触控面板及其触控电极结构的制作方法

触控面板及其触控电极结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及触控面板及其触控电极结构，特别是一种可以减少光线反射的触控面板及其触控电极结构。
【背景技术】
[0002]自从苹果电脑公司(Apple)推出采用电容式触控面板的行动电话和平板电脑之后，流畅与丰富的图形化操作介面以及支援多点触控的功能，提供使用者一种全新的触控体验，有别于以往按键控制的电子产品，也带领了更多的3C资讯产品纷纷开始采用触控面板作为主要的人机介面。
[0003]现有的触控面板是在一基板表面布设感应区，藉由感应区感应手指或其替代物(如触控笔)的位置实现触控的目的。触控面板的技术种类甚多，依侦测方式及其结构可区分为电阻式、电容式、电磁式、红外线式和表面声波式，其中又以电容式触控面板为目前的主流产品。已知的一种触控面板是在一透明基板(如玻璃基板)的表面依X轴和Y轴两个方向设置导线，导线采用透明的导电材料如氧化铟锡(indium tin oxide, ITO)制作，手指触碰基板时藉由交错的导线生一电讯号，再将电讯号传送至一运算电路，通过运算电路即可得知手指和基板碰触的坐标位置。
[0004]已知触控面板之基板表面的X轴和Y轴两个方向的导线的设置位置可分为两种，其中一种方式将X轴和Y轴两个方向的导线分别设置于基板的两个相对表面，另一种方式将X轴和Y轴两个方向的导线设置于基板的同一侧表面，在将X轴和Y轴两个方向的导线之间设置有透明的一电绝缘层，例如，现有的一种电容式触控面板，在基板的一侧表面设置相互交错的X轴导线和Y轴导线，X轴导线和Y轴导线在交错处互相堆迭，X轴导线和Y轴导线之间设置有一电绝缘层构成的「架桥」构造。通常，由于构成X轴导线和Y轴导线ITO薄膜和电绝缘层的材料不同，它们之间的折射系数差异较大，当外部光线入射至电绝缘层时，导致在X轴导线或Y轴导线与电绝缘层接触面产生较强的反射光线，容易导致电绝缘层可见，进而影响触控面板的视觉外观。

【发明内容】

[0005]本发明所欲解决的技术问题在于提供一种可以降低光线反射之触控面板及其触控电极结构。
[0006]为解决上述技术问题，本发明的技术方案为:在触控面板的至少一方向电极和电绝缘层之间设置一种可以降低光线反射的结构体，所述的结构体具有复数个以阵列方式排列的凸起，任二相邻的该凸起以小于或等于可见光波长的间距配置，藉由该结构体降低该电绝缘层在与所述至少一方向电极之接触面的光线反射。
[0007]本发明提出的一种触控电极结构包括:一第一方向电极；一第二方向电极与第一方向电极交错；一电绝缘层，所述电绝缘层具有电绝缘性、透明并且介于该第一方向电极与该第二方向电极之间；及第一结构体，位于该电绝缘层和该第一方向电极之间，该第一结构体具有复数个以阵列方式排列的凸起，任二相邻的该凸起以小于或等于可见光波长的间距配置。
[0008]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第一方向电极包括相互间隔排列于第一方向上的复数个第一导电单元及连接第一方向上相邻之该第一导电单元的一第一导线，该第二方向电极包括相互间隔排列于第二方向上的复数个第二导电单元及连接第二方向上相邻之该第二导电单元的一第二导线，该电绝缘层设置于所述该第一导线与该第二导线之间。
[0009]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第一结构体形成于该电绝缘层面向该第一方向电极的一表面。
[0010]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第一结构体的该些凸起为等间距排列。
[0011]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第一结构体的该些凸起为锥体、弧形锥体和钝弧形锥体其中之任一种或其组合。
[0012]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第一结构体的该些凸起的该间距介于10nm?150nm。
[0013]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第一结构体的该些凸起的高度介于50nm?500nm,该些凸起的最大宽度介于50nm?500nm,该些凸起的该间距介于50nm ?500nmo
