光学物品、用于制造光学物品的模具和模具的制造方法

光学物品、用于制造光学物品的模具和模具的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及光学物品、用于制造光学物品的模具和模具的制造方法，尤其涉及微 细凹凸转印用模具的制造方法以及该模具、使用该模具制作的防反射薄膜。
【背景技术】
[0002] 作为在光学物品表面形成微细凹凸结构的方法，是如下进行的方法：在辊状模子 (模具）周围配置长条状的基材，向辊状模子与基材之间填充活性能量射线固化性树脂组 合物，透过基材对活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线使其固化，将固化树 脂层和基材从辊状模子剥离，连续制造成形体。
[0003] 如此连续制造的成形体有时根据使用的制品规格而被切断或裁切加工成规定的 形状。但是，所制造的成形体有时包含不满足要求特性的缺陷部位。为了避免这样的缺陷 部位而进行切断或裁切加工成规定的形状，通常对成形体实施标记，从而可以容易地识别/ 去除缺陷部位。
[0004] 作为在成形体上标记缺陷部位等的方法有：在薄膜上直接标记的方法；和在模子 (模具）上形成标记，将其转印至成形体来进行标记的方法。
[0005] 专利文献1公开了可以在片状制品的缺陷部位直接用笔实施标记的缺陷标记装 置。另外，专利文献2公开了使在片状制品的缺陷部分的附近的、该缺陷部分的宽度方向的 两端带有标记用的伤痕的缺陷标记方法。
[0006] 另外，为了确定转印到成形体上的缺陷的位置与模具上的哪个位置相当而进行如 下方法：预先使辊状模子的周边部位带有伤痕来实施标记，通过缺陷部位与标记的位置比 较来确定模具上的缺陷部位。专利文献3公开了对模子的端部实施标记，在薄膜上转印周 期与模子的外周对应的标记的方法，专利文献4和5公开了制造的板、薄膜的检查方法。
[0007] 现有专利文献
[0008] 专利文献
[0009] 专利文献1 :日本特开平9-304295号公报
[0010] 专利文献2 :日本特开2002-303580号公报
[0011] 专利文献3 :日本特开2011-220967号公报
[0012] 专利文献4 :日本特开2011-226957号公报
[0013] 专利文献5 :日本特开2012-26863号公报

【发明内容】

[0014] 发明要解决的问题
[0015] 近年，随着微细加工技术的进步，可以对成形体表面赋予纳米级的微细凹凸结构。 纳米级的微细凹凸结构可以发挥例如称作蛾眼效果的防反射功能、称作荷叶效应的拒水功 能这样来源于结构的功能，因此积极谋求纳米级的微细凹凸结构的工业上的利用。
[0016] 使用赋予纳米级的微细凹凸结构的辊状模子连续制造的成形体有时根据使用的 制品规格而被切断或裁切加工成规定的形状，因此优选对成形体实施标记，可以容易地识 别/去除缺陷部位。
[0017] 但是，本发明人等进行了研宄，结果发现，表面赋予了微细凹凸结构的成形体具有 称作荷叶效应的拒水功能等，因此难以像专利文献1公开的那样用笔标记、另外有时标记 容易消失。另外，作为实施标记的后续工序，在对成形体进行化学试剂处理等的情况下，有 时标记渗出消失。
[0018] 另外，上述专利文献2记载的缺陷标记法是使薄膜带有伤痕而非用墨标记的方 法。若是这样的方法，则虽然在后续工序中标记不消失，但由于使薄膜带伤痕时形成了与 纳米级的微细凹凸结构相比非常大的凹凸，因此存在如下等问题：将薄膜卷取成辊状时，有 时伤痕转印到他处，有时与伤痕的部分重合地卷取的部分的微细凹凸结构由于伤痕引起变 形。
[0019] 另外发现，专利文献3记载的那样使模子带有伤痕的方法中，在将成形体卷取成 辊状时，与标记部分重合的位置产生瘪痕那样的缺陷。若利用专利文献3记载的那样的使 模子带有伤痕的方法，则在成形体上形成与伤痕对应的凸部。如此形成的凸部与表面形成 的纳米级的微细凹凸结构相比非常大。可知将这样的具有凸部的成形体进行卷取时，在与 该凸部重合的部分形成的微细凹凸结构变形，进而产生缺陷。
[0020] 进而明确，表面形成有纳米级的微细凹凸结构的成形体，尤其是防反射性能、透明 性优异，因此上述瘪痕这样的缺陷容易被察觉、制品的成品率大幅降低。
[0021] 为了防止这样的缺陷产生，认为带有小于纳米级的微细凹凸结构的伤痕即可，但 难以简便地制成这样的伤痕、另外也难以用检查机器检出制成的伤痕。
[0022] 进一步，将成形体卷取成辊状，在微小的伤痕上重叠多层成形体时，有时产生卷 褶，有时产生在卷褶的部分形成的纳米级的微细凹凸结构变形等问题。
[0023] 用于解决问题的方案
[0024] 本发明的发明人深入研宄，结果发现，容易地制造在卷取薄膜时不产生瘪痕地实 施了标记的微细凹凸转印用模子（模具）的方法，从而完成本发明。
[0025] 根据本发明，提供一种用于制造光学物品的模具，其特征在于，该模具用于制造表 面具有周期为可见光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的光学 物品，前述模具具有转印区域，在该转印区域设置有具有与前述光学物品的凸部和凹部互 补的尺寸形状的凹部和凸部，在前述转印区域设置标记部且该标记部的凸部的高度比转印 区域的其它部分的凸部的高度低。
[0026] 使用这样的模具制造的成形体由于纳米级的微细凹凸结构的凸部为大致相同的 高度，因此即使将成形体卷取成辊状时，也可以抑制卷褶的产生、可以防止微细凹凸结构变 形。另一方面，成形体上的标记部的凹部的高度比其它形成有凹部的区域的凹部的高度高 (即，凹部的深度比其它形成有凹部的区域的凹部的深度浅），由此光的反射率、透明性变 化，从而可以容易地识别标记部。
[0027] 本发明的一个方式的特征在于，前述模具为通过对铝进行阳极氧化而制造的多孔 氧化铝模具，前述标记部是使前述多孔氧化铝模具与可以溶解前述多孔氧化铝模具的蚀刻 液接触而形成的。
[0028] 本发明的一个方式的特征在于，前述标记部具有包含文字、几何形状、几何图案、 识别记号中的至少一种的表面形状。另外，本发明的一个方式的特征在于，前述模具的外形 为辊形状。
