沉积反射膜生产工艺的制作方法

xiaoxiao2020-10-23  10

沉积反射膜生产工艺的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及太阳能电池片生产领域,具体涉及沉积反射膜生产工艺。
【背景技术】
[0002] 在现阶段的太阳能电池片生产工艺中,电池的生产需要经过沉积反射膜工艺来提 高电池的质量。在传统的沉积反射膜工艺中主要是需要经过:进炉一升温及稳定一预沉 积一沉积Si xNy-出炉,在现阶段的"升温及稳定"步与"预沉积"步分立开,增加了不必要的 工艺时间,给企业的生产带来不便。

【发明内容】

[0003] 为解决上述技术问题,本发明提出了一种沉积反射膜生产工艺,以达到优化生产 工艺、节省生产时间和提高生产效率的目的。
[0004] 为达到上述目的,本发明的技术方案如下:
[0005] 一种沉积反射膜生产工艺,其工艺步骤如下:
[0006] (1).将硅片插入到石墨舟中,同时将石墨舟送入加热炉内;
[0007] (2).对加热炉进行升温,并且在升温的过程中通入氨气加射频,进行预沉积工 乙;
[0008] (3).通入氨气和硅烷,进行沉积工艺;
[0009] (4).将沉积后的硅片取出,完成整个生产工艺。
[0010] 作为优选的,所述步骤(2)中的炉温控制在450° ±5°。
[0011] 作为优选的,所述步骤⑵中升温时间为6分钟。
[0012] 作为优选的,所述步骤(2)中氨气通入时间为6分钟。
[0013] 通过上述技术方案,本发明通过在对加热炉升温的同时进行预沉积工艺,达到优 化生产工艺、节省生产时间和提高生产效率的目的。
【具体实施方式】
[0014] 下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0015] 本发明提供了一种沉积反射膜生产工艺,其工作原理是通过在对加热炉升温的同 时进行预沉积工艺,达到优化生产工艺、节省生产时间和提高生产效率的目的。
[0016] 下面结合实施例和【具体实施方式】对本发明作进一步详细的说明。
[0017] -种沉积反射膜生产工艺,工艺步骤如下:
[0018] (1).将硅片插入到石墨舟中,同时将石墨舟送入加热炉内;
[0019] (2).对加热炉进行升温,并且在升温的过程中通入氨气加射频,进行预沉积工 乙;
[0020] (3).通入氨气和硅烷,进行沉积工艺;
[0021] (4).将沉积后的硅片取出,完成整个生产工艺。
[0022] 值得注意的是,所述步骤(2)中的炉温控制在450° ±5°。
[0023] 值得注意的是,所述步骤(2)中升温时间为6分钟。
[0024] 值得注意的是,所述步骤(2)中氨气通入时间为6分钟。
[0025] 下表是传统工艺和本发明的实验数据对比:
[0026] 同样生产7200片,工艺对比如下表:
[0027]
[0028] 从上述时间对比可以看出,在生产同样数量的产品情况下,本发明所用时间比较 少,节省了生产时间,提高了生产效率。
[0029] 通过以上的方式,本发明所提供的沉积反射膜生产工艺,实现了在对加热炉升温 的同时进行预沉积工艺,达到优化生产工艺、节省生产时间、提高生产效率和促进企业发展 的目的。
[0030] 以上所述的仅是本发明所公开的沉积反射膜生产工艺的优选实施方式,应当指 出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干 变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。
【主权项】
1. 一种沉积反射膜生产工艺,其特征在于,工艺步骤如下: (1) .将硅片插入到石墨舟中,同时将石墨舟送入加热炉内; (2) .对加热炉进行升温,并且在升温的过程中通入氨气加射频,进行预沉积工艺; (3) .通入氨气和硅烷,进行沉积工艺; (4) .将沉积后的硅片取出,完成整个生产工艺。2. 根据权利要求1所述的沉积反射膜生产工艺,其特征在于,所述步骤(2)中的炉温控 制在450° ±5°,射频功率为6280W。3. 根据权利要求1所述的沉积反射膜生产工艺,其特征在于,所述步骤(2)中升温时间 为6分钟。4. 根据权利要求1所述的沉积反射膜生产工艺,其特征在于,所述步骤(2)中氨气通入 时间为6分钟,。
【专利摘要】本发明公开了一种沉积反射膜生产工艺,其工艺步骤如下:(1).将硅片插入到石墨舟中,同时将石墨舟送入加热炉内;(2).对加热炉进行升温,并且在升温的过程中通入氨气加射频,进行预沉积工艺;(3).通入氨气和硅烷,进行沉积工艺;(4).将沉积后的硅片取出,完成整个生产工艺。通过在对加热炉升温的同时进行预沉积工艺,达到优化生产工艺和提高生产效率的目的。
【IPC分类】C23C16/34, H01L31/0216, C23C16/02
【公开号】CN104882493
【申请号】CN201510202476
【发明人】樊选东, 郭建东, 杨冬生, 钱明星, 钱小芳
【申请人】中建材浚鑫科技股份有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2015年4月24日
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