[0014]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中还包括:一第二结构体，该第二结构体位于该电绝缘层和该第二方向电极之间，该第二结构体具有复数个以阵列方式排列的凸起，任二相邻的该些凸起以小于或等于可见光波长的间距配置。
[0015]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第二结构体形成于该电绝缘层面向该第二方向电极的一表面。
[0016]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第一方向电极在邻近该第一结构体的表面具有与该第一结构体对应的复数第一凸起，该复数第一凸起的位置对应于该第一结构体之任二相邻之该凸起之间的位置；该第二方向电极在邻近该第二结构体的表面具有与该第二结构体对应的复数第二凸起，该复数第二凸起的位置对应于该第二结构体之任二相邻之该凸起之间的位置。
[0017]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第二结构体的该些凸起为等间距排列。
[0018]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第二结构体的该些凸起为锥体、弧形锥体和钝弧形锥体其中之任一种或其组合。
[0019]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中该第二结构体的该些凸起的该间距介于10nm?150nm。
[0020]在本发明触控电极结构的另一改进的实施例,其中该些凸起的高度介于50nm?500nm,该些凸起的最大宽度介于50nm?500nm,该些凸起的该间距介于50nm?500nm。
[0021]本发明还提出的一种触控面板，包括:透明的一基板；以及所述的触控电极结构，该触控电极结构设置于该基板的一侧表面上。
[0022]在本发明触控面板的另一改进的实施例，其中包括:一第三结构体，该第三结构体位于该基板和该触控电极结构之间，该第三结构体具有复数个以阵列方式排列的凸起，任二相邻的该些凸起以小于或等于可见光波长的间距配置。
[0023]在本发明触控面板的另一改进的实施例，其中该第三结构体形成于该基板邻近该触控电极结构的表面。
[0024]在本发明触控面板的另一改进的实施例，其中该第一方向电极在邻近该第三结构体的表面具有对应该第三结构体的复数第三凸起，该复数第三凸起的位置对应于该第三结构体之任二相邻之该凸起之间的位置；该第二方向电极在邻近该第三结构体的表面具有对应该第三结构体的复数第四凸起，该复数第四凸起的位置对应于该第三结构体之任二相邻之该凸起之间的位置。
[0025]在本发明触控面板的另一改进的实施例，其中包括一显示面板，该触控面板设置于该显示面板的表面，该触控电极结构介于该基板和该显示面板之间。
[0026]本发明提出的触控电极结构只需要设置至少一层结构体，就能降低所述电绝缘层在与所述至少一方向电极之接触面的光线反射；通过本发明改进的一实施例还能够进一步的降低基板与所述至少一方向电极之接触面的光线反射；另一方面，本发明提出的结构体的该些凸起为纳米等级的结构，可以降低光线反射，有效角度广泛，而且有效波长范围大。
【附图说明】
[0027]图1，为本发明触控电极结构的一种实施例构造图，绘示第一方向电极、第二方向电极和电绝缘层的构造。
[0028]图2，为图1在I1-1I位置的构造断面图。
[0029]图3，为图2的局部构造放大图，绘示结构体的一种实施构造的形状。
[0030]图4，绘示本发明触控电极结构的结构体的另一种实施构造的形状。
[0031]图5，为本发明触控电极结构的另一种实施例构造断面图。
[0032]图6，为本发明触控电极结构的另一种实施例构造断面图。
[0033]图7，为本发明触控电极结构的另一种实施例构造断面图，绘示第一方向电极和第二方向电极在邻近结构体的表面还具有对应的复数凸起。
[0034]图8，为本发明触控面板的构造断面图。
[0035]图9，为本发明触控面板的另一种实施例构造断面图。
[0036]图10，为图9绘示之触控面板的另一种改进的实施例构造断面图。
[0037]图11，为本发明触控面板的另一种改进的实施例构造断面图。
【具体实施方式】
[0038]下面结合附图与【具体实施方式】对本发明作进一步详细描述。