[0029] 另外，根据本发明，提供一种光学物品，其特征在于，该光学物品在表面具有周期 为可见光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部，该光学物品具有 标记部且前述凹部的高度比其它形成有凹部的区域的凹部的高度高。
[0030] 本发明的一个方式的特征在于，前述标记部具有包含文字、数字、几何形状、几何 图案、识别记号中的至少一种的表面形状。
[0031] 另外，根据本发明，提供一种模具的制造方法，其特征在于，其为表面具有周期为 可见光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的模具的制造方法， 该制造方法具有：凹凸形成工序，在前述模具的表面形成前述凸部和前述凹部；标记工序， 使形成有前述凸部和前述凹部的区域的一部分与用于溶解前述模具的液体接触，使前述凸 部的高度比通过前述凹凸形成工序形成的凸部的高度低。
[0032] 本发明的一个方式的特征在于，前述凹凸形成工序包括：阳极氧化处理，对铝母材 进行阳极氧化，在前述铝母材的表面形成微细凹结构；和扩大处理，使前述微细凹结构与蚀 刻液接触，扩大前述微细凹结构的口径。
[0033] 本发明的一个方式的特征在于，前述标记工序使用的液体与前述扩大处理使用的 蚀刻液为同一组成。
[0034] 本发明的一个方式的特征在于，前述标记工序使用的液体和前述蚀刻液包含磷 酸。
[0035] 本发明的一个方式的特征在于，前述标记工序使用的液体的20°C下的粘度为 0· 5 ~5000cP〇
[0036] 本发明的一个方式的特征在于，前述标记工序使用的液体的20°C下的粘度为1~ 1500cP〇
[0037] 本发明的一个方式的特征在于，前述标记工序使附着有前述液体的部件与前述模 具接触。
[0038] 另外，本发明的一个方式提供一种表面具有微细凹凸结构的薄膜的制造装置，其 特征在于，将通过特征如下的模具的制造方法制造的、表面具有微细凹凸结构的辊状模子 的表面的微细凹凸结构转印到与辊状模子的旋转同步地沿着辊状模子的部分表面移动的 带状薄膜主体的表面，从而得到表面具有微细凹凸结构的薄膜，用卷取辊将前述薄膜进行 卷取，所述模具的制造方法的特征在于，其为表面具有周期为可见光的波长以下的多个凸 部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的模具的制造方法，该制造方法具有：凹凸形成工 序，在前述模具的表面形成前述凸部和前述凹部；标记工序，使形成有前述凸部和前述凹部 的区域的一部分与用于溶解前述模具的液体接触，使前述凸部的高度比通过前述凹凸形成 工序形成的凸部的高度低。
[0039] 发明的效果
[0040] 根据本发明，可以容易地对模具进行标记，即使在将成形体卷取成辊状时也不产 生瘪痕。另外，能够由成形体上的标记位置相对地把握来自模具的缺陷位置。
[0041] 来自模具的缺陷还包含小的缺陷、也存在通过赋形后的检查也不能发现的缺陷， 但根据本发明，可以在赋形前的模具自身的缺陷检查时由标记位置把握相对的缺陷位置。 进而牵涉到提高根据制品规格切断时的成品率。
【附图说明】
[0042] 图1为表示模子（模具）的制造方法的概要的截面图。
[0043] 图2为表不成形体的制造装置的不意图。
[0044]图3为表示具有标记部的模具和使用该模具制造的成形体的示意性截面图。
[0045] 图4为表示标记溶液的接触方法的示意图。
[0046] 图5为使用具有标记部的模具制造的成形体的示意图。
【具体实施方式】
[0047] 本说明书中，"细孔"是指铝基材的表面的氧化覆膜中形成的微细凹凸结构的凹 部。
[0048] 另外，"细孔的间隔"是指邻接的细孔彼此的中心间距离。
[0049] 另外，"突起"是指在成形体的表面形成的微细凹凸结构的凸部。
[0050] 另外，"微细凹凸结构"是指邻接的凸部和邻接的凹部的平均间隔为10~400nm的 结构。
[0051] 另外，"凸部的高度"是指以在模具或成形体的表面形成的微细凹凸结构的凹部的 最深部彼此连接的面为基准的、凸部的顶部的高度。例如，图3中hl、h2表示凸部的高度。
[0052] 另外，"凹部的高度"是指以在模具或成形体的表面形成的微细凹凸结构的凹部的 最深部彼此连接的面为基准的、凹部的底部的高度。例如，图3中h0、h0'、h3表示凹部的高 度。
[0053] 另外，"（甲基）丙烯酸酯"是丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的总称。
[0054] 另外，"活性能量射线"是指可见光线、紫外线、电子射线、等离子体、热线（红外线 等）等。
[0055] <模子（模具）的制造方法>
[0056] 对使模子（模具）形成微细凹凸结构的方法没有特别的限定，作为其具体例子，可 列举出电子束光刻法、激光干涉法等。例如，在适当的支撑基板上涂布适当的光致抗蚀膜， 用紫外线激光、电子射线、X射线等光曝光，进行显影，从而得到形成有微细凹凸结构的模 具，可以将该模具直接用作母模。另外，介由光致抗蚀层通过干式蚀刻对支撑基板进行选择 性蚀刻，去除前述抗蚀层，由此可以在支撑基板上直接形成微细凹凸结构。
[0057] 另外，也可以将多孔阳极氧化铝用作模子。作为多孔阳极氧化错，例如可以将以草 酸、硫酸、磷酸等作为电解液在规定的电压下对铝进行阳极氧化而形成的微细凹凸结构用 作模具。以下对将多孔阳极氧化铝用作模具时的具体例子进行说明。
[0058] 根据本发明的一个实施方式，模子的制造方法具有下述工序（a)~工序（f)。
[0059] 工序（a)，对经机械加工的铝基材施加电压，对前述铝基材的表面进行阳极氧化而 形成氧化覆膜。
[0060] 工序（b)，去除前述工序（a)中形成的氧化覆膜的至少一部分。
[0061] 工序（C)，在前述工序（b)或下述工序（d)之后，对铝基材进行阳极氧化，形成具有 多个细孔的氧化覆膜。
[0062] 工序（d)，在前述工序（c)之后，扩大细孔的孔径。
[0063] 工序（e)，交替重复前述工序（C)和前述工序（d)。
[0064] 工序（f)，溶解一部分氧化覆膜，在模子上形成标记部。
