一种钼带生产用表面整平装置的制造方法
一种钼带生产用表面整平装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及稀有金属加工技术领域，尤其涉及一种钼带生产用表面整平装置。
【背景技术】
[0002]钼带作为原料钼丝的衍生物，在照明行业应用特别广泛，主要用于高压汞灯、高压钠灯、金属卤化物灯、影视光源等，它的质量对灯的寿命和接口焊接质量的影响很大。
[0003]钼带的生产工艺包括热轧、退火、精(冷)乳、校直、整形和电解等工序，对精(冷)轧工序后，需要对钼带表面在氢气保护中进行平整处理。平整处理后不但可以改善产品的表面光洁度，还可以增强抗拉强度，消除断丝。但是，传统的平整装置不能较好地满足平整工序的要求，一般存在加工效率低等缺点，而且设备都是在一条直线上设置的，比例浪费空间。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种钼带生产用表面整平装置，以解决上述技术问题。
[0005]本实用新型所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
[0006]一种钼带生产用表面整平装置，其特征在于:包括封闭的钼带输送平台，输送平台内部设置有输送辊，所述输送平台上端设置有整形支架，整形支架封闭在气罩内，气罩内充有保护气，所述整形支架由纵向支撑杆和与纵向支撑杆垂直连接的横杆构成，所述纵向支撑杆上安装一对整平辊，所述横杆的两端分别安装一个导向辊，所述一对整平辊的辊面上设置有相互配合的整平导槽，钼带在钼带输送平台内经过输送辊后进入到气罩内，再经过横杆一端的导向辊后，从一对整平辊的整平导槽内穿过，再经过横杆另一端的导向辊后，回到钼带输送平台内，经过另一输送辊继续输送。
[0007]所述的一对整平辊包括上整平辊和下整平辊，上整平辊与下整平辊上下对滚，所述下整平辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角，所述上整平辊的辊面上设置有与U型凹槽配合的凸圈，钼带从U型凹槽内穿过，上整平辊的凸圈滚压在钼带上端，将钼带滚压在U型凹槽内重新整形，可通过调节上整平辊与下整平辊的辊距，来调节整平强度。
[0008]所述输送辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。
[0009]所述导向辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。
[0010]输送辊与导向辊的辊面上也设置了 U型凹槽，对钼带具有限位作用，同时可以保持钼带的形状，避免其在输送过程中截面发生形变。
[0011]本实用新型的有益效果是:
[0012]本实用新型的钼带生产用表面整平装置，可在钼带生产过程中在线对钼带进行整平，整平效率高，对钼带表面进行整平的同时，还可重新塑造钼带的截面形状，该整平装置结构设计紧凑，空间得到了充分利用，克服了传统生产线在一条线上布置，占地面积大的缺陷。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型的结构示意图；
[0014]图2为一对整平辊的结构示意图；
[0015]图3为输送辊或导向辊的结构示意图。
【具体实施方式】
[0016]为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例和附图，进一步阐述本实用新型，但下述实施例仅仅为本实用新型的优选实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其它实施例，都属于本发明的保护范围。
[0017]如图1所示，一种钼带生产用表面整平装置，包括封闭的钼带输送平台6，钼带输送平台6内部设置有输送辊5，钼带输送平台6上端设置有整形支架1，整形支架I封闭在气罩4内，气罩4内充有保护气，整形支架I由纵向支撑杆和与纵向支撑杆垂直连接的横杆构成，纵向支撑杆上安装一对整平辊3，横杆的两端分别安装一个导向辊2，一对整平辊3的辊面上设置有相互配合的整平导槽，钼带7在钼带输送平台6内经过输送辊5后进入到气罩4内，再经过横杆一端的导向辊2后，从一对整平辊3的整平导槽内穿过，再经过横杆另一端的导向辊2后，回到钼带输送平台6内，经过另一输送辊5继续输送。
[0018]如图2所示，一对整平辊包括上整平辊32和下整平辊33，上整平辊32与下整平辊33上下对滚，下整平辊33的辊面上设置有U型凹槽34，U型凹槽34两侧边上端设置有斜面倒角，上整平辊32的辊面上设置有与U型凹槽34配合的凸圈31。
[0019]如图3所示，输送辊与导向辊的结构相同，其辊面上都设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。
[0020]以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例，并不用来限制本实用新型，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落人要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