[0039]图1，为本发明触控电极结构的一种实施例构造图，绘示第一方向电极10、第二方向电极20和电绝缘层30的构造。图2，为图1在I1-1I位置的构造断面图。图3，为图2的局部构造放大图，绘示结构体的一种实施构造的形状。请参考图1至图3，本发明触控电极结构的一种实施例构造包括:一第一方向电极10 第二方向电极 20,第二方向电极20与第一方向电极10交错；一电绝缘层30，所述电绝缘层30具有电绝缘性、透明并且介于第一方向电极10与第二方向电极20之间；及一结构体40,设置于电绝缘层30和第一方向电极10之间。结构体40具有复数个以阵列方式排列的凸起41a和凸起41b (见图3)，任二相邻的凸起41a和凸起41b以小于或等于可见光波长的间距P配置，所述的间距为二相邻的凸起41a的中心到凸起41b的中心的距离，其中较佳的间距介于10nm?150nm(nanometer,纳米)。
[0040]在本发明触控电极结构的一种实施例，第一方向电极10是延着一第一方向(例如X轴方向)延伸，第二方向电极20是延着不同于第一方向的一第二方向(例如Y轴方向)延伸，第一方向电极10和第二方向电极20除了图式所示的垂直对应关系设置之外，也可以其他非垂直之对应角度设置。
[0041]在本发明触控电极结构的一种实施例，第一方向电极10包括复数个相互间隔排列于第一方向上的第一导电单兀lla、llb,及连接第一方向上相邻之第一导电单兀11a、Ilb的第一导线12。第二方向电极20包括相互间隔排列于第二方向上的复数个第二导电单元21a、21b，及连接第二方向上相邻之第二导电单元21a、21b的第二导线22。电绝缘层30设置于第一导线12与第二导线22之间。
[0042]在本发明触控电极结构的一种实施例，第一导电单元11a、lib、第二导电单元21a,21b和电绝缘层30为透明结构，其中第一导电单元11a、lib、第二导电单元21a、21b使用下列透明导电材料其中之任一种制作，所述透明导电材料包括:氧化铟锡(indium tinoxide, ΙΤ0)、氧化铟锋(indium zinc oxide, IZ0)、氧化镉锡(cadmium tin oxide, CTO)、氧化招锋(aluminum zinc oxide, ΑΖ0)、氧化铟锋锡(indium tin zinc oxide, ΙΤΖ0)、氧化锋(zinc oxide)、氧化镉(cadmium oxide)、氧化給(hafnium oxide, HfO)、石墨烯(Graphene)或纳米银线(Ag nanowire)以及纳米碳管(Carbon nanotubes, CNT)。电绝缘层30采用透明绝缘材料制作，例如，二氧化娃(Si02)、氮化娃(SiN)、聚酰亚胺(Polyimide)等其中之任一种。第一导线12及第二导线22可以米用与第一导电单兀11a、lib、第二导电单兀21a、21b相同的透明导电材料制作，也可以采用钥、铝、铜等金属材料制作。
[0043]在本发明触控电极结构的一实施例，结构体40形成于电绝缘层30面向第一方向电极10的一表面，具体的，可由电绝缘层30的上表面形成，意即结构体40与电绝缘层30是一体的结构。如图2所示的一种构造，其中的结构体40是由电绝缘层30的上表面形成。
[0044]具体而言，结构体40可采用热压型之纳米级压印方式来制作，亦可透过紫外光固化型之纳米级压印方式来制作，或是透过阳极氧化铝(AAO)之纳米级模板压印方式来制作。在一实施例中，上述结构体40将制作在平板上的纳米级图案以压印(roll-to-rool)的方式转印上去，亦可利用制作在滚筒上的纳米级图案以压印的方式来转印上去，转印的纳米级图案使用氧化铝板的技术来制作，亦可在特定基材上利用微影蚀刻来制作。
[0045]结构体40的一种实施例构造如图3所示，结构体40具有复数个以阵列方式排列的凸起41a和凸起41b，其中一种实施方式，复数个凸起41a和凸起41b为等间距排列；其中一种实施方式，复数个凸起41a和凸起41b的形状相同，所述的形状如图4所示，可以是锥体al、弧形锥体a2或是钝弧形锥体a3其中之任一种或其组合。在本发明触控电极结构的一实施例，结构体40的该些凸起41a和凸起41b的高度H介于50nm?500nm,该些凸起41a和凸起41b的最大宽度W介于50nm?500nm，该些凸起41a和凸起41b的间距P介于50nm ?500nmo