[0065] (工序（a))
[0066] 工序（a)是对经机械加工的铝基材施加电压，对前述铝基材的表面进行阳极氧化 而形成氧化覆膜的第一氧化覆膜形成工序。
[0067] 进彳丁工序（a)时，例如如图1所不，在错基材10的表面形成具有多个细孔12的氧 化覆膜14。
[0068] 将铝基材的表面的一部分或全部浸渍在电解液中进行阳极氧化，由此浸渍在电解 液中的部分可以形成氧化覆膜。对于在阳极氧化的初期形成的氧化覆膜，细孔的位置、大小 不均匀且没有规则性，随着氧化覆膜增厚，细孔的排列的规则性渐渐增加。
[0069] 对铝基材的形状没有特别的限定，有板状、圆柱状、圆筒状等，只要是可以用作模 子的形状，则可以是任意形状。
[0070] 作为铝基材，使用经机械加工的铝基材。
[0071] 本发明中的"机械加工"是指对铝基材的表面进行物理切削或研磨而非进行电解 研磨的镜面化。需要说明的是，物理研磨也包括"带研磨"。
[0072] 铝基材的纯度优选为97质量％以上，更优选为99. 0质量％以上，进一步优选为 99. 5质量％以上，最优选为99. 9质量％以上。铝的纯度低时，进行阳极氧化时有时由于杂 质的偏析而形成可见光发生散射的大小的凹凸结构、或通过阳极氧化得到的细孔的规则性 降低。
[0073] 然而，使用纯度高的铝时，在加工成所期望的形状（例如圆筒状等）时，有时过于 柔软而变得难以加工。因此，作为铝基材也可以采用在铝中添加镁并加工成规定的形状。通 过添加镁，铝的强度增高而变得容易加工。但是，随着镁的添加量增加，将得到的模具的微 细凹凸结构转印到成形体主体的表面而成的成形体的雾度存在上升的倾向。因此，镁的添 加量优选考虑到铝的强度和成形体的雾度来决定，通常相对于铝为〇. 1~3质量％左右。
[0074] 作为电解液，可列举出酸性水溶液或碱性水溶液，优选酸性水溶液。作为酸性水溶 液，可列举出无机酸类（硫酸、磷酸等）、有机酸类（草酸、丙二酸、酒石酸、琥珀酸、苹果酸、 柠檬酸等），特别优选硫酸、草酸、磷酸。这些酸可以单独使用1种，也可以组合使用2种以 上。
[0075] 使用草酸作为电解液时：
[0076] 草酸的浓度优选为0. 7M以下。草酸的浓度超过0. 7M时，有时电流值变得过高而 氧化覆膜的表面变得粗糙。
[0077] 电解液的温度优选为60°C以下，更优选为45°C以下。若电解液的温度超过60°C， 贝IJ引起所谓的"镀层灰暗并有斑点"的现象，细孔被破坏、或表面熔化而打乱细孔的规则性。
[0078] 使用硫酸作为电解液时：
[0079] 硫酸的浓度优选为0. 7M以下。硫酸的浓度超过0. 7M时，有时电流值变得过高而 不能维持恒定电压。
[0080] 电解液的温度优选为30°C以下，更优选为20°C以下。若电解液的温度超过30°C， 贝IJ引起所谓的"镀层灰暗并有斑点"的现象，细孔被破坏、或表面熔化而打乱细孔的规则性。
[0081] 工序（b):
[0082] 如图1所示，先去除氧化覆膜14的至少一部分，将其作为阳极氧化的细孔产生点 16,由此可以提高细孔的规则性。
[0083] 作为去除氧化覆膜的方法，可列举出在不溶解铝、选择性溶解氧化覆膜的溶液中 溶解进行去除的方法。作为这种溶液，例如可列举出铬酸/磷酸混合液等。需要说明的是， 如图1所示，通过全部去除氧化覆膜14,可以得到以更高规则性排列的细孔，不需要高规则 性时，不需要全部去除氧化覆膜14。
[0084] 工序（C):
[0085] 如图1所示，将去除氧化覆膜的至少一部分的铝基材10再次进行阳极氧化时，形 成具有圆柱状的细孔12的氧化覆膜14。
[0086] 阳极氧化在与工序（a)同样的条件下进行，从而可以得到具有高规则性的细孔， 阳极氧化的条件可以进行各种变更。阳极氧化的时间长则可以得到深的细孔。
[0087] 工序（d):
[0088] 如图1所示，进行扩大细孔12的直径的处理（以下记作细孔径扩大处理。）。细 孔径扩大处理是在溶解氧化覆膜的溶液（蚀刻液）中浸渍使阳极氧化得到的细孔的直径扩 大的处理。作为这种溶液，例如可列举出5质量％左右的磷酸水溶液等。
[0089] 细孔径扩大处理的时间越长，细孔径越大。
[0090] 工序（e):
[0091] 如图1所示，重复工序（c)的阳极氧化、和工序（d)的细孔径扩大处理时，形成具 有直径从开口部向深度方向连续减少的形状的细孔12的氧化覆膜14,得到铝基材10的表 面具有阳极氧化铝（铝的多孔氧化覆膜（防蚀铝））的模子18。优选最后以工序（d)结束。
[0092] 工序（c)和工序（d)的重复次数总计优选为3次以上，更优选为5次以上。重复 次数为2次以下时，细孔的直径非连续地减少，从而使用具有这样的细孔的阳极氧化铝形 成的蛾眼结构的反射率降低效果不十分。
[0093] 作为细孔12的形状，可列举出大致圆锥形状、棱锥形状、圆柱形状等，优选像圆锥 形状、棱锥形状等那样与深度方向垂直相交的方向的细孔截面积从最表面向深度方向连续 减少的形状。
[0094] 细孔12间的平均间隔是通过电子显微镜观察测定50处邻接的细孔12间的间隔 (细孔12的中心距邻接的细孔12的中心的距离）并将它们的值平均而得到的值。
[0095] 细孔12的平均间隔为可见光的波长以下，即400nm以下。细孔12间的平均间隔 优选为20nm以上。
[0096] 细孔12的深度是通过电子显微镜观察以30000倍的倍率进行观察时的、细孔12 的最底部与细孔12间存在的凸部的最顶部之间的距离的测定值。
[0097] 细孔12的深宽比（细孔的深度/细孔间的平均间隔）优选为0. 8~5. 0,更优选 为L 2~4. 0,特别优选为L 5~3. 0。
[0098] 具体而言，例如细孔间的平均间隔为IOOnm时，细孔12的深度优选为80~500nm， 更优选为120~400nm，特别优选为150~300nm〇
[0099] 工序（f):
[0100] 接着，如图1所示，在形成有微细凹凸结构的区域（转印部）形成标记部。标记部 如下形成：使可以溶解阳极氧化覆膜的标记溶液与阳极氧化覆膜接触规定时间，溶解氧化 覆膜的一部分，由此使微细凹凸结构的一部分的凸部的高度变化，其后通过清洗标记溶液 等去除。
