体基板上根据显示模组内的对位结构，对应所述第一子像素制备第一减反膜，对应所述第二子像素制备第二减反膜，对应所述第三子像素制备第三减反膜的步骤中，包括：

15、在所述载体基板上沉积光阻材料，曝光显影形成对应所述第一子像素位置镂空的第一光阻层；

16、在所述第一子像素以及所述第一光阻层的上方涂布第一减反膜材料；

17、剥离所述第一光阻层，得到对应所述第一子像素设置的第一减反膜；

18、在所述载体基板上沉积光阻材料，曝光显影形成对应所述第二子像素位置镂空的第二光阻层；

19、在所述第二子像素以及所述第二光阻层的上方涂布第二减反膜材料；

20、剥离所述第二光阻层，得到对应所述第二子像素设置的第二减反膜；

21、在所述载体基板上沉积光阻材料，曝光显影形成对应所述第三子像素位置镂空的第三光阻层；

22、在所述第三子像素以及所述第三光阻层的上方涂布第三减反膜材料；

23、剥离所述第三光阻层，得到对应所述第三子像素设置的第三减反膜。

24、本申请还公开了一种显示装置，包括如上所述的显示面板。

25、相对于现有技术通过在显示面板的表面采用整面镀膜的方式增加一层或多层降低反射膜的方案来说，本申请的显示面板包括多个减反膜，多个所述减反膜设置在所述载体基板的出光面的一侧，且与多个所述子像素一一对应设置；其中，多个所述减反膜的厚度不同；这样采用对应不同子像素设置减反膜，能够提高对应子像素在对应波段的穿透率，降低了该子像素在其它波段的穿透率，起到降低反射率的作用，从而可以使对应波段的颜色更纯，显示面板色域越高。

技术特征：

1.一种显示面板，包括衬底、多个子像素和载体基板，多个所述子像素阵列分布在所述衬底上，所述载体基板设置在所述子像素远离所述衬底的一侧，其特征在于，所述显示面板还包括多个减反膜，多个所述减反膜设置在所述载体基板的出光面的一侧，且与多个所述子像素一一对应设置；其中

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述减反膜的折射率为1.3～1.5。

3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述减反膜为单层结构，多个所述减反膜包括第一减反膜、第二减反膜和第三减反膜，多个所述子像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，所述第一减反膜对应所述第一子像素设置，所述第二减反膜对应所述第二子像素设置，所述第三减反膜对应所述第三子像素设置；

4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一减反膜、第二减反膜和第三减反膜折射率为1.46，且均采用氧化硅材质制成。

5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述减反膜包括第一减反膜、第二减反膜和第三减反膜，所述子像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，所述第一减反膜对应所述第一子像素设置，所述第二减反膜对应所述第二子像素设置，所述第三减反膜对应所述第三子像素设置；

6.如权利要求3或5所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括第四子像素，所述减反膜还包括第四减反膜，所述第四减反膜对应所述第四子像素设置，所述第四减反膜的厚度为285nm-315nm。

7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第四减反膜包括依次堆叠的第一减反层、第二减反层和第三减反层。

8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，用于如权利要求1-6任意一项所述的显示面板，包括步骤：

9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述载体基板上根据显示模组内的对位结构，对应所述第一子像素制备第一减反膜，对应所述第二子像素制备第二减反膜，对应所述第三子像素制备第三减反膜的步骤中，包括：

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6任意一项所述的显示面板。

技术总结
本申请公开了显示面板、显示面板的制备方法以及显示装置，涉及显示技术领域，显示面板包括衬底、多个子像素和载体基板，多个所述子像素阵列分布在所述衬底上，所述载体基板设置在所述子像素远离所述衬底的一侧，所述显示面板还包括多个减反膜，多个所述减反膜设置在所述载体基板的出光面的一侧，且与多个所述子像素一一对应设置；其中，多个所述减反膜的厚度不同；本申请通过以上设计，提升整体穿透、提高了显示面板的色域。

技术研发人员：张合静,张一川,林春燕,范俊龙,叶利丹
受保护的技术使用者：重庆惠科金渝光电科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/9/23