[0046]如图5所示，为本发明触控电极结构的另一改进的实施例构造断面图。如图5所示，该实施例与图3所示实施例的区别在于，结构体40是设置于电绝缘层30和第二方向电极20之间。进一步的，是在电绝缘层30面向第二方向电极20的一侧面(图5绘示为电绝缘层30的下表面)形成结构体40。结构体40与电绝缘层30是一体的结构。该实例的其它构件与图3实施例基本相同，故不再赘述。
[0047]综合图3与图5的实施例，本发明触控电极结构只需要设置至少一层结构体40，就能降低所述电绝缘层30在与所述至少一方向电极(可以是第一方向电极10和第二方向电极20其中之任一者)之接触面的光线反射。详细而言，本发明触控电极结构通过所述结构体40的复数个纳米等级的凸起41a和凸起41b可以形成一种类似蛾眼(moth_eye)的结构，复数个纳米等级的凸起41a和凸起41b的尺寸小于或等于可见光的波长。在本发明触控电极结构的另一改进实施方式中，复数个纳米等级的凸起41a和凸起41b之高度接近可见光的波长。假设第一方向电极10 (或第二方向电极20)的折射系数为NI，电绝缘层30的折射系数为N2，根据等效介质理论可以理解，可见光通过这些纳米等级的结构体40和电绝缘层30的过程中，可见光通过路径的介质的折射系数会介于NI与N2之间，并随着第一方向电极10(或第二方向电极20)与电绝缘层30相对体积比率而改变。因此，结构体40会改变第一方向电极10 (或第二方向电极20)与电绝缘层30之接触面的折射系数变化，即等效的介面折射系数会由NI以渐变的方式变化到N2，如此，可见光无法辨识出第一方向电极10(或第二方向电极20)与电绝缘层30之间介面的存在，进而降低因为第一方向电极10(或第二方向电极20)与电绝缘层30之接触面折射系数差异造成的光反射现象。另外，与传统的利用不同折射系数的多层薄膜产生薄膜干涉来降低光反射现象的技术相比，本发明之结构体40不受到入射光波长及有效角度的限制，对入射光之有效角度范围广泛，而且有效波长范围大。
[0048]如图6所示，在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，其中包括有一第一结构体40a和一第二结构体40b，第一结构体40a位于电绝缘层30和第一方向电极10之间，第二结构体40b位于电绝缘层30和第二方向电极20之间。其中一种实施方式如图6所示，第一结构体40a形成于电绝缘层30面向第一方向电极10的表面(如图6所不为电绝缘层30的上表面)，第二结构体40b形成于电绝缘层30面向第二方向电极20的表面如图6所示为电绝缘层30的下表面，也即第一结构体40a由电绝缘层30的上表面形成，第二结构体40b由电绝缘层30的下表面形成。如此，由于电绝缘层30与第一方向电极10、第二方向电极20之间分别设置了结构体40a和40b，故可同时降低电绝缘层30与第一方向电极10、第二方向电极20之介面的光线反射，进一步提高触控电极的穿透率。
[0049]如图7所示，在本发明触控电极结构的另一改进的实施例，所述第一方向电极10在邻近第一结构体40a的表面还具有对应的复数第一凸起13，也即，第一方向电极10邻近第一结构体40a的表面的形状是跟随第一结构体40a的变化而变化，所述的复数第一凸起13的位置对应于第一结构体40a之任二相邻凸起41a和凸起41b之间的位置，具体的，第一凸起13可嵌入于第一结构体40a之任二相邻凸起41a和凸起41b之间的位置。图7为能清楚显示第一凸起13的结构，并未将第一凸起13完全嵌于第一结构体40a之任二相邻凸起41a和41b之间所形成的凹槽中。所述第二方向电极20在邻近第二结构体40b的表面还具有对应的复数第二凸起23，也即，第二方向电极20邻近第二结构体40b的表面的形状是跟随第二结构体40b的变化而变化，所述的复数第二凸起23的位置对应于第二结构体40b之任二相邻凸起42a和凸起42b之间的位置，具体的，第二凸起23可嵌入于第二结构体40b之任二相邻凸起42a和凸起42b之间的位置。图7为能清楚显示第二凸起23的结构，并未将第一凸起13完全嵌于第一结构体40a之任二相邻凸起41a和41b之间所形成的凹槽中。透过该些第一凸起13和第二凸起23、第一结构体40a的凸起41a和凸起41b及第二结构体40b的凸起42a和凸起42b,可以降低所述电绝缘层30在与所述第一方向电极10和第二方向电极20之接触面的光线反射。