[0101] 作为使阳极氧化覆膜与标记溶液接触的方法，可列举出：如图4所示，使橡胶印、 软质塑料印带有标记溶液，按压于转印部；将标记溶液直接涂布在转印部的一部分上等方 法。使标记溶液与阳极氧化覆膜接触的时间优选为1分钟以上，更优选为5分钟以上，更优 选为20分 钟以上。（即使使其接触20分钟以上，目视可能无变化，因此）对接触的时间的 上限没有特别的限定，从有效地制造模子的观点来看优选为180分钟以下。
[0102] 另外，标记溶液的20°C下的粘度优选为0. 5cP以上且5000cP以下。将标记溶液的 粘度设定为〇. 5cP以上，由此可以抑制标记液从阳极氧化覆膜上所期望的区域流淌、滴下 等。另外，将粘度设定为5000cP以下，由此可以抑制标记溶液拉丝、标记溶液附着在非目标 区域。标记溶液的20°C下的粘度更优选为IcP以上且1500cP以下。
[0103] 作为标记溶液，只要是不施加电或高温地溶解阳极氧化覆膜、可以使凸部的高度 变化的物质即可，可以任意是酸或碱。以阳极氧化的蚀刻使用的磷酸为首，也可以是草酸、 盐酸、稀硝酸、稀硫酸、醋酸、柠檬酸等酸的水溶液或氢氧化钠、氢氧化钾等碱水溶液。具体 而言，可以使用磷酸、铬酸/磷酸混合液、磷酸/草酸混合液等，从有效溶解氧化覆膜的观点 来看更优选使用磷酸。另外，工序（d)中使用磷酸时，从使用同种类的酸或碱可以减少模子 制造所需的材料的方面来看，优选使用磷酸作为标记溶液。
[0104] 标记溶液使用的磷酸的浓度优选为10%以上且85%以下。磷酸溶液为高浓度则 粘度高，85%磷酸溶液的20°C下的粘度根据溶剂而变化，但一般为45cp~60cP。其中，例如 磷酸溶液的浓度低至25. 5%则粘度减少1. 5~3cP。磷酸溶液的浓度低于10%，则磷酸的 粘度降低会导致涂布在模子表面的磷酸滴下等，有时难以使标记部成为所期望的形状。磷 酸的浓度高于85%，则过度溶解氧化覆膜，覆膜可能会被溶解直至凹凸形状的凹部（谷部） 变深，或有时难以使标记部成为所期望的形状。需要说明的是，在磷酸溶液的浓度低于10% 的情况等标记溶液的粘度低的情况下，添加增稠剂等来调节标记溶液的粘度，优选将20°C 下的粘度调整为〇. 5cP以上即可。
[0105] 在模子表面形成的标记部的截面的例子示于图3的左侧，由具有该标记部的模子 成形的成形体的截面的例子示于图3的右侧。在模具表面形成的标记部、与模具表面的其 它的形成有微细凹凸结构的区域（转印区域）的微细凹凸结构的凸部的高度之差、即h2与 hi之差优选为IOnm以上，更优选为20nm以上，进一步优选为40nm以上。凸部的高度之差 为IOnm以上，从而可以使标记部更容易识别。在图3中，标记部内的凸部以相同高度表示， 但实际在实施标记处理时，标记部内的凸部彼此的高度之差只要比其它区域的微细凹凸结 构的高度小即可。
[0106] 标记部的形状为包含文字、几何形状、几何图案、识别记号中的至少一种的表面形 状即可，只要是可以识别的形状，则何种形状均无妨。在图4的例子中，标记部的形状制成 字母"A"的形状。
[0107] (作用效果）
[0108] 以上说明的本发明的模具的制造方法中，工序（f)中为了在成形体的表面转印凸 部和凹部，形成设置有具有互补的尺寸形状的凹部或凸部的转印区域，在该转印区域设置 标记部，该标记部是以凹部的高度与转印区域的其它部分的凹部的高度大致相同、而凸部 的高度比转印区域的其它部分的凸部的高度低的方式形成的。只要使用该模具，则可以容 易地制造如下的成形体，其中，模具的微细凹凸结构转印成的成形体的凹凸结构的凸部的 高度在整个成形体的表面大致相同、而标记部中凹凸结构的凹部的高度比其它形成有凹部 的区域的凹部的高度高。凹凸结构的顶部在整个成形体的表面为大致相同的高度，因此将 成形体卷取成辊状时，瘪痕等缺陷的产生受到抑制。另外，成形体的标记部的凹部的高度比 其它形成有凹部的区域的凹部的高度高，与其它区域的光的反射率、透过率不同，因此可以 容易地识别标记部。
[0109] <成形体的制造方法>
[0110] 本发明的表面具有微细凹凸结构的成形体的制造方法是将由本发明的模子的制 造方法得到的模子的表面形成的由多个细孔形成的微细凹凸结构转印到成形体主体的表 面的方法。
[0111] 如图3所示，转印模子的微细凹凸结构（细孔）而制造的成形体，其表面以钥匙与 钥匙孔的关系转印了模子的微细凹凸结构的反转结构（突起）。
[0112] 作为将模子的微细凹凸结构转印到成形体主体的表面的方法，例如优选以下方 法：向模子与透明基材（成形体主体）之间填充未固化的活性能量射线固化性树脂组合物， 以活性能量射线固化性树脂组合物接触模子的微细凹凸结构的状态照射活性能量射线，使 活性能量射线固化性树脂组合物固化后，将模子脱模。由此，可以在透明基材的表面制造形 成有由活性能量射线固化性树脂组合物的固化物形成的微细凹凸结构的成形体。所得到的 成形体的微细凹凸结构为模子的微细凹凸结构的反转结构。
[0113] (成形体主体）
[0114] 作为透明基材，为了隔着该透明基材进行活性能量射线的照射，优选为不显著阻 碍活性能量射线的照射的物质。作为透明基材的材料，例如可列举出：聚酯树脂（聚对苯 二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二酯等）、聚甲基丙烯酸酯树脂、聚碳酸酯树脂、氯乙烯树 月旨、ABS树脂、苯乙烯树脂、玻璃等。
[0115] (活性能量射线固化性树脂组合物）
[0116] 使用活性能量射线固化性树脂组合物的方法与使用热固性树脂组合物的方法相 比，由于不需要加热、固化后的冷却，因此可以在短时间内转印微细凹凸结构，适合量産。
[0117] 作为活性能量射线固化性树脂组合物的填充方法，可列举出：向模子与透明基材 之间供给活性能量射线固化性树脂组合物后进行压延填充的方法；在涂布有活性能量射线 固化性树脂组合物的模子上层压透明基材的方法；预先在透明基材上涂布活性能量射线固 化性树脂组合物，层压在模子上的方法等。
[0118] 活性能量射线固化性树脂组合物含有聚合反应性化合物和活性能量射线聚合引 发剂。上述之外，也可以根据用途包含非反应性的聚合物、活性能量射线溶胶凝胶反应性成 分，还可以包含增稠剂、流平剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、热稳定剂、溶剂、无机填料等各种 添加剂。