【主权项】
1.一种钼带生产用表面整平装置，其特征在于:包括封闭的钼带输送平台，输送平台内部设置有输送辊，所述输送平台上端设置有整形支架，整形支架封闭在气罩内，气罩内充有保护气，所述整形支架由纵向支撑杆和与纵向支撑杆垂直连接的横杆构成，所述纵向支撑杆上安装一对整平辊，所述横杆的两端分别安装一个导向辊，所述一对整平辊的辊面上设置有相互配合的整平导槽，钼带在钼带输送平台内经过输送辊后进入到气罩内，再经过横杆一端的导向辊后，从一对整平辊的整平导槽内穿过，再经过横杆另一端的导向辊后，回到钼带输送平台内，经过另一输送辊继续输送。2.根据权利要求1所述的钼带生产用表面整平装置，其特征在于:所述的一对整平辊包括上整平辊和下整平辊，上整平辊与下整平辊上下对滚，所述下整平辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角，所述上整平辊的辊面上设置有与U型凹槽配合的凸圈。3.根据权利要求1所述的钼带生产用表面整平装置，其特征在于:所述输送辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。4.根据权利要求1所述的钼带生产用表面整平装置，其特征在于:所述导向辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。
【专利摘要】本实用新型提供一种钼带生产用表面整平装置，涉及稀有金属加工技术领域，包括封闭的钼带输送平台，输送平台内部设置有输送辊，输送平台上端设置有整形支架，整形支架封闭在气罩内，气罩内充有保护气，整形支架由纵向支撑杆和与纵向支撑杆垂直连接的横杆构成，所述纵向支撑杆上安装一对整平辊，横杆的两端分别安装一个导向辊，一对整平辊的辊面上设置有相互配合的整平导槽。本实用新型的钼带生产用表面整平装置，可在钼带生产过程中在线对钼带进行整平，整平效率高，对钼带表面进行整平的同时，还可重新塑造钼带的截面形状，该整平装置结构设计紧凑，空间得到了充分利用，克服了传统生产线在一条线上布置，占地面积大的缺陷。
【IPC分类】B21D1/02, B21D43/09
【公开号】CN204700083
【申请号】CN201520412245
【发明人】宗烈
【申请人】常州振兴中大光源材料有限公司
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年6月16日
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及稀有金属加工技术领域，尤其涉及一种钼带生产用表面整平装置。
【背景技术】
[0002]钼带作为原料钼丝的衍生物，在照明行业应用特别广泛，主要用于高压汞灯、高压钠灯、金属卤化物灯、影视光源等，它的质量对灯的寿命和接口焊接质量的影响很大。
[0003]钼带的生产工艺包括热轧、退火、精(冷)乳、校直、整形和电解等工序，对精(冷)轧工序后，需要对钼带表面在氢气保护中进行平整处理。平整处理后不但可以改善产品的表面光洁度，还可以增强抗拉强度，消除断丝。但是，传统的平整装置不能较好地满足平整工序的要求，一般存在加工效率低等缺点，而且设备都是在一条直线上设置的，比例浪费空间。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种钼带生产用表面整平装置，以解决上述技术问题。
[0005]本实用新型所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
[0006]一种钼带生产用表面整平装置，其特征在于:包括封闭的钼带输送平台，输送平台内部设置有输送辊，所述输送平台上端设置有整形支架，整形支架封闭在气罩内，气罩内充有保护气，所述整形支架由纵向支撑杆和与纵向支撑杆垂直连接的横杆构成，所述纵向支撑杆上安装一对整平辊，所述横杆的两端分别安装一个导向辊，所述一对整平辊的辊面上设置有相互配合的整平导槽，钼带在钼带输送平台内经过输送辊后进入到气罩内，再经过横杆一端的导向辊后，从一对整平辊的整平导槽内穿过，再经过横杆另一端的导向辊后，回到钼带输送平台内，经过另一输送辊继续输送。
[0007]所述的一对整平辊包括上整平辊和下整平辊，上整平辊与下整平辊上下对滚，所述下整平辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角，所述上整平辊的辊面上设置有与U型凹槽配合的凸圈，钼带从U型凹槽内穿过，上整平辊的凸圈滚压在钼带上端，将钼带滚压在U型凹槽内重新整形，可通过调节上整平辊与下整平辊的辊距，来调节整平强度。
[0008]所述输送辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。
[0009]所述导向辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。
