触控显示面板及其制造方法
触控显示面板及其制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明是有关于一种触控显示面板及其制造方法。
【背景技术】
[0002] 触控面板通常包括触控感测层以及承载触控感测层的基板。当触控面板搭配显示 面板而形成触控显示面板时，需考虑到显示面板的显示信号与触控信号相互干扰的问题。 此外，为避免触控感测层遮蔽到来自显示面板的图像光束，触控感测层的材质通常选用光 穿透率好的透明导电材质，如铟锡氧化物。由于铟锡氧化物与基板的折射系数不同，因此在 光束照射至触控面板时，光束在触控感测层所曝露出的基板处的反射率会不同于光束在触 控感测层所在位置的反射率。一般而言，光束在触控感测层所曝露出的基板处的反射率会 小于光束在触控感测层所在位置的反射率，造成使用者在使用时容易看到触控感测层的图 案，而影响了触控面板整体的视觉效果。现有技术有提出对触控感测层的图案明显度的改 良，然而，这些改良并没有有效地降低触控感测层的图案对于人眼的可视性，且制程相对复 杂。
【发明内容】
[0003] 本发明提供一种触控显示面板，其有效地降低触控感测层的图案对于人眼的可视 性，而具有良好的视觉效果。
[0004] 本发明另提供一种触控显示面板的制造方法，其具有相对简易的制造流程。
[0005] 本发明的一种触控显示面板的制造方法，其包括以下步骤。提供第一基板，其中第 一基板具有第一表面。在第一表面上形成第一保护层以及触控感测层，其中触控感测层位 于第一保护层上。接合第一基板与第二基板，并在第一基板与第二基板之间形成一显示介 质层。
[0006] 本发明的一种触控显示面板，其包括显示面板、屏蔽层、第一保护层以及触控感测 层。显示面板包括第一基板、第二基板以及位于第一基板与第二基板之间的显示介质层。第 一基板具有第一表面。屏蔽层位于第一表面上。第一保护层位于屏蔽层上。触控感测层位 于第一保护层上。
[0007] 基于上述，本发明的触控显示面板在第一基板上设置第一保护层，以补偿光束在 触控感测层与基板之间的反射率差异。由于这种图案明显度的改良方法可简化制造流程， 且可有效地降低触控感测层的图案对于人眼的可视性，因此，本发明的触控显示面板可在 相对简易的制造流程下，具有良好的视觉效果。同时，若基板较薄或有表面凹凸缺陷，第一 保护层也可平坦化基板表面与增加基板强度。此外，触控显示面板在第一基板与触控感测 层之间通过屏蔽层的设置，可有效降低显示信号与触控信号之间的信号干扰。
[0008] 为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详 细说明如下。
【附图说明】
[0009] 图1A至图1E是根据本发明的一实施例的触控显示面板的制造流程的剖面示意 图；
[0010] 图2及图3是图1B中触控感测层的两种实施形态的上视示意图；
[0011] 图4是图1D中主动元件阵列及彩色滤光层的示意图；
[0012] 图5及图6是根据本发明的其他实施例的触控显示面板的剖面示意图；
[0013] 图7是根据本发明的一实施例的触控显示装置的剖面示意图。
[0014] 附图标记说明：
[0015] 100、200、300、12 :触控显示面板；
[0016] 110 :第一基板；
[0017] 120:第一保护层；
[0018] 130 :触控感测层；
[0019] 132、134 :感测导线图案；
[0020] 140 :第二基板；
[0021] 142、142'：基材；
[0022] 144 :主动元件阵列；
[0023] 150 :显示介质层；
[0024] 160 :屏蔽层；
[0025] 170 :第二保护层；
[0026] 10 :触控显示装置；
[0027] 14 :背光模块；
[0028] BM:黑矩阵层；
[0029] CFL :彩色滤光层；
[0030] D :方向；
[0031] DL:数据线；
[0032] DP、DP'：显示面板；
[0033] G:间隙；
[0034] Η1、ΗΓ、Η120、Η130、Η160、Η170 :厚度；
[0035] S1 :第一表面；
[0036] S2 :第二表面；
[0037] SL :扫描线；
[0038] TFT :主动元件；
[0039] PE:像素电极；
[0040] P:像素区。
【具体实施方式】
[0041] 图1A至图1E是根据本发明的一实施例的触控显示面板的制造流程的剖面示意 图。图2及图3是图1B中触控感测层的两种实施形态的上视示意图。图4是图1D中主动 元件阵列及彩色滤光层的示意图。触控显示面板100的制造方法包括图1A至图1E的步骤。
[0042] 如图1A所不，提供一第一基板110,其中第一基板110的材质选用透光的材质，其 可以是玻璃、石英、有机聚合物或是其他合适的材料。此外，第一基板110具有一第一表面 S1以及一与第一表面S1相对的第二表面S2。