[0119] 作为聚合反应性化合物，可列举出分子中具有自由基聚合性键和/或阳离子聚合 性键的单体、低聚物、反应性聚合物等。
[0120] 作为具有自由基聚合性键的单体，可列举出单官能单体、多官能单体。
[0121] 作为具有自由基聚合性键的单官能单体，可列举出（甲基）丙烯酸酯衍生物（（甲 基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸正丁酯、（甲 基）丙烯酸异丁酯、（甲基）丙烯酸仲丁酯、（甲基）丙烯酸叔丁酯、（甲基）丙烯酸酯-2-乙 基己酯、（甲基）丙烯酸月桂酯、（甲基）丙烯酸烷基酯、（甲基）丙烯酸十三烷基酯、（甲 基）丙烯酸硬脂酯、（甲基）丙烯酸环己酯、（甲基）丙烯酸苄酯、（甲基）丙烯酸苯氧基乙 酯、（甲基）丙烯酸异冰片酯、（甲基）丙烯酸缩水甘油酯、（甲基）丙烯酸四氢糠酯、（甲 基）丙烯酸烯丙醋、（甲基）丙烯酸-2-羟基乙醋、（甲基）丙烯酸羟丙醋、（甲基）丙烯 酸-2-甲氧基乙酯、（甲基）丙烯酸-2-乙氧基乙酯等）、（甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯腈、 苯乙烯衍生物（苯乙烯、α-甲基苯乙烯等）、（甲基）丙烯酰胺衍生物（（甲基）丙烯酰胺、 N-二甲基（甲基）丙烯酰胺、N-二乙基（甲基）丙烯酰胺、二甲氨基丙基（甲基）丙烯酰 胺等）等。这些可单独使用1种，也可组合使用2种以上。
[0122] 作为具有自由基聚合性键的多官能单体，可列举出：二官能性单体（乙二醇二（甲 基）丙烯酸酯、三丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性二（甲基）丙烯酸酯、 三乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸 酯、1，6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、1，5-戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、1，3-丁二醇二（甲 基）丙烯酸酯、聚丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、2, 2-双（4-(甲基）丙烯酰氧基聚乙氧基苯 基）丙烷、2, 2-双（4-(甲基）丙烯酰氧基乙氧基苯基）丙烷、2, 2-双（4-(3-(甲基）丙烯 酰氧基-2-羟基丙氧基）苯基）丙烷、1，2-双（3-(甲基）丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基）乙 烷、1，4-双（3-(甲基）丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基）丁烷、二羟甲基三环癸烷二（甲基） 丙烯酸酯、双酚A的环氧乙烷加成物二（甲基）丙烯酸酯、双酚A的环氧丙烷加成物二（甲 基）丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙烯基苯、亚甲基双丙烯酰胺 等）、三官能单体（季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三 羟甲基丙烷环氧乙烷改性三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧丙烷改性三丙烯酸酯、三 羟甲基丙烷环氧乙烷改性三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性三（甲基）丙烯酸酯等）、四 官能以上的单体（琥珀酸/三羟甲基乙烷/丙烯酸的缩合反应混合物、二季戊四醇六（甲 基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、双（三羟甲基丙烷）四丙烯酸酯、四羟甲 基甲烷四（甲基）丙烯酸酯等）、二官能以上的氨基甲酸酯丙烯酸酯、二官能以上的聚酯丙 烯酸酯等。这些可单独使用1种，也可组合使用2种以上。
[0123] 作为具有阳离子聚合性键的单体，可列举出：具有环氧基、氧杂环丁基、噁唑基、乙 烯氧基等的单体，特别优选具有环氧基的单体。
[0124] 作为分子中具有自由基聚合性键和/或阳离子聚合性键的低聚物或反应性聚合 物，可列举出：不饱和二羧酸与多元醇的缩合物等不饱和聚酯类；聚酯（甲基）丙烯酸酯、 聚醚（甲基）丙烯酸酯、多元醇（甲基）丙烯酸酯、环氧（甲基）丙烯酸酯、氨基甲酸酯（甲 基）丙烯酸酯、阳离子聚合型环氧化合物、侧链具有自由基聚合性键的上述单体的均聚物 或共聚物等。
[01 25] 作为活性能量射线聚合引发剂，可以使用公知的聚合引发剂，根据使活性能量射 线固化性树脂组合物固化时使用的活性能量射线的种类来适宜选择是优选的。
[0126] 利用光固化反应时，作为光聚合引发剂，可列举出：羰基化合物（苯偶姻、苯偶姻 甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚、苯偶酰、二苯甲酮、对甲氧基二苯甲酮、 2,2_二乙氧基苯乙酮、α，α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、苯甲酰甲酸甲酯、苯甲酰甲酸乙 酯、4, 4' -双（二甲氨基）二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等）、硫化合物 (一硫化四甲基秋兰姆、二硫化四甲基秋兰姆等）、2, 4, 6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、 双（2, 4, 6-三甲基苯甲酰基）-苯基氧化膦、苯甲酰基二乙氧基氧化膦等。这些可单独使用 1种，也可组合使用2种以上。
