一种ALD反应腔装置及ALD镀膜设备的制作方法
本发明属于ald反应装置，尤其涉及一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备。
背景技术：
1、原子层沉积技术(ald)是一种一层一层原子级生长的薄膜制备技术。理想的ald生长过程，通过选择性交替，把不同的前驱体暴露于基片的表面，在表面化学吸附并反应形成沉积薄膜。
2、但是现有的原子层沉积技术如cn112323045a一种ald反应腔室所示，一般是在密闭环境下进行的，而在密闭环境则会导致物料在一面镀膜结束后，另一侧的端面则与装置内接触面贴合，不易进行反应，而导致需要重新打开装置进行翻面后，再重新进行反应，造成工作效率低下，降低企业效益的情况，由此我们特别设计了一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备。
技术实现思路
1、本发明的目的是针对上述存在的技术问题，提供一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，达到了提升生产效率的效果。
2、有鉴于此，本发明提供一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，包括：
3、机体，机体上设置有第一安装腔和第二安装腔，第一安装腔和第二安装腔之间设置有通道；
4、反应机构，反应机构设置在第二安装腔内；
5、抽真空机构，抽真空机构设置在机体上；
6、输送机构，输送机构设置在第一安装腔内，并延伸到第二安装腔内；
7、其中，第二安装腔一侧的壁面上设置有操作窗口，操作窗口连接有手套。
8、在上述技术方案中，进一步的，反应机构包括：
9、活动装置，活动装置设置第一安装腔的壁面上；
10、反应罐，反应罐可拆卸的连接在活动装置上，并与输送机构连接；
11、活动盖，活动盖设置在第二安装腔的端口上；
12、屉笼结构，屉笼结构设置在第二安装腔内；
13、镀膜装置，镀膜装置设置在屉笼结构内；
14、其中，反应罐在活动装置上设置有多个。
15、在上述技术方案中，进一步的，活动装置包括：
16、第一滑轨组件，第一滑轨组件在第一安装腔两侧壁面上下设置有两组，第一滑轨组件包括滑道和滑座；
17、夹持组件，夹持组件包括第一夹持架和第二夹持架，第一夹持架设置在处于上侧的第一滑轨组件上，第二夹持架设置在处于下侧的第一滑轨组件上。
18、在上述技术方案中，进一步的，活动盖包括：
19、盖体，盖体铰接有固定架，固定架固定在机体上侧；
20、驱动组件，驱动组件包括线架组件和动力组件；
21、其中，线架组件包括导线架、引导架和护罩，导线架设置在盖体上，引导架设置在导体前端，导线架上设置有光杆，护罩设置导线架和引导架前端；
22、其中，动力组件包括第一绕线组和第二绕线组，第一绕线组和第二绕线组均包括电机、绕线架。
23、在上述技术方案中，进一步的，镀膜装置包括：
24、喷枪；
25、料罐；
26、其中，喷枪设置在屉笼结构内，料罐设置在活动装置上，喷枪和料罐通过输送机构连接到一起。
27、在上述技术方案中，进一步的，屉笼结构包括：
28、屉笼本体，屉笼本体活动连接在安装腔内；
29、物料架，物料架设置在屉笼本体上；
30、其中，物料架从屉笼本体上分离出反应腔和镀膜腔，喷枪装置设置在镀膜腔内。
31、在上述技术方案中，进一步的，物料架包括：
32、固定架，固定架上设置有滑槽，并与屉笼本体固定；
33、活动架，多个活动架与滑槽连接，且多个活动架上设置有定位件。
34、在上述技术方案中，进一步的，定位件包括：
35、主体，主体上等距设置有多个卡槽；
36、其中，主体一端与屉笼本体铰接固定。
37、在上述技术方案中，进一步的，还包括：
38、配合槽，配合槽设置在机体一侧，并连通到第二安装腔内，屉笼本体连接在配合槽上；
39、其中，配合槽两侧设置有第二滑轨组件，滑轨组件与屉笼本体配合。
40、在上述技术方案中，进一步的，输送机构包括：
41、第一送料组，第一送料组连接反应罐，并连通到第二安装腔内；
42、第二送料组，第二送料组连接料罐，并连通到喷枪上；
43、其中，第一送料组和第二送料组均包括泵体和输送管，泵体上设置有快速接头与反应罐和料罐连接。
44、本发明的有益效果为：在使用时，无需重新启闭即可通过操控窗口对在第二安装腔内进行镀膜的物料进行翻面，从而可以提升生产效率。
技术特征：
1.一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，包括：
2.根据权利要求1所述的一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，反应机构(5)包括：
3.根据权利要求2所述的一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，活动装置(51)包括：
4.根据权利要求3所述的一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，活动盖(53)包括：
5.根据权利要求4所述的一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，镀膜装置(55)包括：
6.根据权利要求5所述的一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，屉笼结构(54)包括：
7.根据权利要求6所述的一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，物料架(542)包括：
8.根据权利要求7所述的一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，定位件(5423)包括：
9.根据权利要求8所述的一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，还包括：
10.根据权利要求9所述的一种ald反应腔装置以及ald镀膜设备，其特征是，输送机构包括：
技术总结
本发明属于ALD反应装置技术领域，尤其涉及一种ALD反应腔装置以及ALD镀膜设备，包括：机体，机体上设置有第一安装腔和第二安装腔，第一安装腔和第二安装腔之间设置有通道；反应机构，反应机构设置在第二安装腔内；抽真空机构，抽真空机构设置在机体上；输送机构，输送机构设置在第一安装腔内，并延伸到第二安装腔内；其中，第二安装腔一侧的壁面上设置有操作窗口，操作窗口连接有手套。
技术研发人员：张琦,梁梦颖,汪俊,杨军
受保护的技术使用者：浙江富乐德石英科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/9/23