[0043] 如图1Β所示，在第一表面S1上依次形成一第一保护层120以及一触控感测层 130。本实施例中的触控感测层130的厚度Η130例如为200 ±反(^ )至3000Α ,而第一保 护层120的厚度Η120例如为1微米（μ m)至4μπι，其中第一保护层120的材质可以是无机 材料（例如：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、硅铝氧化物或上述至少两种材料的堆叠层）、有机 材料或上述的组合。此外，形成第一保护层120的方法可根据第一保护层120的材质及厚 度Η120等参数而有所不同。举例说明，形成第一保护层120的方法可以是旋转涂布（spin coating)、狭缝涂布（slit coating)、滅锻（sputter)、蒸锻（evaporation)、毯覆式涂布 (blanket coating)或其他合适的方法。
[0044] 触控感测层130位于第一保护层120上，其材质可以是透明导电材质，如金属氧化 物、石墨烯、纳米碳管等。金属氧化物例如是铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧 化物、铟锗锌氧化物、或其它合适的氧化物、或者是上述至少两种材料的堆叠层。
[0045] 如图2所示，触控感测层130具有多个感测导线图案132、感测导线图案134。这 些感测导线图案132、感测导线图案134彼此电性绝缘且分离设置。并且，这些感测导线图 案132、感测导线图案134之间具有间隙G，其中间隙G曝露出触控感测层130下的膜层，即 间隙G曝露出第一保护层120。
[0046] 当未设置第一保护层120时，间隙G会曝露出第一基板110。由于感测导线图案 132、感测导线图案134与第一基板110的折射系数差异很大，因此光束在间隙G以及在感 测导线图案132、感测导线图案134所在位置的反射率会有极大的差异，造成使用者在使用 时容易看到这些感测导线图案132、感测导线图案134,而影响了触控显示面板整体的视觉 效果。本实施例通过第一保护层120的设置，以补偿光束在间隙G以及在感测导线图案132、 感测导线图案134所在位置的反射率差异，从而降低感测导线图案132、感测导线图案134 的可视性，提升触控显示面板100整体的视觉效果。
[0047] 此外，由于第一保护层120是全面地形成在第一基板110上，而无须对应这些感测 导线图案132、感测导线图案134进行图案化制程，因此可简化制造流程。换言之，本实施 例的触控显示面板100可在相对简易的制造流程下，具有良好的视觉效果。同时，若第一基 板110较薄或有表面凹凸缺陷，第一保护层120也可平坦化第一基板110表面与增加第一 基板110强度。
[0048] 须说明的是，在图2的实施例中，复数个感测导线图案134邻近设置在一个感测导 线图案132旁，但本发明不限于此。如图3所示，感测导线图案132与感测导线图案134也 可沿一方向D交替地排列。图2及图3仅示意性示出两种触控感测层130的实施形态，但 本发明并不限定触控感测层130的实施形态。凡是单层触控感测结构，如多点触控、单点触 控或其他触控的形式以及感测导线图案的形状及感测导线图案的排列形态皆落入本案所 要保护的范围内。
[0049] 接着，如图1C所示，本实施例在接合第一基板110与第二基板140 (示于图1D)之 前，可先在第二表面S2上形成一彩色滤光层CFL，以进行全彩化显示，其中彩色滤光层CFL 与第一保护层120分别位于第一基板110的相对两侧。彩色滤光层CFL可以包括多个红色 滤光图案、多个绿色滤光图案以及多个蓝色滤光图案，但本发明不限定滤光图案的颜色种 类及数量。此外，在形成这些滤光图案之前，本实施例可预先形成黑矩阵层BM，以划分这些 滤光图案。
[0050] 在本实施例中，第一保护层120以及触控感测层130形成在黑矩阵层BM以及彩色 滤光层CFL之前，但本发明不限于此。在另一实施例中，黑矩阵层BM以及彩色滤光层CFL 可形成在先，而第一保护层120以及触控感测层130形成在后。也就是图1B及图1C的步 骤可对调。
[0051] 如图1D所示，接合第一基板110与第二基板140,并在第一基板110与第二基板 140之间形成一显不介质层150,其中第一表面S1位于显不介质层150与第一保护层120 之间。这样，就初步完成集成式（on-cell)触控显示面板的制作，其包括显示面板DP、第一 保护层120以及触控感测层130。显示面板DP包括第一基板110、第二基板140、位于第一 基板110与第二基板140之间的显示介质层150、黑矩阵层BM以及彩色滤光层CFL。在本 实施例中，显示介质层150例如为液晶层，而在彩色滤光层CFL与第二基板140之间形成显 示介质层150的方法可以是液晶滴下注入法（One Drop Fil ling,简称0DF)、真空吸入法或 其他合适的方法。
[0052] 第二基板140包括一基材142以及一位于基材142与显不介质层150之间的主动 元件阵列144,其中主动元件阵列144是在第一基板110与第二基板140接合之前形成于基 材142上。如图4所示,主动元件阵列144包括多条扫描线SL、多条数据线DL、多个主动元 件TFT以及多个像素电极PE。这些扫描线SL与这些数据线DL交错设置以划分出多个像 素区P。在本实施例中，各主动元件TFT分别位于其中一个像素区P内，且与对应的扫描线 SL以及数据线DL电性连接。各像素电极PE分别位于其中一个像素区P内，并与对应的主 动元件TFT电性连接。黑矩阵层BM大致上对应设置在扫描线SL以及数据线DL的上方，用 以遮蔽这些不透光的元件，而彩色滤光层CFL对应像素区P设置。