[0127] 利用电子射线固化反应时，作为聚合引发剂，可列举出：二苯甲酮、4, 4-双（二乙 氨基）二苯甲酮、2, 4, 6-三甲基二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、叔丁基 蒽醌、2-乙基蒽醌、噻吨酮（2, 4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2, 4-二氯噻吨酮等）、苯乙 酮（二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯偶酰二甲基缩酮、1-羟基环 己基-苯基酮、2-甲基-2-吗啉代（4-硫代甲基苯基）丙烷-1-酮、2-苯偶酰-2-二甲氨 基-1-(4-吗啉代苯基）-丁酮等）、苯偶姻醚（苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯 偶姻异丁醚等）、酰基氧化膦（2, 4, 6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双（2, 6-二甲氧基苯 甲酰基）-2, 4, 4-三甲基戊基氧化膦、2, 4, 6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双（2, 4, 6-三 甲基苯甲酰基）-苯基氧化膦等）、苯甲酰甲酸甲酯、1，7-二吖啶基庚烷、9-苯基吖啶等。这 些可单独使用1种，也可组合使用2种以上。
[0128] 活性能量射线固化性树脂组合物中的活性能量射线聚合引发剂的含量相对于聚 合性化合物100质量份优选为〇. 1~10质量份。活性能量射线聚合引发剂不足〇. 1质量 份则难以进行聚合。另一方面，若活性能量射线聚合引发剂超过10质量份，则有时固化树 脂着色、或机械强度降低。
[0129] 作为非反应性的聚合物，可列举出：丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、聚氨酯树脂、纤 维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚酯树脂、热塑性弹性体等。
[0130] 作为活性能量射线溶胶凝胶反应性组合物，例如可列举出烷氧基硅烷化合物、硅 酸烷基酯化合物等。
[0131] 作为烷氧基硅烷化合物，可列举出用RxSi (OR'）y表示的物质。R和R'表示碳数 1~10的烷基，X和y为满足χ+y = 4的关系的整数。具体而言，可列举出四甲氧基硅烷、 四异丙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、甲 基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二 乙氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、三甲基丙氧基硅烷、三甲基丁氧基硅 烧等。
[0132] 作为硅酸烷基酯化合物，可列举出用R1OtSi (OR3) (0R4)0]zR2表示的物质。R广R4 分别表示碳数1~5的烷基，Z表示3~20的整数。具体而言，可列举出：硅酸甲酯、硅酸 乙酯、硅酸异丙酯、硅酸正丙酯、硅酸正丁酯、硅酸正戊酯、硅酸乙酰基酯等。
[0133] (制造装置）
[0134] 表面具有微细凹凸结构的成形体例如使用图2所示的制造装置如下制造。
[0135] 由罐22向辊状模子20和与辊状模子20的旋转同步地沿辊状模子20的一部分表 面移动的带状薄膜42 (透明基材）之间供给活性能量射线固化性树脂组合物38,所述辊状 模子20是表面具有微细凹凸结构（未图示）、外形为辊形状的模具。
[0136] 在辊状模子20与通过空气压气缸调节夹持压的轧辊26之间夹持薄膜42和活性 能量射线固化性树脂组合物38,使活性能量射线固化性树脂组合物38均匀地遍布薄膜42 与辊状模子20之间，同时充填在辊状模子20的微细凹凸结构的凹部内。
[0137] 从设置在辊状模子20的下方的活性能量射线照射装置28,透过薄膜42对活性能 量射线固化性树脂组合物38照射活性能量射线，使活性能量射线固化性树脂组合物38固 化，从而形成转印有辊状模子20的表面的微细凹凸结构的固化树脂层44。
[0138] 通过剥离辊30将表面形成有固化树脂层44的薄膜42从辊状模子20剥离，从而 得到图3所示的成形体40。由辊状模子20剥离的薄膜42被未图示的卷取辊卷取，由此得 到表面具有微细凹凸结构的薄膜42。
[0139] 作为活性能量射线照射装置28,例如可列举出高压汞灯、金属卤化物灯等。活性 能量射线的照射量只要是活性能量射线固化性树脂组合物的固化进行的能量即可，通常为 100 ~10000mJ/cm2左右。
[0140] (成形体）
[0141] 如此制造的成形体40如图3所示，在薄膜42 (透明基材）的表面形成有固化树脂 层44。固化树脂层44是由活性能量射线固化性树脂组合物的固化物形成的膜，表面具有微 细凹凸结构。
[0142] 使用本发明得到的模子时，成形体40的表面的微细凹凸结构是将氧化覆膜的表 面的微细凹凸结构转印而形成的，具有由活性能量射线固化性树脂组合物的固化物形成的 多个突起46。
[0143] 作为微细凹凸结构，多个大致圆锥形状、棱锥形状等的突起（凸部）排列而形成的 所谓蛾眼结构是优选的。已知突起间的间隔为可见光的波长以下的蛾眼结构的折射率从空 气的折射率向材料的折射率连续增大，因此是有效的防反射的手段。
[0144] 在成形体上形成具有包含文字、数字、几何形状、几何图案、识别记号中的至少一 种的表面形状的标记部，以该标记部的突起46的顶部的高度与其它区域大致相同、但凹部 (谷部）的高度比其它形成有凹部的区域的凹部的高度高的方式形成。标记部的凹部的高 度与其它形成有凹部的区域的凹部的高度之差优选为IOnm以上，更优选为20nm以上，进一 步优选为40nm以上。
[0145] 成形体的凹凸结构的顶部为大致相同的高度，因此将成形体卷取成辊状时，瘪痕 等缺陷的产生受到抑制。另外，标记部的凹部的底部的高度比其它形成有凹部的区域的凹 部的高度高，与其它区域的光的反射率、透过率不同，因此如图5所示可以容易地识别标记 部。若标记部的识别容易，则在检查成形体、发现缺陷时，可以由与标记部的相对位置关系 容易地检查模子的特定部分是否包含缺陷。
