液态源储罐的稳定装置、薄膜沉积设备的制作方法

本技术涉及半导体加工领域，尤其涉及一种液态源储罐的稳定装置，以及一种薄膜沉积设备。

背景技术：

1、传统液态源输送系统中，液态源需要先被引入到液态源储罐内，然后经由载气输送到工艺腔体或抽气泵中。液态源作为工艺使用的前驱体，其稳定输送和精确控制对于提升工艺稳定性至关重要。然而，由于液态源的自身特性，在液态源输送的过程中存在一些问题。例如，当人为抽空液态源管路或气动阀失效时，可能会导致储罐内压力迅速降低。进而，可能导致会触发液态源的沸点，导致储罐内的压力急剧升高而引发报警。这些情况会导致薄膜沉积工艺立即停止，进而影响工艺的稳定性和机台的安全性。

2、为了克服现有技术存在的上述缺陷，本领域亟需一种改进的液态源储罐的稳定装置，用于实时监测储罐内的压力变化，平衡储罐内的压力，以确保薄膜沉积设备的安全性及薄膜沉积工艺的稳定性。

技术实现思路

1、以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构想到的方面的详尽综览，并且既非旨在指认出所有方面的关键性或决定性要素亦非试图界定任何或所有方面的范围。其唯一的目的是要以简化形式给出一个或多个方面的一些概念以为稍后给出的更加详细的描述之前序。

2、为了克服现有技术存在的上述缺陷，本实用新型提供了一种液态源储罐的稳定装置及一种薄膜沉积设备，通过设置压力计实时监测储罐内的压力变化，并通过设置蓄能器平衡储罐内的压力，以确保薄膜沉积设备的安全性及薄膜沉积工艺的稳定性。

3、具体来说，根据本实用新型的第一方面提供的上述液态源储罐的稳定装置包括蓄能器、第一阀门、第一压力计及第二压力计。所述蓄能器用于提供不与所述液态源反应的补充气体。所述第一阀门设于所述蓄能器与所述液态源储罐之间。所述第一压力计设于所述第一阀门与所述液态源储罐之间，以监测所述液态源储罐内的第一气压。所述第二压力计设于所述第一阀门与所述蓄能器之间，以监测所述蓄能器的第二气压，并用于在所述第二气压与所述第一气压的差值大于预设阈值时，开通所述第一阀门，以利用所述蓄能器为所述液态源储罐补气。

4、进一步地，在本实用新型的一些实施例中，所述液态源为易挥发物质。所述第二气压的目标值与所述预设阈值之和，大于或等于所述液态源在所述液态源储罐的工作温度下的沸腾气压。

5、进一步地，在本实用新型的一些实施例中，还包括温度传感器。所述温度传感器用于检测所述液态源的温度，以指示所述液态源的沸腾气压。

6、进一步地，在本实用新型的一些实施例中，还包括液位传感器。所述温度传感器被集成于所述液位传感器。所述液位传感器漂浮于所述液态源中，以同步检测所述液态源的液位高度和温度。

7、进一步地，在本实用新型的一些实施例中，还包括气源及第二阀门。所述气源用于向所述蓄能器提供所述补充气体。所述第二阀门设于所述气源与所述蓄能器之间，用于在所述第二气压低于其目标值时，经由所述气源为所述蓄能器提供所述补充气体。

8、进一步地，在本实用新型的一些实施例中，所述第一阀门还用于在所述第二气压低于其目标值时，关断所述蓄能器到所述液态源储罐的气体管路。

9、进一步地，在本实用新型的一些实施例中，所述蓄能器包括多个储气罐。第一储气罐的第一进气口连接所述气源，而其第一出气口连接所述液态源储罐，以直接向所述液态源储罐提供所述补充气体。至少一个第二储气罐的第二进气口连接所述气源，而其第二出气口连接所述第一储气罐的第一进气口，用于在所述第一储气罐内的第二气压低于所述目标值时，向所述第一储气罐提供所述补充气体。

10、进一步地，在本实用新型的一些实施例中，所述液态源储罐还经由至少一个第三阀门连接工艺腔室，以向所述工艺腔室提供汽化的所述液态源。所述第一压力计还用于在所述第一气压小于所述液态源在所述工作温度下的沸腾气压时，关断所述至少一个第三阀门。

11、进一步地，在本实用新型的一些实施例中，所述液态源储罐还经由至少一个第四阀门连接抽气泵，以排出汽化的所述液态源和/或用于携带所述液态源的载气。所述第一压力计还用于在所述第一气压小于所述液态源在所述工作温度下的沸腾气压时，关断所述至少一个第四阀门。

12、此外，根据本实用新型的第二方面提供的上述薄膜沉积设备包括工艺腔室、液态源储罐及如本实用新型的第一方面提供的液态源储罐的稳定装置。所述工艺腔体用于容纳待加工的晶圆。所述液态源储罐用于向所述工艺腔体提供汽化的液态源前驱体，以对所述晶圆进行薄膜沉积工艺。如本实用新型的第一方面提供的液态源储罐的稳定装置用于将所述液态源储罐内的第一气压，稳定在所述液态源在所述液态源储罐的工作温度下的沸腾气压以上。

技术特征：

1.一种液态源储罐的稳定装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的稳定装置，其特征在于，所述液态源为易挥发物质，所述第二气压的目标值与所述预设阈值之和，大于或等于所述液态源在所述液态源储罐的工作温度下的沸腾气压。

3.如权利要求2所述的稳定装置，其特征在于，还包括：

4.如权利要求3所述的稳定装置，其特征在于，还包括：

5.如权利要求1所述的稳定装置，其特征在于，还包括：

6.如权利要求5所述的稳定装置，其特征在于，所述第一阀门还用于在所述第二气压低于其目标值时，关断所述蓄能器到所述液态源储罐的气体管路。

7.如权利要求5所述的稳定装置，其特征在于，所述蓄能器包括多个储气罐，其中，

8.如权利要求2所述的稳定装置，其特征在于，所述液态源储罐还经由至少一个第三阀门连接工艺腔室，以向所述工艺腔室提供汽化的所述液态源，

9.如权利要求2所述的稳定装置，其特征在于，所述液态源储罐还经由至少一个第四阀门连接抽气泵，以排出汽化的所述液态源和/或用于携带所述液态源的载气，

10.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括：

技术总结
本技术提供了液态源储罐的稳定装置及薄膜沉积设备。所述液态源储罐的稳定装置包括蓄能器、第一阀门、第一压力计及第二压力计。所述蓄能器用于提供不与所述液态源反应的补充气体。所述第一阀门设于所述蓄能器与所述液态源储罐之间。所述第一压力计设于所述第一阀门与所述液态源储罐之间，以监测所述液态源储罐内的第一气压。所述第二压力计设于所述第一阀门与所述蓄能器之间，以监测所述蓄能器的第二气压，并用于在所述第二气压与所述第一气压的差值大于预设阈值时，开通所述第一阀门，以利用所述蓄能器为所述液态源储罐补气。本技术可以监测储罐内的压力变化，并平衡储罐内的压力，以确保薄膜沉积设备的安全性及薄膜沉积工艺的稳定性。

技术研发人员：李霖,张启辉
受保护的技术使用者：拓荆科技(上海)有限公司
技术研发日：20231220
技术公布日：2024/9/23