[0053] 须说明的是，本实施例虽以彩色滤光层CFL与主动元件阵列144分别位于显示介 质层150的相对两侧举例说明，但本发明不限于此。在另一实施例中，彩色滤光层CFL也可 制作于第二基板140上。
[0054] 此外，根据不同的设计需求，显示面板DP可进一步包括其他元件。举例说明，显示 面板DP可进一步包括一共用电极层（未示出）以及设置在显示介质层150相对两侧的配 向层（未示出）等。共用电极层可设置在显示介质层150与彩色滤光层CFL之间，或是与 像素电极PE设置在显示介质层150的同一侧。
[0055] 如图1E所示，在形成显示介质层150之后，本实施例可进一步薄化第二基板140 的基材142,以缩减图1D中显示面板DP的总体厚度。薄化基材142的方法可以是机械研 磨、化学蚀刻或其他合适的薄化方法。在本实施例中，薄化前的基材142的厚度H1例如是 0. 4毫米，而薄化后的基材142'的厚度ΗΓ小于0. 4毫米，例如是0. 25毫米，或是0. 2毫 米。这样，就初步完成了触控显示面板100的制作。
[0056] 在实务上，触控显示面板100可进一步在触控感测层130上形成一盖板（未示 出），以保护触控感测层130,其中盖板相对远离触控感测层130的表面为触控面。所述触 控面即触控感测时，盖板面对使用者的表面。为避免遮蔽显示光束，盖板的材质选用透光的 材质，其可以是玻璃、塑料或其他高机械强度的材质。
[0057] 此外，在形成盖板之前，可进一步在触控感测层130上以及基材142'下分别形成 一偏光片（未示出），其中这两片偏光片的偏极化方向不同，例如是相互垂直，而盖板可通 过一未示出的粘着层而贴附于位于触控感测层130上的偏光片上。
[0058] 图5及图6是根据本发明的其他实施例的触控显示面板的剖面示意图。
[0059] 如图5所示，触控显示面板200大致相同于图1E的触控显示面板100,且相同的 元件以相同的标号表示，在此便不再赘述这些元件的相对配置关系、作用以及功效。主要 的差异在于，本实施例的触控显不面板200进一步包括一屏蔽层160,其中屏蔽层160在第 一保护层120以及触控感测层130之前形成于第一表面S1上，以降低显示面板DP'与触 控感测层130之间的信号干扰。屏蔽层160例如是整面地形成在第一基板110的第一表 面S1上，且屏蔽层160与彩色滤光层CFL分别位于第一基板110的相对两侧。屏蔽层160 的材质为透明导电材质，如前述的金属氧化物、石墨烯、纳米碳管等。而所述降低信号干扰 的方法例如是将屏蔽层160接地或连接至电平。电平可为来自显示面板DP、DP'的共通电 平Vcom(Common Voltage)或由触控驱动电路所提供的电平。其中电平可为直流电平（DC Voltage)。在本实施例中，屏蔽层160的厚度H160小于第一保护层120的厚度H120。详细 说明，屏蔽层160的厚度H160例如为2〇〇A至2000A。
[0060] 另外，如图6所示，触控显示面板300在图5的架构下可进一步包括一第二保护层 170,其中第二保护层170在形成第一保护层120以及触控感测层130之后形成在触控感测 层130上，以保护触控感测层130,达到防刮的效果，并进一步降低感测导线图案132、感测 导线图案134(参见图2或图3)的可视性以及改善串音（cross talk)现象，提升触控显示 面板300整体的视觉效果。
[0061] 第二保护层170可以整面地形成在触控感测层130上，且第二保护层170的材质 可选自第一保护层120的材质。在本实施例中，屏蔽层160的厚度H160小于第一保护层120 的厚度H120以及第二保护层170的厚度H170。举例说明，第二保护层170的厚度H170例 如为Ιμπι至4μπι，其中第一保护层120的厚度H120可相同或不同于第二保护层170的厚 度 Η170。
[0062] 在图5及图6的架构下，触控显示面板200、触控显示面板300也可进一步包括前 述的盖板、偏光片等元件。此外，在图6的架构下，相对邻近触控感测层130的偏光片可设 置在第二保护层170上，而盖板可通过一粘着层贴附在位于第二保护层170上的偏光片上。
[0063] 图7是根据本发明的一实施例的触控显示装置的剖面示意图。如图7所示，触控显 示装置10包括触控显示面板12以及背光模块14,其中背光模块14位于触控显示面板12 的显示面板DP'下。背光模块14可以是直下式背光模块、侧边入光式背光模块或其他可提 供均匀面光源的背光模块。在本实施例中，触控显示面板12采用图5的触控显示面板200。 在其他实施例中，触控显示面板12也可采用图1Ε或图6的触控显示面板100、触控显示面 板300。由于触控显示面板100、触控显示面板200、触控显示面板300的第一保护层120具 有简化的制造流程，因此采用触控显示面板200 (或触控显示面板100、触控显示面板300) 的触控显示装置10可在相对简易的制造流程下，具有良好的视觉效果。