[0050]由图8绘示本发明触控面板的构造断面图可知，本发明通过在一透明的基板50的一侧表面设置有前述之触控电极结构，提供一种可以降低光线反射的触控面板60。如图8所示，本发明提出的触控面板60包括:一透明的基板50 ;以及前述其中一实施例的触控电极结构，该触控电极结构设置于基板50的一侧表面。基板 50可作为触控电极结构的承载板，使触控电极结构易于与其它元件例如触控面板的外盖板贴合，另外，基板50也可以既作为触控电极的承载板同时又作为触控面板的外盖板，也即触控电极直接形成于基板50上，基板50可提供使用者触控接触面。基板50可为一上表面和下表面经过强化或六面均经过强化的基板50。
[0051]在本发明触控面板的一种实施例，基板50使用下列透明材料其中之任一种制作，所述透明材料包括:玻璃(Glass)、聚碳酸脂(polycarbonate, PC)、聚对苯二甲酸乙二脂(polyethylene terephthalate, PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(polymethylmesacrylate, PMMA) > 聚讽(Polysulfone, PES)以及环烯共聚物(cyclicolefin copolymer)。在本发明的一实施例中，基板50可为一玻璃平板或塑胶平板。
[0052]图9绘示的是本发明触控面板60的另一改进的一实施例构造，包括:所述的基板50、前述其中一实施例的触控电极结构，以及一第三结构体70，第三结构体70形成于基板50邻近所述触控电极结构的一侧表面51，第三结构体70的一种实施方式是形成于所述基板50邻近所述触控电极结构的表面51，且第三结构体70和基板50为一体的结构，第三结构体70具有复数个以阵列方式排列的凸起71a和凸起71b，任二相邻的该些凸起71a和凸起71b以小于或等于可见光波长的间距P配置。藉此，可降低触控电极结构与基板50之接触面的光线反射，提高触控面板60的光穿透率。
[0053]图10绘示前述触控面板60的另一种实施例构造，其中第一方向电极10在邻近第三结构体70的表面还具有对应的复数第三凸起14，也即，第一方向电极10邻近第三结构体70的表面的形状是跟随第三结构体70的变化而变化，所述的复数第三凸起14的位置对应于第三结构体70之任二相邻凸起71a和凸起71b之间的位置，具体的，第三凸起14可嵌入于第三结构体70之任二相邻凸起71a和凸起71b之间的位置。图10为能清楚显示第三凸起14的结构，并未将第三凸起14完全嵌于第一结构体40a之任二相邻凸起71a和凸起71b之间所形成的凹槽中。第二方向电极20在邻近第三结构体70的表面还具有对应的复数第四凸起24，也即，第二方向电极20邻近第三结构体70的表面的形状是跟随第三结构体70的变化而变化，由于图10为一断面图，其中第二方向电极20邻近第三结构体70的位置为第二导线22，所述的复数第四凸起24的位置对应于第三结构体70之任二相邻凸起71a和凸起71b之间的位置，具体的，第四凸起24可嵌入于第三结构体70之任二相邻凸起71a和凸起71b之间的位置。图10为能清楚显示第四凸起24的结构，并未将第四凸起24完全嵌于第三结构体70之任二相邻凸起71a和凸起71b之间所形成的凹槽中。透过该些第三凸起14、第四凸起24和第三结构体70，可以降低所述基板50在与所述第一方向电极10和第二方向电极20之接触面的光线反射。在其他实施例中，电绝缘层30与基板50接触的表面也可相应形成有凸起，以降低电绝缘层30与基板50之间的介面因折射率系数差异造成的光线反射。
[0054]图11绘示的是触控面板60的另一改进实施例，其中的触控面板60包括一显示面板80如液晶显示面板(Liquid Crystal Display, LCD),触控面板60设置于显示面板80的表面，所述触控电极结构的其中一实施例介于基板50和显不面板80之间，其中的基板50采用强化的基板50，以供使用者透过触碰基板20的方式进行触控操作。
[0055]以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。
【主权项】
