一种防护设备的制作方法

本技术涉及薄膜沉积领域，进一步地涉及一种防护设备。

背景技术：

1、半导体薄膜沉积设备的侧壁上设有进出料通道，进出料通道前端连通半导体薄膜沉积设备的腔内，进出料通道末端连通腔外并设有阀门，阀门用于关闭和打开进出料通道。安装物料时打开阀门，物料穿过进出料通道到达腔内的旋转台上，物料安装完毕后会使用阀门关闭此进出料通道，但是在薄膜沉积的过程中，腔内的气流会沿进出料通道前端进入进出料通道，导致腔内气流紊乱，薄膜沉积过程气流不均匀，沉积效果不理想。而且薄膜沉积的溅射粒子也通过出料通道前端进入进出料通道并沉积在进出料通道和阀门上，沉积完成后需要定时清理，费时费力，大幅提高成本和增加生产工序。甚至薄膜沉积设备腔内加热装置产生的热量也会通过进出料通道到达阀门，容易损坏阀门等密封件。

技术实现思路

1、针对上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种防护设备，薄膜沉积过程中，遮挡组件的第一部会遮挡在进出料通道前端，既能防止薄膜沉积设备腔内的气流进入进出料通道，确保腔内气流均匀，提高沉积效果；又能防止溅射粒子进入进出料通道，避免溅射粒子在进出料通道内沉积，减少进出料通道和阀门清理频率，降低成本；还能起到隔热作用，提高进出料通道和阀门的使用寿命，防止其高温受损。

2、为了实现上述目的，本实用新型提供一种防护设备，用于遮挡半导体薄膜沉积设备的进出料通道前端,所述进出料通道末端设有阀门，防护设备包括遮挡组件、移动组件以及密封罩，所述遮挡组件具有第一部和第二部，所述第一部适于遮挡所述进出料通道前端，所述半导体薄膜沉积设备侧壁上还设有第一开口，所述第二部适于贯通所述第一开口；所述移动组件连接所述遮挡组件的所述第二部并驱动所述遮挡组件的所述第一部移动，使得所述第一部能够遮挡或远离所述进出料通道，所述移动组件相对位于所述半导体薄膜沉积设备外侧；所述密封罩可伸缩地密封连接所述第一开口和所述移动组件，所述第二部的部分相对位于所述密封罩内。

3、在一些实施方式中，所述第一部为挡板，所述挡板设置在所述半导体薄膜沉积设备内侧且所述挡板与所述半导体薄膜沉积设备内侧壁相配合，使得所述挡板适于遮挡于所述进出料通道前端；

4、所述第二部为滑动杆，所述滑动杆贯通所述第一开口并连接所述挡板和所述移动组件。

5、在一些实施方式中，所述移动组件相对位于所述半导体薄膜沉积设备外侧，所述移动组件包括移动部件、滑块以及滑轨，所述移动部件驱动所述滑块在所述滑轨上滑动，所述滑块连接所述滑动杆，所述密封罩设置在所述第一开口和所述滑块之间。

6、在一些实施方式中，所述移动组件还包括导向块，所述导向块连接所述滑块和所述滑动杆，所述导向块跟随所述滑块滑动，所述密封罩密封连接所述第一开口和所述导向块，使得所述滑动杆位于所述半导体薄膜沉积设备之外的部分始终位于所述密封罩内。

7、在一些实施方式中，所述移动部件为气缸。

8、在一些实施方式中，还包括安装板，所述安装板安装于所述半导体薄膜沉积设备的外侧壁并覆盖所述第一开口，所述安装板在所述第一开口的对应位置处设有第二开口，所述滑动杆穿过所述第一开口和所述第二开口；

9、所述移动组件安装于所述安装板。

10、在一些实施方式中，所述密封罩包括波纹管，所述密封罩的两端可伸缩连接所述安装板和所述遮挡组件。

11、在一些实施方式中，所述安装板与所述半导体薄膜沉积设备侧壁之间还设有密封圈，所述密封圈密封所述安装板与所述半导体薄膜沉积设备之间的连接处。

12、在一些实施方式中，所述移动组件还包括缓冲件，所述缓冲件设置在所述滑轨远离所述遮挡组件的一端。

13、在一些实施方式中，所述半导体薄膜沉积设备为圆腔，所述挡板具有与所述半导体薄膜沉积设备内侧壁相配合的弧度；

14、所述挡板为双层不锈钢材质。

15、与现有技术相比，本实用新型所提供的一种防护设备具有以下有益效果的至少一个：

16、1.薄膜沉积过程中，遮挡组件的第一部会遮挡在进出料通道前端，既能防止薄膜沉积设备腔内的气流进入进出料通道，确保腔内气流均匀，提高沉积效果；又能防止溅射粒子进入进出料通道，避免溅射粒子在进出料通道内沉积，减少进出料通道和阀门清理频率，降低成本；还能起到隔热作用，提高进出料通道和阀门的使用寿命，防止其高温受损。

17、2.滑动杆远离挡板的一端连接有导向块，使得遮挡组件在移动过程中更加平稳，避免遮挡组件受力不稳而导致任意晃动并撞击进出料通道前端。

18、3.移动组件相对位于半导体薄膜沉积设备外侧，减少移动组件受到溅射粒子和高温气体的影响，提高移动组件的使用寿命，降低成本，而且还便于维修检查。

19、4.移动组件通过安装板安装于半导体薄膜沉积设备，加强了移动组件和半导体薄膜沉积设备的连接强度；安装板与半导体薄膜沉积设备侧壁之间还设有密封圈，密封圈密封安装板与半导体薄膜沉积设备之间的连接处。

技术特征：

1.一种防护设备，用于遮挡半导体薄膜沉积设备的进出料通道前端，所述进出料通道末端设有阀门,其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种防护设备，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的一种防护设备，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的一种防护设备，其特征在于，

5.根据权利要求3所述的一种防护设备，其特征在于，

6.根据权利要求2-5任一项所述的一种防护设备，其特征在于，

7.根据权利要求6所述的一种防护设备，其特征在于，

8.根据权利要求6所述的一种防护设备，其特征在于，

9.根据权利要求3所述的一种防护设备，其特征在于，

10.根据权利要求2所述的一种防护设备，其特征在于，

技术总结
本申请涉及薄膜沉积领域，提供一种防护设备，防护设备包括遮挡组件、移动组件以及密封罩，遮挡组件具有第一部和第二部，第一部适于遮挡进出料通道前端，半导体薄膜沉积设备侧壁上还设有第一开口，第二部适于贯通第一开口；移动组件连接第二部并驱动第一部移动，使得第一部能够遮挡或远离进出料通道前端；密封罩可伸缩地密封连接第一开口和移动组件，第二部的部分位于密封罩内。本申请的一种防护设备，薄膜沉积过程中，第一部会遮挡在进出料通道前端，既能防止薄膜沉积设备腔内的气流进入进出料通道，确保腔内气流均匀；又能防止溅射粒子进入进出料通道，避免溅射粒子在进出料通道内沉积；还能起到隔热作用，提高进出料通道和阀门的使用寿命。

技术研发人员：康家乐,陆勇
受保护的技术使用者：理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司
技术研发日：20240228
技术公布日：2024/9/23