[0064] 综上所述，本发明的触控显示面板在第一基板上设置保护层，以补偿光束在触控 感测层与基板之间的反射率差异。由于这种图案明显度的改良方法可简化制造流程，且可 有效地降低感测导线图案对于人眼的可视性，因此本发明的触控显示面板及应用所述触控 显示面板的触控显示装置可在相对简易的制造流程下，具有良好的视觉效果。同时，若基板 较薄或有表面凹凸缺陷，第一保护层也可平坦化基板表面与增加基板强度。此外，触控显示 面板在第一基板与触控感测层之间通过屏蔽层的设置，可有效降低显示信号与触控信号之 间的信号干扰。
[0065] 最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制； 尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其 依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征 进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技 术方案的范围。
【主权项】
1. 一种触控显示面板的制造方法，其特征在于，包括： 提供第一基板，第一基板具有第一表面； 在第一表面上形成第一保护层以及触控感测层，其中触控感测层位于第一保护层上； 以及 接合第一基板与第二基板，并在第一基板与第二基板之间形成显示介质层。2. 根据权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，其中第一基板还具 有与第一表面相对的第二表面，且在接合第一基板与第二基板之前，还包括： 在第二表面上形成至少一彩色滤光层；以及 在基材上形成至少一主动元件阵列，以形成第二基板。3. 根据权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，在形成显示介质层 之后，还包括：薄化第二基板。4. 根据权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，在形成第一保护层 以及触控感测层之前，还包括：在第一表面上形成屏蔽层。5. 根据权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，在形成第一保护层 以及触控感测层之后，还包括：在触控感测层上形成第二保护层。6. -种触控显示面板，其特征在于，包括： 显示面板，显示面板包括第一基板、第二基板以及位于第一基板与第二基板之间的显 不介质层，第一基板具有第一表面； 屏蔽层，位于第一表面上； 第一保护层，位于屏蔽层上；以及 触控感测层，位于第一保护层上。7. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中第一基板还具有与第一表 面相对的第二表面，且第二表面上形成有至少一彩色滤光层。8. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中第一保护层的厚度为Ιμπι 至 4μm〇9. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中第二基板包括基材以及位 于基材上的至少一主动元件阵列，且基材的厚度为〇. 2毫米至0. 4毫米。10. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中屏蔽层或触控感测层的厚 度小于第一保护层的厚度。11. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，还包括： 第二保护层，位于触控感测层上。12. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中屏蔽层为接地状态。13. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中屏蔽层连接至电平，且电 平为来自显示面板的共通电平或由触控驱动电路所提供的电平。14. 根据权利要求13所述的触控显示面板，其特征在于，其中电平为直流电平。
【专利摘要】本发明提供一种触控显示面板及其制造方法，触控显示面板包括显示面板、屏蔽层、第一保护层以及触控感测层。显示面板包括第一基板、第二基板以及第一基板与第二基板之间的显示介质层。第一基板具有第一表面。屏蔽层位于第一表面上。第一保护层位于屏蔽层上。触控感测层位于第一保护层上。
【IPC分类】G06F3/041
【公开号】CN105487702
【申请号】CN201410529794
【发明人】吴许合, 苏炳源, 林侑正, 李杏樱, 蔡昆华
【申请人】南京瀚宇彩欣科技有限责任公司, 瀚宇彩晶股份有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2014年10月9日