[0146] 另外，即便判明模子上特定的位置具有缺陷时，通过由与标记部的相对位置关系 特定成形体上的缺陷产生部位，避开该部分而进行切断、冲切成为所期望的形状，由此使用 判明具有缺陷的模子也可以制造切断、冲切成规定形状的成形体。
[0147] (用途）
[0148] 通过本发明得到的表面具有微细凹凸结构的成形体，由于表面的微细凹凸结构而 发挥防反射性能、拒水性能等种种的性能。
[0149] 表面具有微细凹凸结构的成形体为片状或薄膜状时，作为防反射膜，例如贴附或 嵌入成形在图像显示装置（电视、手机的显示器等）、展示面板、仪表面板等对象物的表面 来使用。另外，有效利用拒水性能，可以用作浴室的窗、镜、太阳能电池部件、汽车的镜子、广 告牌、眼镜的镜片等可能暴露在雨、水、蒸汽等的对象物的部件。
[0150] 表面具有微细凹凸结构的成形体为立体形状时，也可以先使用与用途相应形状的 透明基材来制造防反射物品，将其用作构成上述对象物的表面的部件。
[0151] 另外，对象物为图像显示装置时，不仅限于其表面，还可以对其前面板贴附表面具 有微细凹凸结构的成形体，前面板自身也可以由表面具有微细凹凸结构的成形体构成。例 如，安装在读取图像的传感器阵列的棒形透镜阵列的表面、FAX、复印机、扫描仪等图像传 感器的玻璃盖板、复印机放置原稿的接触玻璃等也可以使用表面具有微细凹凸结构的成形 体。另外，可见光通信等光通信仪器的光检测部分等使用表面具有微细凹凸结构的成形体 还可以提高信号的接受灵敏度。
[0152] 另外，表面具有微细凹凸结构的成形体除了上述用途以外，还可以在作为光波导、 浮雕型全息图、光学透镜、偏振光分离元件等光学用途、细胞培养片的用途中展开。
[0153] 实施例
[0154] 以下，通过实施例对本发明进行具体的说明，但本发明不限定于这些实施例。
[0155] 各种测定、评价通过以下方法进行。
[0156] (模子的细孔的测定）
[0157] 切取表面形成有氧化覆膜的模具的一部分，对表面蒸镀铂1分钟，使用场发射型 扫描电子显微镜（日本电子公司制造、"JSM-6701F"），在加速电压3. OOkV下放大1万倍进 行观察。细孔的平均间隔（间距）将排列在一直线上的6个的细孔的中心间距离平均而求 出。
[0158] 另外，从2处不同的位置切取模具的一部分，对其纵截面蒸镀铂1分钟，使用相同 的场发射型扫描电子显微镜在加速电压3. OOkV下观察。将各截面样品放大5万倍观察，在 观察范围内测定10个细孔的深度并求平均。在2个点进行该测定，对各观察点的平均值进 一步求平均，求出细孔的平均深度。
[0159] (成形体的突起的测定）
[0160] 在成形体（薄膜）的表面和纵截面蒸镀铂10分钟，使用场发射型扫描电子显微镜 (日本电子公司制造、"JSM-6701F"），在加速电压3. OOkV的条件下观察成形体的表面和截 面。
[016 1] 将成形体的表面放大1万倍观察，对排列在一直线上的6个突起（凸部）的中心 间距离求平均，求出突起的平均间隔（间距）。另外，在5万倍下观察成形体的截面，对10 个突起的高度求平均，求出突起的平均高度。
[0162] (粘度的测定）
[0163] 粘度的测定使用流变仪（TA Instruments.制造 AR550)，使用60mm的锥板，在温度 20°C、剪切速率处于0. 1~1000 (Ι/s)的范围内进行测定，以粘度相对于剪切速率不发生变 化的值作为本发明的粘度。
[0164] (标记部的确认）
[0165] 目视观察成形体，可以容易地识别标记部时记为〇、注意观察才可识别时记为Λ、 难以识别时记为X。
[0166] (实施例1)
[0167] (模子的制造）
[0168] 将纯度99. 97质量％的块状铝切断成直径200mm、宽度320mm的辊状，对表面进行 切削加工而镜面化，将其用作铝基材。基材的材质示于表1。需要说明的是，表中的"A1"为 铝、" 3N7 "表示铝的纯度，是纯度99. 97质量％的含义。
[0169] 对于该铝基材，在0. 3M草酸水溶液中以直流40V、温度16°C的条件进行6小时阳 极氧化（工序（a))。
[0170] 接着，将形成有氧化覆膜的铝板在6质量％磷酸/1.8质量％铬酸混合水溶液中浸 渍6小时，去除氧化覆膜（工序（b))。
[0171] 接着，对于该铝基材，在0. 3M草酸水溶液中以直流40V、温度16°C的条件进行20 秒钟阳极氧化（工序（C))。
[0172] 接着，将形成有氧化覆膜的铝基材在32°C的5质量％磷酸水溶液中浸渍8分钟，进 行细孔径扩大处理（工序（d))。
[0173] 接着，重复进行共计4次的前述工序（c)和工序（d)，最后进行工序（d)(工序 (e))，在表面形成具有平均间隔：l〇〇nm、深度：220nm的大致圆锥形状的细孔的阳极氧化 错。
[0174] 接着，使浓度85% (粘度47cP)的磷酸浸入BEMCOT，将橡胶印按在BEMCOT上，将 带有磷酸的橡胶印按在阳极氧化铝的表面，实施标记。静置20分钟后，对实施标记的部位 进行水洗，去除磷酸，形成标记部（工序（f))，得到辊状模子。目视确认，结果确认形成了标 记部。
[0175] 所得到的模具浸渍在 0PT00L DSX(Daikin Chemicals Sales, Ltd.制造）的 0· 1 质量％稀釈溶液后，风干一晚，得到用脱模剂处理的辊状模子。
[0176] (成形体的制造）
[0177] 向经脱模处理的模子与作为透明基材的丙烯酸系薄膜（三菱丽阳株式会社制、 "Acryplen HBS010"）之间填充下述组成的活性能量射线固化性树脂组合物，用高压汞灯照 射累积光量l〇〇〇mJ/Cm 2的紫外线，使活性能量射线固化性树脂组合物固化。其后，剥离模 具，得到包含透明基材和固化组合物的固化物的成形体（薄膜）。
[0178] 如此制造的成形体的表面形成有微细凹凸结构，突起的平均间隔（间距）为 100nm、突起的平均高度为约220nm。另外，将成形体卷取成棍状，但未产生卷裙、瘪痕等。
[0179] 目视观察所得到的成形体，进行标记部的确认。将其结果示于表1。
[0180] 活性能量射线固化性树脂组合物：