[0010]输送辊与导向辊的辊面上也设置了 U型凹槽，对钼带具有限位作用，同时可以保持钼带的形状，避免其在输送过程中截面发生形变。
[0011]本实用新型的有益效果是:
[0012]本实用新型的钼带生产用表面整平装置，可在钼带生产过程中在线对钼带进行整平，整平效率高，对钼带表面进行整平的同时，还可重新塑造钼带的截面形状，该整平装置结构设计紧凑，空间得到了充分利用，克服了传统生产线在一条线上布置，占地面积大的缺陷。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型的结构示意图；
[0014]图2为一对整平辊的结构示意图；
[0015]图3为输送辊或导向辊的结构示意图。
【具体实施方式】
[0016]为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例和附图，进一步阐述本实用新型，但下述实施例仅仅为本实用新型的优选实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其它实施例，都属于本发明的保护范围。
[0017]如图1所示，一种钼带生产用表面整平装置，包括封闭的钼带输送平台6，钼带输送平台6内部设置有输送辊5，钼带输送平台6上端设置有整形支架1，整形支架I封闭在气罩4内，气罩4内充有保护气，整形支架I由纵向支撑杆和与纵向支撑杆垂直连接的横杆构成，纵向支撑杆上安装一对整平辊3，横杆的两端分别安装一个导向辊2，一对整平辊3的辊面上设置有相互配合的整平导槽，钼带7在钼带输送平台6内经过输送辊5后进入到气罩4内，再经过横杆一端的导向辊2后，从一对整平辊3的整平导槽内穿过，再经过横杆另一端的导向辊2后，回到钼带输送平台6内，经过另一输送辊5继续输送。
[0018]如图2所示，一对整平辊包括上整平辊32和下整平辊33，上整平辊32与下整平辊33上下对滚，下整平辊33的辊面上设置有U型凹槽34，U型凹槽34两侧边上端设置有斜面倒角，上整平辊32的辊面上设置有与U型凹槽34配合的凸圈31。
[0019]如图3所示，输送辊与导向辊的结构相同，其辊面上都设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。
[0020]以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例，并不用来限制本实用新型，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落人要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
【主权项】
1.一种钼带生产用表面整平装置，其特征在于:包括封闭的钼带输送平台，输送平台内部设置有输送辊，所述输送平台上端设置有整形支架，整形支架封闭在气罩内，气罩内充有保护气，所述整形支架由纵向支撑杆和与纵向支撑杆垂直连接的横杆构成，所述纵向支撑杆上安装一对整平辊，所述横杆的两端分别安装一个导向辊，所述一对整平辊的辊面上设置有相互配合的整平导槽，钼带在钼带输送平台内经过输送辊后进入到气罩内，再经过横杆一端的导向辊后，从一对整平辊的整平导槽内穿过，再经过横杆另一端的导向辊后，回到钼带输送平台内，经过另一输送辊继续输送。2.根据权利要求1所述的钼带生产用表面整平装置，其特征在于:所述的一对整平辊包括上整平辊和下整平辊，上整平辊与下整平辊上下对滚，所述下整平辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角，所述上整平辊的辊面上设置有与U型凹槽配合的凸圈。3.根据权利要求1所述的钼带生产用表面整平装置，其特征在于:所述输送辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。4.根据权利要求1所述的钼带生产用表面整平装置，其特征在于:所述导向辊的辊面上设置有U型凹槽，U型凹槽两侧边上端设置有斜面倒角。
【专利摘要】本实用新型提供一种钼带生产用表面整平装置，涉及稀有金属加工技术领域，包括封闭的钼带输送平台，输送平台内部设置有输送辊，输送平台上端设置有整形支架，整形支架封闭在气罩内，气罩内充有保护气，整形支架由纵向支撑杆和与纵向支撑杆垂直连接的横杆构成，所述纵向支撑杆上安装一对整平辊，横杆的两端分别安装一个导向辊，一对整平辊的辊面上设置有相互配合的整平导槽。本实用新型的钼带生产用表面整平装置，可在钼带生产过程中在线对钼带进行整平，整平效率高，对钼带表面进行整平的同时，还可重新塑造钼带的截面形状，该整平装置结构设计紧凑，空间得到了充分利用，克服了传统生产线在一条线上布置，占地面积大的缺陷。
【IPC分类】B21D1/02, B21D43/09
【公开号】CN204700083
【申请号】CN201520412245
【发明人】宗烈
【申请人】常州振兴中大光源材料有限公司
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年6月16日
最新回复(0)