【技术领域】
[0001] 本发明是有关于一种触控显示面板及其制造方法。
【背景技术】
[0002] 触控面板通常包括触控感测层以及承载触控感测层的基板。当触控面板搭配显示 面板而形成触控显示面板时，需考虑到显示面板的显示信号与触控信号相互干扰的问题。 此外，为避免触控感测层遮蔽到来自显示面板的图像光束，触控感测层的材质通常选用光 穿透率好的透明导电材质，如铟锡氧化物。由于铟锡氧化物与基板的折射系数不同，因此在 光束照射至触控面板时，光束在触控感测层所曝露出的基板处的反射率会不同于光束在触 控感测层所在位置的反射率。一般而言，光束在触控感测层所曝露出的基板处的反射率会 小于光束在触控感测层所在位置的反射率，造成使用者在使用时容易看到触控感测层的图 案，而影响了触控面板整体的视觉效果。现有技术有提出对触控感测层的图案明显度的改 良，然而，这些改良并没有有效地降低触控感测层的图案对于人眼的可视性，且制程相对复 杂。
【发明内容】
[0003] 本发明提供一种触控显示面板，其有效地降低触控感测层的图案对于人眼的可视 性，而具有良好的视觉效果。
[0004] 本发明另提供一种触控显示面板的制造方法，其具有相对简易的制造流程。
[0005] 本发明的一种触控显示面板的制造方法，其包括以下步骤。提供第一基板，其中第 一基板具有第一表面。在第一表面上形成第一保护层以及触控感测层，其中触控感测层位 于第一保护层上。接合第一基板与第二基板，并在第一基板与第二基板之间形成一显示介 质层。
[0006] 本发明的一种触控显示面板，其包括显示面板、屏蔽层、第一保护层以及触控感测 层。显示面板包括第一基板、第二基板以及位于第一基板与第二基板之间的显示介质层。第 一基板具有第一表面。屏蔽层位于第一表面上。第一保护层位于屏蔽层上。触控感测层位 于第一保护层上。
[0007] 基于上述，本发明的触控显示面板在第一基板上设置第一保护层，以补偿光束在 触控感测层与基板之间的反射率差异。由于这种图案明显度的改良方法可简化制造流程， 且可有效地降低触控感测层的图案对于人眼的可视性，因此，本发明的触控显示面板可在 相对简易的制造流程下，具有良好的视觉效果。同时，若基板较薄或有表面凹凸缺陷，第一 保护层也可平坦化基板表面与增加基板强度。此外，触控显示面板在第一基板与触控感测 层之间通过屏蔽层的设置，可有效降低显示信号与触控信号之间的信号干扰。
[0008] 为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详 细说明如下。
【附图说明】
[0009] 图1A至图1E是根据本发明的一实施例的触控显示面板的制造流程的剖面示意 图；
[0010] 图2及图3是图1B中触控感测层的两种实施形态的上视示意图；
[0011] 图4是图1D中主动元件阵列及彩色滤光层的示意图；
[0012] 图5及图6是根据本发明的其他实施例的触控显示面板的剖面示意图；
[0013] 图7是根据本发明的一实施例的触控显示装置的剖面示意图。
[0014] 附图标记说明：
[0015] 100、200、300、12 :触控显示面板；
[0016] 110 :第一基板；
[0017] 120:第一保护层；
[0018] 130 :触控感测层；
[0019] 132、134 :感测导线图案；
[0020] 140 :第二基板；
[0021] 142、142'：基材；
[0022] 144 :主动元件阵列；
[0023] 150 :显示介质层；
[0024] 160 :屏蔽层；
[0025] 170 :第二保护层；
[0026] 10 :触控显示装置；
[0027] 14 :背光模块；
[0028] BM:黑矩阵层；
[0029] CFL :彩色滤光层；
[0030] D :方向；
[0031] DL:数据线；
[0032] DP、DP'：显示面板；
[0033] G:间隙；
[0034] Η1、ΗΓ、Η120、Η130、Η160、Η170 :厚度；
[0035] S1 :第一表面；
[0036] S2 :第二表面；
[0037] SL :扫描线；
[0038] TFT :主动元件；
[0039] PE:像素电极；
[0040] P:像素区。
【具体实施方式】
[0041] 图1A至图1E是根据本发明的一实施例的触控显示面板的制造流程的剖面示意 图。图2及图3是图1B中触控感测层的两种实施形态的上视示意图。图4是图1D中主动 元件阵列及彩色滤光层的示意图。触控显示面板100的制造方法包括图1A至图1E的步骤。
[0042] 如图1A所不，提供一第一基板110,其中第一基板110的材质选用透光的材质，其 可以是玻璃、石英、有机聚合物或是其他合适的材料。此外，第一基板110具有一第一表面 S1以及一与第一表面S1相对的第二表面S2。