1.一种触控电极结构，其特征在于，包括:一第一方向电极，该第一方向电极可导电且透明；一第二方向电极，该第二方向电极可导电且透明，该第二方向电极与该第一方向电极交错；一电绝缘层，该电绝缘层具有电绝缘性、透明并且介于该第一方向电极与该第二方向电极之间；及一第一结构体，位于该电绝缘层和该第一方向电极之间，该第一结构体具有复数个以阵列方式排列的凸起，任二相邻的该些凸起以小于或等于可见光波长的间距配置。2.如权利要求1所述之触控电极结构，其特征在于，该第一方向电极包括相互间隔排列于第一方向上的复数个第一导电单元及连接第一方向上相邻之该第一导电单元的一第一导线，该第二方向电极包括相互间隔排列于第二方向上的复数个第二导电单元及连接第二方向上相邻之该第二导电单元的一第二导线，该电绝缘层设置于所述该第一导线与该第二导线之间。3.如权利要求1所述之触控电极结构，其特征在于，该第一结构体形成于该电绝缘层面向该第一方向电极的一表面。4.如权利要求1所述之触控电极结构，其特征在于，该第一结构体的该些凸起为等间距排列。5.如权利要求1所述之触控电极结构，其特征在于，该第一结构体的该些凸起为锥体、弧形锥体和钝弧形锥体其中之任一种或其组合。6.如权利要求1所述之触控电极结构，其特征在于，该第一结构体的该些凸起的该间距介于10nm?150nm。7.如权利要求1所述之触控电极结构，其特征在于，该第一结构体的该些凸起的高度介于50nm?500nm,该些凸起的最大宽度介于50nm?500nm,该些凸起的该间距介于50nm ?500nmo8.如权利要求1所述之触控电极结构，其特征在于，还包括:一第二结构体，该第二结构体位于该电绝缘层和该第二方向电极之间，该第二结构体具有复数个以阵列方式排列的凸起，任二相邻的该些凸起以小于或等于可见光波长的间距配置。9.如权利要求8所述之触控电极结构，其特征在于，该第二结构体形成于该电绝缘层面向该第二方向电极的一表面。10.如权利要求8所述之触控电极结构,其特征在于,该第一方向电极在邻近该第一结构体的表面具有与该第一结构体对应的复数第一凸起，该复数第一凸起的位置对应于该第一结构体之任二相邻之该凸起之间的位置；该第二方向电极在邻近该第二结构体的表面具有与该第二结构体对应的复数第二凸起，该复数第二凸起的位置对应于该第二结构体之任二相邻之该凸起之间的位置。11.如权利要求8所述之触控电极结构，其特征在于，该第二结构体的该些凸起为等间距排列。12.如权利要求8所述之触控电极结构，其特征在于，该第二结构体的该些凸起为锥体、弧形锥体和钝弧形锥体其中之任一种或其组合。13.如权利要求8所述之触控电极结构，其特征在于，该第二结构体的该些凸起的该间距介于10nm?150nm。14.如权利要求8所述之触控电极结构，其特征在于，该些凸起的高度介于50nm?500nm,该些凸起的最大宽度介于50nm?500nm,该些凸起的该间距介于50nm?500nm。15.一种如权利要求1所述之触控电极结构的触控面板，其特征在于，包括:透明的一基板；以及所述的触控电极结构，该触控电极结构设置于该基板的一侧表面上。16.如权利要求15所述之触控面板，其特征在于，包括:一第三结构体，该第三结构体位于该基板和该触控电极结构之间，该第三结构体具有复数个以阵列方式排列的凸起，任二相邻的该些凸起以小于或等于可见光波长的间距配置。17.如权利要求16所述之触控面板，其特征在于，该第三结构体形成于该基板邻近该触控电极结构的表面。18.如权利要求15所述之触控面板，其特征在于，该第一方向电极在邻近该第三结构体的表面具有对应该第三结构体的复数第三凸起，该复数第三凸起的位置对应于该第三结构体之任二相邻之该凸起之间的位置；该第二方向电极在邻近该第三结构体的表面具有对应该第三结构体的复数第四凸起，该复数第四凸起的位置对应于该第三结构体之任二相邻之该凸起之间的位置。19.如权利要求15所述之触控面板，其特征在于，包括一显示面板，该触控面板设置于该显示面板的表面，该触控电极结构介于该基板和该显示面板之间。
【专利摘要】本发明提供一种触控面板及其触控电极结构，所述触控电极结构为透明结构，包括：一第一方向电极；一第二方向电极与第一方向电极交错；一电绝缘层，介于第一方向电极与第二方向电极之间；及一结构体，至少设置于电绝缘层和第一方向电极之间，结构体具有复数个以阵列方式排列的凸起，任二相邻的凸起以小于或等于可见光波长的间距配置，可以降低电绝缘层在与第一方向电极之接触面的光线反射。本发明的另一方面，包括在一基板设置所述的触控电极结构，构成一种可降低光线在电绝缘层之位置反射的触控面板。
【IPC分类】G06F3/044
【公开号】CN104881185
【申请号】CN201410069807
【发明人】刘仁昌, 邱宗科, 连虹艳
【申请人】宸鸿科技(厦门)有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2014年2月27日