基板处理装置及基板处理方法与流程
本发明涉及一种对基板进行曝光处理的前工序的处理并且进行曝光处理的后工序的处理的基板处理装置及基板处理方法。作为处理对象的基板例如包含液晶显示装置用玻璃基板、有机电致发光(electroluminescence，el)显示用玻璃基板、等离子体显示面板(plasma display panel，pdp)用玻璃基板或光掩模用玻璃基板等。
背景技术：
1、以往，已知有一种基板处理装置，其中，所述基板是从具有对收容多个基板的匣盒(cassette)予以载置的载置台以及搬运装置的装置(也称为分度器(indexer)装置)搬入的基板，所述基板处理装置以所述基板为对象，依次进行光致抗蚀剂的涂布膜的形成处理、减压干燥处理、加热干燥处理、向曝光装置的搬入、从曝光装置的搬出、曝光后的光致抗蚀剂膜的显影处理、淋洗处理、及干燥处理等，并将基板搬出至分度器装置(例如，专利文献1、专利文献2等)。
2、在专利文献1、专利文献2所公开的基板处理装置中，为了避免处理时间相对较长的曝光装置中的限速，对基板处理装置连接有两台曝光装置。若设有两台曝光装置，则即使其中一台曝光装置正在处理中，也可利用空闲的另一台曝光装置进行基板的曝光处理，从而可防止曝光前的基板滞留于基板处理装置中。
3、[现有技术文献]
4、[专利文献]
5、[专利文献1]日本专利特开2006-24643号公报
6、[专利文献2]日本专利特开2006-24642号公报
技术实现思路
1、[发明所要解决的问题]
2、且说，在连接两台曝光装置时，根据基板处理装置的用户侧的运用情形，可存在连接进行相同处理的两台曝光装置(搭载相同的掩模)的情况、以及连接进行不同处理的两台曝光装置(搭载不同的掩模)的情况。在连接进行不同处理的两台曝光装置的情况下，大多将基板依序搬运至所述两台曝光装置而进行两次利用不同的掩模的曝光处理。另一方面，在连接进行相同处理的两台曝光装置的情况下，仅向任意一个曝光装置搬运基板而进行一次曝光处理。即，根据两台曝光装置的连接状况，需要改变进行向曝光装置的搬入搬出的接口部的搬运形态，从而形成复杂的搬运序列。
3、另外，在曝光装置中，多数情况下针对一张基板的曝光处理所需的时间并非固定，而是会产生变动。当曝光装置中的处理时间产生变动时，在接口部中有时会发生对朝向曝光装置的未曝光的基板进行搬运的去往路径搬运与对从曝光装置返回的曝光完毕的基板进行搬运的返回路径搬运之间的搬运冲突。当产生此种搬运冲突时，产生处于等待搬运的待机状态的基板，接口部的搬运效率显著降低。
4、本发明是鉴于所述问题而成，其目的在于提供一种可抑制搬运效率的降低的基板处理装置及基板处理方法。
5、[解决问题的技术手段]
6、为了解决所述问题，技术方案1的发明是一种基板处理装置，对基板进行曝光处理的前工序的处理并且进行曝光处理的后工序的处理，所述基板处理装置的特征在于，包括：前处理部，执行所述前工序的处理；后处理部，执行所述后工序的处理；接口部，将所述前处理部及所述后处理部与第一曝光装置及第二曝光装置加以连接，且包括对基板进行搬运的多个搬运机器人及多个模块；以及控制部，对所述多个搬运机器人进行控制，所述控制部以与从所述第一曝光装置或所述第二曝光装置向所述后处理部搬运基板的返回路径搬运相比，优先执行从所述前处理部向所述第一曝光装置或所述第二曝光装置搬运基板的去往路径搬运的方式，对所述多个搬运机器人及所述多个模块进行控制。