[0043] 如图1Β所示，在第一表面S1上依次形成一第一保护层120以及一触控感测层 130。本实施例中的触控感测层130的厚度Η130例如为200 ±反(^ )至3000Α ,而第一保 护层120的厚度Η120例如为1微米（μ m)至4μπι，其中第一保护层120的材质可以是无机 材料（例如：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、硅铝氧化物或上述至少两种材料的堆叠层）、有机 材料或上述的组合。此外，形成第一保护层120的方法可根据第一保护层120的材质及厚 度Η120等参数而有所不同。举例说明，形成第一保护层120的方法可以是旋转涂布（spin coating)、狭缝涂布（slit coating)、滅锻（sputter)、蒸锻（evaporation)、毯覆式涂布 (blanket coating)或其他合适的方法。
[0044] 触控感测层130位于第一保护层120上，其材质可以是透明导电材质，如金属氧化 物、石墨烯、纳米碳管等。金属氧化物例如是铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧 化物、铟锗锌氧化物、或其它合适的氧化物、或者是上述至少两种材料的堆叠层。
[0045] 如图2所示，触控感测层130具有多个感测导线图案132、感测导线图案134。这 些感测导线图案132、感测导线图案134彼此电性绝缘且分离设置。并且，这些感测导线图 案132、感测导线图案134之间具有间隙G，其中间隙G曝露出触控感测层130下的膜层，即 间隙G曝露出第一保护层120。
[0046] 当未设置第一保护层120时，间隙G会曝露出第一基板110。由于感测导线图案 132、感测导线图案134与第一基板110的折射系数差异很大，因此光束在间隙G以及在感 测导线图案132、感测导线图案134所在位置的反射率会有极大的差异，造成使用者在使用 时容易看到这些感测导线图案132、感测导线图案134,而影响了触控显示面板整体的视觉 效果。本实施例通过第一保护层120的设置，以补偿光束在间隙G以及在感测导线图案132、 感测导线图案134所在位置的反射率差异，从而降低感测导线图案132、感测导线图案134 的可视性，提升触控显示面板100整体的视觉效果。
[0047] 此外，由于第一保护层120是全面地形成在第一基板110上，而无须对应这些感测 导线图案132、感测导线图案134进行图案化制程，因此可简化制造流程。换言之，本实施 例的触控显示面板100可在相对简易的制造流程下，具有良好的视觉效果。同时，若第一基 板110较薄或有表面凹凸缺陷，第一保护层120也可平坦化第一基板110表面与增加第一 基板110强度。
[0048] 须说明的是，在图2的实施例中，复数个感测导线图案134邻近设置在一个感测导 线图案132旁，但本发明不限于此。如图3所示，感测导线图案132与感测导线图案134也 可沿一方向D交替地排列。图2及图3仅示意性示出两种触控感测层130的实施形态，但 本发明并不限定触控感测层130的实施形态。凡是单层触控感测结构，如多点触控、单点触 控或其他触控的形式以及感测导线图案的形状及感测导线图案的排列形态皆落入本案所 要保护的范围内。
[0049] 接着，如图1C所示，本实施例在接合第一基板110与第二基板140 (示于图1D)之 前，可先在第二表面S2上形成一彩色滤光层CFL，以进行全彩化显示，其中彩色滤光层CFL 与第一保护层120分别位于第一基板110的相对两侧。彩色滤光层CFL可以包括多个红色 滤光图案、多个绿色滤光图案以及多个蓝色滤光图案，但本发明不限定滤光图案的颜色种 类及数量。此外，在形成这些滤光图案之前，本实施例可预先形成黑矩阵层BM，以划分这些 滤光图案。
[0050] 在本实施例中，第一保护层120以及触控感测层130形成在黑矩阵层BM以及彩色 滤光层CFL之前，但本发明不限于此。在另一实施例中，黑矩阵层BM以及彩色滤光层CFL 可形成在先，而第一保护层120以及触控感测层130形成在后。也就是图1B及图1C的步 骤可对调。
[0051] 如图1D所示，接合第一基板110与第二基板140,并在第一基板110与第二基板 140之间形成一显不介质层150,其中第一表面S1位于显不介质层150与第一保护层120 之间。这样，就初步完成集成式（on-cell)触控显示面板的制作，其包括显示面板DP、第一 保护层120以及触控感测层130。显示面板DP包括第一基板110、第二基板140、位于第一 基板110与第二基板140之间的显示介质层150、黑矩阵层BM以及彩色滤光层CFL。在本 实施例中，显示介质层150例如为液晶层，而在彩色滤光层CFL与第二基板140之间形成显 示介质层150的方法可以是液晶滴下注入法（One Drop Fil ling,简称0DF)、真空吸入法或 其他合适的方法。
[0052] 第二基板140包括一基材142以及一位于基材142与显不介质层150之间的主动 元件阵列144,其中主动元件阵列144是在第一基板110与第二基板140接合之前形成于基 材142上。如图4所示,主动元件阵列144包括多条扫描线SL、多条数据线DL、多个主动元 件TFT以及多个像素电极PE。这些扫描线SL与这些数据线DL交错设置以划分出多个像 素区P。在本实施例中，各主动元件TFT分别位于其中一个像素区P内，且与对应的扫描线 SL以及数据线DL电性连接。各像素电极PE分别位于其中一个像素区P内，并与对应的主 动元件TFT电性连接。黑矩阵层BM大致上对应设置在扫描线SL以及数据线DL的上方，用 以遮蔽这些不透光的元件，而彩色滤光层CFL对应像素区P设置。
