一种高光谱检测系统的制作方法

本技术涉及一种高光谱成像的，并且特别涉及一种高光谱检测系统。

背景技术：

1、高光谱成像技术是基于非常多窄波段的影像数据技术，已经广泛应用于地质、农业、海洋、医学、军事以及大气遥感等各个领域。高光谱检测系统时光源发光会产生大量的热量，导致系统内部温度升高，而高光谱检测相机内的分光器件、图像传感器件都温度敏感性的，温度升高将严重影响检测系统的稳定性和准确性，因此提高高光谱系统的散热能力，维持高光谱检测相机的工作温度稳定，至关重要。

技术实现思路

1、为了解决现有技术中高光谱检测系统散热性能差，影响检测稳定性和准确性的技术问题，本实用新型提出了一种高光谱检测系统，以试图维持高光谱检测相机的工作温度稳定问题。

2、本实用新型提出了一种高光谱检测系统，包括检测箱体，检测箱体内部为中空结构，中空结构的上部设置有高光谱检测相机，下部为设置有光源的检测区域，高光谱检测相机与设置有光源的检测区域之间设置有隔热和/或散热层结构。本申请通过高光谱检测相机与检测区域的光源之间设置的隔热和/或散热层结构能够有效隔绝光源产生的热量对高光谱检测相机的影响。

3、优选的，高光谱检测相机与设置有光源的检测区域之间设置有隔热板。通过隔热板的设置可以有效隔离高光谱检测相机与检测区域内部热源，确保高光谱检测相机的工作温度稳定。

4、进一步优选的，隔热板为向检测区域弯曲的曲面结构，隔热板上开设有供高光谱检测相机的镜头通过的检测孔。凭借该设置可以进一步增加隔热面积。

5、进一步优选的，检测区域内的光源上方设置有反光板。凭借该设置可以将光源反射至检测区域内的待测物上。

6、进一步优选的，反光板为穹顶结构。凭借该设置能够进一步将光源的反射聚焦。

7、进一步优选的，高光谱检测相机与设置有光源的检测区域之间设置有散热层结构，散热层结构为隔热板与反光板之间的腔体结构。凭借该设置可以进一步带走光源产生的热量，避免其对高光谱检测相机的影响。

8、进一步优选的，反光板采用导热材料，且散热层结构内的反光板表面还设置有散热片结构。凭借该设置能够将光源的热量快速传导至散热层上。

9、进一步优选的，散热层结构两侧的检测箱体侧壁上设置有第一散热风扇。凭借该设置可以实现散热层的快速散热。

10、进一步优选的，隔热板上部设置有高光谱检测相机的腔体两侧的检测箱体侧壁上设置有第二散热风扇。凭借该设置可以进一步提高高光谱检测相机处的散热性能。

11、进一步优选的，第一散热风扇和第二散热风扇均包括两侧对称设置的进风风扇和出风风扇。凭借该设置可以进一步提高空气流动效率，通过空气交换快速带走热量。

12、本实用新型的高光谱检测系统通过隔热板、反光板的配合在高光谱检测相机与检测区域的光源之间形成隔热/散热层，并通过散热风扇和散热片等散热结构的配合快速带走内部的热量，维持高光谱检测相机的工作温度稳定，提高高光谱检测系统的稳定性和准确性。

技术特征：

1.一种高光谱检测系统，其特征在于，包括检测箱体，所述检测箱体内部为中空结构，所述中空结构的上部设置有高光谱检测相机，下部为设置有光源的检测区域，所述高光谱检测相机与设置有光源的所述检测区域之间设置有隔热和/或散热层结构，所述高光谱检测相机与设置有光源的所述检测区域之间设置有隔热板，所述检测区域内的所述光源上方设置有反光板，所述散热层结构为所述隔热板与反光板之间的腔体结构。

2.根据权利要求1所述的高光谱检测系统，其特征在于，所述隔热板为向所述检测区域弯曲的曲面结构，所述隔热板上开设有供所述高光谱检测相机的镜头通过的检测孔。

3.根据权利要求1所述的高光谱检测系统，其特征在于，所述反光板为穹顶结构。

4.根据权利要求1所述的高光谱检测系统，其特征在于，所述高光谱检测相机与设置有光源的所述检测区域之间设置有散热层结构。

5.根据权利要求1所述的高光谱检测系统，其特征在于，所述反光板采用导热材料，且所述散热层结构内的反光板表面还设置有散热片结构。

6.根据权利要求4所述的高光谱检测系统，其特征在于，所述散热层结构两侧的检测箱体侧壁上设置有第一散热风扇。

7.根据权利要求1所述的高光谱检测系统，其特征在于，所述隔热板上部设置有所述高光谱检测相机的腔体两侧的检测箱体侧壁上设置有第二散热风扇。

8.根据权利要求6所述的高光谱检测系统，其特征在于，所述第一散热风扇包括两侧对称设置的进风风扇和出风风扇。

技术总结
本技术提出了一种高光谱检测系统，包括检测箱体，所述检测箱体内部为中空结构，所述中空结构的上部设置有高光谱检测相机，下部为设置有光源的检测区域，所述高光谱检测相机与设置有光源的所述检测区域之间设置有隔热和/或散热层结构。该高光谱检测系统通过隔热和/或散热层结构的设置可以避免检测区域的光源发出的热量对高光谱检测相机的影响，提高高光谱检测的准确性。

技术研发人员：刘元路,马淑兰,麦江泉
受保护的技术使用者：深圳市海谱纳米光学科技有限公司
技术研发日：20231116
技术公布日：2024/9/23