7、另外，技术方案2的发明是根据技术方案1的发明的基板处理装置，其特征在于，所述多个搬运机器人包括执行所述去往路径搬运及所述返回路径搬运双方的双向搬运机器人，所述多个模块包括：第一模块，沿着所述去往路径搬运的搬运方向而位于所述双向搬运机器人的上游侧；以及第二模块，沿着所述返回路径搬运的搬运方向而位于所述双向搬运机器人的上游侧，所述控制部以当所述双向搬运机器人在从所述第二模块接收到交付预告信号之后且在从所述第二模块接受基板之前从所述第一模块接收到交付预告信号时，优先执行基板从所述第一模块的搬出的方式，对所述双向搬运机器人进行控制。
8、另外，技术方案3的发明是根据技术方案2的发明的基板处理装置，其特征在于，所述第一模块在比交付请求信号早的设定时间时发送交付预告信号，所述设定时间是所述双向搬运机器人将基板从所述第二模块搬运至下一工序的模块所需的时间与从所述第一模块搬出基板的准备动作所需的时间相加后的值。
9、另外，技术方案4的发明是根据技术方案2的发明的基板处理装置，其特征在于，所述控制部以当优先执行的从所述第一模块向下一工序的模块的基板搬运完成时且已从所述第二模块发送出交付请求信号时，执行基板从所述第二模块的搬出的方式，对所述双向搬运机器人进行控制。
10、另外，技术方案5的发明是根据技术方案1的发明的基板处理装置，其特征在于，所述多个搬运机器人包括沿着所述去往路径搬运的搬运方向为上游侧的上游搬运机器人及沿着所述去往路径搬运的搬运方向为下游侧的下游搬运机器人，所述多个模块包括温度调节模块，所述温度调节模块沿着所述去往路径搬运的搬运方向而位于所述上游搬运机器人与所述下游搬运机器人之间，进行基板的温度调节处理，所述温度调节模块在比温度调节处理的完成早规定时间的时刻之后，并且在所述下游搬运机器人对所述第一曝光装置或所述第二曝光装置开始基板更换的时刻之后，向所述上游搬运机器人发送接受预告信号。
11、另外，技术方案6的发明是根据技术方案1的发明的基板处理装置，其特征在于，所述多个搬运机器人包括执行所述去往路径搬运及所述返回路径搬运双方的双向搬运机器人，所述控制部以将所述双向搬运机器人进行一系列动作的节拍时间二等分后的其中一者设为用于所述去往路径搬运的去往路径搬运时间，将另一者设为用于所述返回路径搬运的返回路径搬运时间的方式，对所述双向搬运机器人进行控制，并且所述去往路径搬运时间及所述返回路径搬运时间分别包含富余时间。
12、另外，技术方案7的发明是根据技术方案6的发明的基板处理装置，其特征在于，所述多个模块包括上游模块，所述上游模块沿着所述去往路径搬运的搬运方向而位于所述双向搬运机器人的上游侧，所述控制部以在批次的起始基板在所述上游模块待机规定时间之后，所述双向搬运机器人从所述上游模块搬出所述起始基板的方式，对所述双向搬运机器人进行控制。
13、另外，技术方案8的发明是根据技术方案1至7中任一发明的基板处理装置，其特征在于，所述前处理部包含对基板涂布抗蚀剂的涂布部，所述后处理部包含对曝光处理后的基板进行显影处理的显影部。
14、另外，技术方案9的发明是一种基板处理方法，对基板进行曝光处理的前工序的处理并且进行曝光处理的后工序的处理，所述基板处理方法的特征在于，包括搬运工序，所述搬运工序利用将执行所述前工序的处理的前处理部及执行所述后工序的处理的后处理部与第一曝光装置及第二曝光装置加以连接的接口部，将实施了所述前工序的处理的基板搬运至所述第一曝光装置和/或所述第二曝光装置，并且将实施了曝光处理的基板搬运至所述后处理部，所述接口部包括对基板进行搬运的多个搬运机器人及多个模块，在所述搬运工序中，与从所述第一曝光装置或所述第二曝光装置向所述后处理部搬运基板的返回路径搬运相比，优先执行从所述前处理部向所述第一曝光装置或所述第二曝光装置搬运基板的去往路径搬运。