[0053] 须说明的是，本实施例虽以彩色滤光层CFL与主动元件阵列144分别位于显示介 质层150的相对两侧举例说明，但本发明不限于此。在另一实施例中，彩色滤光层CFL也可 制作于第二基板140上。
[0054] 此外，根据不同的设计需求，显示面板DP可进一步包括其他元件。举例说明，显示 面板DP可进一步包括一共用电极层（未示出）以及设置在显示介质层150相对两侧的配 向层（未示出）等。共用电极层可设置在显示介质层150与彩色滤光层CFL之间，或是与 像素电极PE设置在显示介质层150的同一侧。
[0055] 如图1E所示，在形成显示介质层150之后，本实施例可进一步薄化第二基板140 的基材142,以缩减图1D中显示面板DP的总体厚度。薄化基材142的方法可以是机械研 磨、化学蚀刻或其他合适的薄化方法。在本实施例中，薄化前的基材142的厚度H1例如是 0. 4毫米，而薄化后的基材142'的厚度ΗΓ小于0. 4毫米，例如是0. 25毫米，或是0. 2毫 米。这样，就初步完成了触控显示面板100的制作。
[0056] 在实务上，触控显示面板100可进一步在触控感测层130上形成一盖板（未示 出），以保护触控感测层130,其中盖板相对远离触控感测层130的表面为触控面。所述触 控面即触控感测时，盖板面对使用者的表面。为避免遮蔽显示光束，盖板的材质选用透光的 材质，其可以是玻璃、塑料或其他高机械强度的材质。
[0057] 此外，在形成盖板之前，可进一步在触控感测层130上以及基材142'下分别形成 一偏光片（未示出），其中这两片偏光片的偏极化方向不同，例如是相互垂直，而盖板可通 过一未示出的粘着层而贴附于位于触控感测层130上的偏光片上。
[0058] 图5及图6是根据本发明的其他实施例的触控显示面板的剖面示意图。
[0059] 如图5所示，触控显示面板200大致相同于图1E的触控显示面板100,且相同的 元件以相同的标号表示，在此便不再赘述这些元件的相对配置关系、作用以及功效。主要 的差异在于，本实施例的触控显不面板200进一步包括一屏蔽层160,其中屏蔽层160在第 一保护层120以及触控感测层130之前形成于第一表面S1上，以降低显示面板DP'与触 控感测层130之间的信号干扰。屏蔽层160例如是整面地形成在第一基板110的第一表 面S1上，且屏蔽层160与彩色滤光层CFL分别位于第一基板110的相对两侧。屏蔽层160 的材质为透明导电材质，如前述的金属氧化物、石墨烯、纳米碳管等。而所述降低信号干扰 的方法例如是将屏蔽层160接地或连接至电平。电平可为来自显示面板DP、DP'的共通电 平Vcom(Common Voltage)或由触控驱动电路所提供的电平。其中电平可为直流电平（DC Voltage)。在本实施例中，屏蔽层160的厚度H160小于第一保护层120的厚度H120。详细 说明，屏蔽层160的厚度H160例如为2〇〇A至2000A。
[0060] 另外，如图6所示，触控显示面板300在图5的架构下可进一步包括一第二保护层 170,其中第二保护层170在形成第一保护层120以及触控感测层130之后形成在触控感测 层130上，以保护触控感测层130,达到防刮的效果，并进一步降低感测导线图案132、感测 导线图案134(参见图2或图3)的可视性以及改善串音（cross talk)现象，提升触控显示 面板300整体的视觉效果。
[0061] 第二保护层170可以整面地形成在触控感测层130上，且第二保护层170的材质 可选自第一保护层120的材质。在本实施例中，屏蔽层160的厚度H160小于第一保护层120 的厚度H120以及第二保护层170的厚度H170。举例说明，第二保护层170的厚度H170例 如为Ιμπι至4μπι，其中第一保护层120的厚度H120可相同或不同于第二保护层170的厚 度 Η170。
[0062] 在图5及图6的架构下，触控显示面板200、触控显示面板300也可进一步包括前 述的盖板、偏光片等元件。此外，在图6的架构下，相对邻近触控感测层130的偏光片可设 置在第二保护层170上，而盖板可通过一粘着层贴附在位于第二保护层170上的偏光片上。
[0063] 图7是根据本发明的一实施例的触控显示装置的剖面示意图。如图7所示，触控显 示装置10包括触控显示面板12以及背光模块14,其中背光模块14位于触控显示面板12 的显示面板DP'下。背光模块14可以是直下式背光模块、侧边入光式背光模块或其他可提 供均匀面光源的背光模块。在本实施例中，触控显示面板12采用图5的触控显示面板200。 在其他实施例中，触控显示面板12也可采用图1Ε或图6的触控显示面板100、触控显示面 板300。由于触控显示面板100、触控显示面板200、触控显示面板300的第一保护层120具 有简化的制造流程，因此采用触控显示面板200 (或触控显示面板100、触控显示面板300) 的触控显示装置10可在相对简易的制造流程下，具有良好的视觉效果。
