一种可视差式扫描量热仪的制作方法
本发明专利涉及量热仪，尤其涉及一种可视差式扫描量热仪。
背景技术：
1、量热仪是用来测定样品相对于参比样品发热量变化的一种仪器设备。
2、现有的量热仪一般都是直接测量两样品间相对热量变化，利用加热炉体对样品进行加热，然后通过样品测量坩埚下热电偶产生的热电势进行检测，利用热电势与温度成正比的关系，通过对电路对两个电势差计算，得出对应样品的发热量，该种方式只能得到发热量，但是对于样品在反应过程中所产生的物理外观的变化是没有记录的。不能更好的对样品的物理特性进行分析，存在缺陷。
3、发明专利内容
4、本发明专利的目的是为了解决现有技术中存在的缺陷，现有的量热仪由于需要样品本身发热才可以较好地进行后续的计算与观察，为测量热量变化过程中，提供了另外一个可以进行分析的图像视频，有利于更好的对样品的特性进行分析，因此本专利提供一种可视差式扫描量热仪。
5、为了实现上述目的，本发明专利采用了如下技术方案：一种可视差式扫描量热仪，包括：石英玻璃，所述石英玻璃的内部设有石英支架，所述石英支架的外侧面上缠绕有加热丝，所述石英支架的内侧中间处设有样品温度传感器和参比温度传感器，所述样品温度传感器和参比温度传感器上均安装有样品坩埚，所述样品温度传感器和参比温度传感器上各连接有正极热电偶和负极热电偶，所述正极热电偶和负极热电偶贯穿石英支架设置，所述正极热电偶和负极热电偶远离石英支架的一端均贯穿石英玻璃设置，所述石英玻璃的正下方设有平面光源，所述石英玻璃的正上方设有显微镜。
6、作为一种优选的实施方式，所述石英支架为圆筒形，且所述样品温度传感器和参比温度传感器同处于石英支架的同一直径线上，且所述样品温度传感器和参比温度传感器距离石英支架的圆心间距相同。
7、作为一种优选的实施方式，所述平面光源设置于石英支架的正下方。
8、作为一种优选的实施方式，所述石英玻璃的高度大于石英支架的高度。
9、作为一种优选的实施方式，所述加热丝的覆盖高度等于石英支架的高度。
10、作为一种优选的实施方式，所述样品温度传感器与参比温度传感器之间连接。
11、与现有技术相比，本发明专利的优点和积极效果在于：
12、本发明专利通过在石英玻璃上放置石英支架，并且在石英支架外加装加热丝，使得石英支架内的样品坩埚可以进行加热，并且通过样品温度传感器和参比温度传感器对加热时的样品坩埚内的温度变化进行检测，该设计将样品坩埚内的样品置于同一加热环境下，使得加热环境的参数更加相近，同时配合底部的平面光源与顶部的显微镜，可以对样品坩埚内的样品变化进行细致地观察与记录。
技术实现思路
技术特征：
1.一种可视差式扫描量热仪，其特征在于，包括：石英玻璃(1)，所述石英玻璃(1)的内部设有石英支架(2)，所述石英支架(2)的外侧面上缠绕有加热丝(3)，所述石英支架(2)的内侧中间处设有样品温度传感器(4)和参比温度传感器(5)，所述样品温度传感器(4)和参比温度传感器(5)上均安装有样品坩埚(6)，所述样品温度传感器(4)和参比温度传感器(5)上各连接有正极热电偶(7)和负极热电偶(8)，所述正极热电偶(7)和负极热电偶(8)贯穿石英支架(2)设置，所述正极热电偶(7)和负极热电偶(8)远离石英支架(2)的一端均贯穿石英玻璃(1)设置，所述石英玻璃(1)的正下方设有平面光源(9)，所述石英玻璃(1)的正上方设有显微镜(10)。
2.根据权利要求1所述的一种可视差式扫描量热仪，其特征在于：所述石英支架(2)为圆筒形，且所述样品温度传感器(4)和参比温度传感器(5)同处于石英支架(2)的同一直径线上，且所述样品温度传感器(4)和参比温度传感器(5)距离石英支架(2)的圆心间距相同。
3.根据权利要求2所述的一种可视差式扫描量热仪，其特征在于：所述平面光源(9)设置于石英支架(2)的正下方。
4.根据权利要求1所述的一种可视差式扫描量热仪，其特征在于：所述石英玻璃(1)的高度大于石英支架(2)的高度。
5.根据权利要求1所述的一种可视差式扫描量热仪，其特征在于：所述加热丝(3)的覆盖高度等于石英支架(2)的高度。
6.根据权利要求1所述的一种可视差式扫描量热仪，其特征在于：所述样品温度传感器(4)与参比温度传感器(5)之间连接。
技术总结
本发明专利提供一种可视差式扫描量热仪，涉及量热仪技术领域，包括：石英玻璃，所述石英玻璃的内部设有石英支架，所述石英支架的外侧面上缠绕有加热丝，所述石英支架的内侧中间处设有样品温度传感器和参比温度传感器。本发明专利通过在石英玻璃上放置石英支架，并且在石英支架外加装加热丝，使得石英支架内的样品坩埚可以进行加热，并且通过样品温度传感器和参比温度传感器对加热时的样品坩埚内的温度变化进行检测，该设计将样品坩埚内的样品置于同一加热环境下，使得加热环境的参数更加相近，同时配合底部的平面光源与顶部的显微镜，可以对样品坩埚内的样品变化进行细致地观察与记录。
技术研发人员：孙立鑫
受保护的技术使用者：北京恒久实验设备有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/9/23