15、另外，技术方案10的发明是根据技术方案9的发明的基板处理方法，其特征在于，所述多个搬运机器人包括执行所述去往路径搬运及所述返回路径搬运双方的双向搬运机器人，所述多个模块包括：第一模块，沿着所述去往路径搬运的搬运方向而位于所述双向搬运机器人的上游侧；以及第二模块，沿着所述返回路径搬运的搬运方向而位于所述双向搬运机器人的上游侧，在所述搬运工序中，当所述双向搬运机器人在从所述第二模块接收到交付预告信号之后且在从所述第二模块接受基板之前从所述第一模块接收到交付预告信号时，所述双向搬运机器人优先执行基板从所述第一模块的搬出。
16、另外，技术方案11的发明是根据技术方案10的发明的基板处理方法，其特征在于，所述第一模块在比交付请求信号早的设定时间时发送交付预告信号，所述设定时间是所述双向搬运机器人将基板从所述第二模块搬运至下一工序的模块所需的时间与从所述第一模块搬出基板的准备动作所需的时间相加后的值。
17、另外，技术方案12的发明是根据技术方案10的发明的基板处理方法，其特征在于，当优先执行的从所述第一模块向下一工序的模块的基板搬运完成时，且已从所述第二模块发送出交付请求信号时，所述双向搬运机器人执行基板从所述第二模块的搬出。
18、另外，技术方案13的发明是根据技术方案9的发明的基板处理方法，其特征在于，所述多个搬运机器人包括沿着所述去往路径搬运的搬运方向为上游侧的上游搬运机器人及沿着所述去往路径搬运的搬运方向为下游侧的下游搬运机器人，所述多个模块包括温度调节模块，所述温度调节模块沿着所述去往路径搬运的搬运方向而位于所述上游搬运机器人与所述下游搬运机器人之间，进行基板的温度调节处理，所述温度调节模块在比温度调节处理的完成早的规定时间的时刻之后，并且在所述下游搬运机器人对所述第一曝光装置或所述第二曝光装置开始基板更换的时刻之后，向所述上游搬运机器人发送接受预告信号。
19、另外，技术方案14的发明是根据技术方案9的发明的基板处理方法，其特征在于，所述多个搬运机器人包括执行所述去往路径搬运及所述返回路径搬运双方的双向搬运机器人，将对所述双向搬运机器人进行一系列动作的节拍时间进行二等分后的其中一者设为用于所述去往路径搬运的去往路径搬运时间，将另一者设为用于所述返回路径搬运的返回路径搬运时间，来使所述双向搬运机器人进行搬运动作，并且所述去往路径搬运时间及所述返回路径搬运时间分别包含富余时间。
20、另外，技术方案15的发明是根据技术方案14的发明的基板处理方法，其特征在于，所述多个模块包括上游模块，所述上游模块沿着所述去往路径搬运的搬运方向而位于所述双向搬运机器人的上游侧，在批次的起始基板在所述上游模块待机规定时间之后，所述双向搬运机器人从所述上游模块搬出所述起始基板。
21、另外，技术方案16的发明是根据技术方案9至技术方案15中的任一发明的基板处理方法，其特征在于，所述前工序包括对基板涂布抗蚀剂的工序，所述后工序包括对曝光处理后的基板进行显影处理的工序。
22、[发明的效果]
23、根据技术方案1至技术方案8的发明，与返回路径搬运相比，优先执行去往路径搬运，因此防止去往路径搬运中的基板停滞而曝光装置成为待机状态，从而可抑制基板的搬运效率的下降。
24、特别是，根据技术方案4的发明，当优先执行的从第一模块向下一工序的模块的基板搬运完成时，且已从第二模块发送出交付请求信号时，执行基板从第二模块的搬出，因此可防止去往路径搬运过度优先而返回路径搬运停滞。
25、特别是，根据技术方案5的发明，温度调节模块在比温度调节处理的完成早规定时间的时刻之后，并且在下游搬运机器人对第一曝光装置或第二曝光装置开始基板更换的时刻之后，向上游搬运机器人发送接受预告信号，因此防止上游搬运机器人在保持预定搬入的基板的状态下待机，从而可抑制搬运效率的下降。