[0181] 二季戊四醇六丙烯酸酯（新中村化学公司制造）：25质量份、
[0182] 季戊四醇三丙烯酸酯（第一工业制药公司制造）：25质量份、
[0183] 环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯（日本化药公司制造）：25质量份、
[0184] 聚乙二醇二丙烯酸酯（东亚合成公司制造）：25质量份、
[0185] 1-羟基环己基苯基酮（BASF公司制造）：1质量份、
[0186] 双（2, 4, 6 -三甲基苯甲酰基）-苯基氧化膦（BASF公司制造）：0· 5质量份、
[0187] 聚氧乙烯烷基（12 - 15)醚磷酸（NIPPON CHEMICALS公司制造）：0. 1质量份。
[0188] (实施例2~5)
[0189] 工序（f)中，浸入BEMCOT中的磷酸的浓度、按压橡胶印后静置的时间如表1所示， 除此以外，与实施例1同样地制造成形体，目视观察成形体。将其结果示于表1。
[0190] [表 1]
[0191]
[0192] (比较例I)
[0193] 不进行工序（f)，除此以外，与实施例1同样地制造成形体。另外，用油性笔在成形 体的端部附近实施标记，用乙醇擦拭会导致标记消失。
[0194] (比较例2)
[0195] 作为标记用锉刀沿薄膜搬送方向使成形体带有伤痕。将该成形体卷取成辊状时出 现卷褶。
[0196] (比较例3)
[0197] 代替工序（f)，用锉刀使模子表面带有伤痕，除此以外，与实施例1同样地制造成 形体。将该成形体卷取成辊状时出现卷褶。
[0198] 符号的说明
[0199] 10错基材
[0200] 12 细孔
[0201] 14氧化覆膜
[0202] 16细孔产生点
[0203] 18模子（模具）
[0204] 20辊状模子
[0205] 22 罐
[0206] 26 夹辊
[0207] 28活性能量射线照射装置
[0208] 30剥离辊
[0209] 38活性能量射线固化性树脂组合物
[0210] 40成形体
[0211] 42 薄膜
[0212] 44固化树脂层
[0213] 46 突起
【主权项】
1. 一种用于制造光学物品的模具，其特征在于，该模具用于制造表面具有周期为可见 光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的光学物品， 所述模具在表面具有转印区域，在该转印区域设置有具有与所述光学物品的凸部和凹 部互补的尺寸形状的凹部和凸部， 在所述转印区域设置标记部且所述凸部的高度比转印区域的其它部分的凸部的高度 低。2. 根据权利要求1所述的模具，其中，所述标记部具有包含文字、几何形状、几何图案、 识别记号中的至少一种的表面形状。3. 根据权利要求1所述的模具，其特征在于，外形为辊形状。4. 一种光学物品，其特征在于，该光学物品在表面具有周期为可见光的波长以下的多 个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部， 该光学物品具有标记部且所述凹部的高度比其它形成有凹部的区域的凹部的高度高。5. 根据权利要求4所述的光学物品，其中，所述标记部具有包含文字、数字、几何形状、 几何图案、识别记号中的至少一种的表面形状。6. -种模具的制造方法，其特征在于，其为表面具有周期为可见光的波长以下的多个 凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的模具的制造方法，该制造方法具有： 凹凸形成工序，在所述模具的表面形成所述凸部和所述凹部；和 标记工序，使形成有所述凸部和所述凹部的区域的一部分与用于溶解所述模具的液体 接触，使所述凸部的高度比通过所述凹凸形成工序形成的凸部的高度低。7. 根据权利要求6所述的模具的制造方法，其中，所述凹凸形成工序包括： 阳极氧化处理，对铝母材进行阳极氧化，在所述铝母材的表面形成微细凹结构；和 扩大处理，使所述微细凹结构与蚀刻液接触，扩大所述微细凹结构的口径。8. 根据权利要求7所述的模具的制造方法，其特征在于，所述标记工序使用的液体与 所述扩大处理使用的蚀刻液为同一组成。9. 根据权利要求7所述的模具的制造方法，其特征在于，所述标记工序使用的液体和 所述蚀刻液包含磷酸。10. 根据权利要求6所述的模具的制造方法，其特征在于，所述标记工序使用的液体的 20°C下的粘度为0? 5~5000cP。11. 根据权利要求10所述的模具的制造方法，其特征在于，所述标记工序使用的液体 的20°C下的粘度为1~1500cP。12. 根据权利要求6~11中任一项所述的模具的制造方法，其中，所述标记工序使附着 有所述液体的部件与所述模具接触。13. -种表面具有微细凹凸结构的薄膜的制造装置，其特征在于，将通过权利要求6所 述的方法制造的、表面具有微细凹凸结构的辊状模子的表面的微细凹凸结构转印到与辊状 模子的旋转同步地沿着辊状模子的部分表面移动的带状薄膜主体的表面，从而得到表面具 有微细凹凸结构的薄膜，用卷取辊将所述薄膜进行卷取。
【专利摘要】本发明提供一种微细凹凸转印用模具，其可以容易地识别具有微细凹凸结构的成形体的缺陷部位，并且在卷取该成形体时防止微细凹凸结构变形。所述微细凹凸转印用模具的特征在于，该模具用于制造表面具有周期为可见光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的光学物品，前述模具在表面具有转印区域，在该转印区域设置有具有与所述光学物品的凸部和凹部互补的尺寸形状的凹部和凸部，在前述转印区域设置标记部且前述凸部的高度比转印区域的其它部分的凸部的高度低。
【IPC分类】B29L11/00, G02B1/118, B29C59/04, B29C33/42, B29C59/02
【公开号】CN104884218
【申请号】CN201380068610
【发明人】尾野本广志, 中西志茉, 河内秀树, 地纸哲哉
【申请人】三菱丽阳株式会社
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2013年12月27日
【公告号】WO2014104308A1