[0064] 综上所述，本发明的触控显示面板在第一基板上设置保护层，以补偿光束在触控 感测层与基板之间的反射率差异。由于这种图案明显度的改良方法可简化制造流程，且可 有效地降低感测导线图案对于人眼的可视性，因此本发明的触控显示面板及应用所述触控 显示面板的触控显示装置可在相对简易的制造流程下，具有良好的视觉效果。同时，若基板 较薄或有表面凹凸缺陷，第一保护层也可平坦化基板表面与增加基板强度。此外，触控显示 面板在第一基板与触控感测层之间通过屏蔽层的设置，可有效降低显示信号与触控信号之 间的信号干扰。
[0065] 最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制； 尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其 依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征 进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技 术方案的范围。
【主权项】
1. 一种触控显示面板的制造方法，其特征在于，包括： 提供第一基板，第一基板具有第一表面； 在第一表面上形成第一保护层以及触控感测层，其中触控感测层位于第一保护层上； 以及 接合第一基板与第二基板，并在第一基板与第二基板之间形成显示介质层。2. 根据权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，其中第一基板还具 有与第一表面相对的第二表面，且在接合第一基板与第二基板之前，还包括： 在第二表面上形成至少一彩色滤光层；以及 在基材上形成至少一主动元件阵列，以形成第二基板。3. 根据权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，在形成显示介质层 之后，还包括：薄化第二基板。4. 根据权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，在形成第一保护层 以及触控感测层之前，还包括：在第一表面上形成屏蔽层。5. 根据权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于，在形成第一保护层 以及触控感测层之后，还包括：在触控感测层上形成第二保护层。6. -种触控显示面板，其特征在于，包括： 显示面板，显示面板包括第一基板、第二基板以及位于第一基板与第二基板之间的显 不介质层，第一基板具有第一表面； 屏蔽层，位于第一表面上； 第一保护层，位于屏蔽层上；以及 触控感测层，位于第一保护层上。7. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中第一基板还具有与第一表 面相对的第二表面，且第二表面上形成有至少一彩色滤光层。8. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中第一保护层的厚度为Ιμπι 至 4μm〇9. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中第二基板包括基材以及位 于基材上的至少一主动元件阵列，且基材的厚度为〇. 2毫米至0. 4毫米。10. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中屏蔽层或触控感测层的厚 度小于第一保护层的厚度。11. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，还包括： 第二保护层，位于触控感测层上。12. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中屏蔽层为接地状态。13. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，其中屏蔽层连接至电平，且电 平为来自显示面板的共通电平或由触控驱动电路所提供的电平。14. 根据权利要求13所述的触控显示面板，其特征在于，其中电平为直流电平。
【专利摘要】本发明提供一种触控显示面板及其制造方法，触控显示面板包括显示面板、屏蔽层、第一保护层以及触控感测层。显示面板包括第一基板、第二基板以及第一基板与第二基板之间的显示介质层。第一基板具有第一表面。屏蔽层位于第一表面上。第一保护层位于屏蔽层上。触控感测层位于第一保护层上。
【IPC分类】G06F3/041
【公开号】CN105487702
【申请号】CN201410529794
【发明人】吴许合, 苏炳源, 林侑正, 李杏樱, 蔡昆华
【申请人】南京瀚宇彩欣科技有限责任公司, 瀚宇彩晶股份有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2014年10月9日
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