26、特别是，根据技术方案6的发明，将双向搬运机器人进行一系列动作的节拍时间二等分后的其中一者为用于去往路径搬运的去往路径搬运时间，另一者为用于返回路径搬运的返回路径搬运时间，并且去往路径搬运时间及返回路径搬运时间分别包含富余时间，因此可通过富余时间吸收曝光装置的处理时间的变动，可在比双向搬运机器人更靠下游处周期性地送出基板从而抑制基板的搬运效率的下降。
27、根据技术方案9至技术方案16的发明，与返回路径搬运相比，优先执行去往路径搬运，因此防止去往路径搬运中的基板停滞而曝光装置成为待机状态，从而可抑制基板的搬运效率的下降。
28、特别是，根据技术方案12的发明，当优先执行的从第一模块向下一工序的模块的基板搬运完成时，且已从第二模块发送出交付请求信号时，双向搬运机器人执行基板从第二模块的搬出，因此可防止去往路径搬运过度优先而返回路径搬运停滞。
29、特别是，根据技术方案13的发明，温度调节模块在比温度调节处理的完成早规定时间的时刻之后，并且在下游搬运机器人对第一曝光装置或第二曝光装置开始基板更换的时刻之后，向上游搬运机器人发送接受预告信号，因此防止上游搬运机器人在保持预定搬入的基板的状态下待机，从而可抑制搬运效率的下降。
30、特别是，根据技术方案14的发明，将对双向搬运机器人进行一系列动作的节拍时间进行二等分后的其中一者设为用于去往路径搬运的去往路径搬运时间，将另一者设为用于返回路径搬运的返回路径搬运时间，来使双向搬运机器人进行搬运动作，并且去往路径搬运时间及返回路径搬运时间分别包含富余时间，因此可通过富余时间吸收曝光装置的处理时间的变动，可在比双向搬运机器人更靠下游处周期性地送出基板从而抑制基板的搬运效率的降低。
技术特征：
1.一种基板处理装置，对基板进行曝光处理的前工序的处理并且进行曝光处理的后工序的处理，所述基板处理装置的特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，
8.根据权利要求1至7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
9.一种基板处理方法，对基板进行曝光处理的前工序的处理并且进行曝光处理的后工序的处理，所述基板处理方法的特征在于，包括：
10.根据权利要求9所述的基板处理方法，其特征在于，
11.根据权利要求10所述的基板处理方法，其特征在于，
12.根据权利要求10所述的基板处理方法，其特征在于，
13.根据权利要求9所述的基板处理方法，其特征在于，
14.根据权利要求9所述的基板处理方法，其特征在于，
15.根据权利要求14所述的基板处理方法，其特征在于，
16.根据权利要求9至15中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，
技术总结
本发明提供一种可抑制搬运效率下降的基板处理装置及基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部及进行后工序的处理的后处理部与曝光装置加以连接的接口部，配置有多个搬运机器人及多个模块。在接口部中，执行将基板从前处理部向曝光装置搬运的去往路径搬运与从曝光装置向后处理部搬运的返回路径搬运。在发生去往路径搬运与返回路径搬运的搬运冲突时，与返回路径搬运相比，优先执行去往路径搬运。具体而言，即使在去往路径搬运侧的交付预告信号比返回路径搬运侧的交付预告信号滞后发送的情况下，也先执行去往路径搬运侧的基板搬运。可防止曝光装置成为待机状态，而抑制基板的搬运效率的下降。
技术研发人员：荒木隆道,三林武,上林诚
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：
技术公布日：2024/9/23