柔性有机发光显示装置及其制造方法
柔性有机发光显示装置及其制造方法
【专利说明】
[0001] 相关申请的交叉引用
[0002] 本申请要求2012年12月27日提交的韩国专利申请No. 10-2012-0155596的优先 权和利益，其公开内容整体W引用方式并入本文。此申请还要求2013年11月28日提交的 韩国专利申请No. 10-2013-0146333的优先权和利益，其公开内容整体W引用方式并入本 文。
技术领域
[0003] 本文的实施方式设及使用on-cell触摸屏面板的柔性有机发光显示装置及其制 造方法。
【背景技术】
[0004] 计算机的监视器、TV、蜂窝电话等中所使用的显示装置的示例包括本身发光的有 机发光显示器（0LED)和等离子体显示面板（PDP)W及需要单独光源的液晶显示器（LCD) 等。
[0005] 另外，近来很多注意力已集中于作为下一代显示装置的柔性显示装置，其利用诸 如塑料的柔性材料制造W即使显示装置像纸一样弯曲时也允许显示图像。
[0006] 柔性显示装置的应用范围多种多样，从计算机监视器和TV到个人便携式设备。已 对具有大显示区域并且体积和重量减小的柔性显示装置进行了研究。另外，已对应用触摸 屏面板的柔性显示装置进行了研究，所述触摸屏面板允许用户利用他/她的手或笔来对显 示屏幕输入触摸。
【发明内容】
[0007] 当触摸屏面板应用于柔性有机发光显示装置时，应用add-on型触摸屏面板，其中 在诸如玻璃的基材上形成有用于感测触摸的电极图案的触摸屏面板附接到有机发光显示 装置。然而，当使用add-on型触摸屏面板时，有机发光显示装置的厚度由于基材而增加，审U 造单位成本增加，制造工艺中存在困难，具体地讲，当add-on型触摸屏面板应用于柔性有 机发光装置时，柔性有机发光装置的柔性变差，柔性有机发光装置变硬并且不具柔性。
[0008] 在一个实施方式中，提供一种制造柔性有机发光显示装置的方法，该方法包括步 骤；形成下柔性基板组件，该下柔性基板组件包括第一柔性基板、设置在第一柔性基板上方 的薄膜晶体管和有机发光元件，该有机发光元件被配置为发射白光并且电连接到所述薄膜 晶体管；形成上柔性基板组件，该上柔性基板组件包括在中间层上具有至少一个电极图案 的触摸感测单元；W及将所述下柔性基板组件和所述上柔性基板组件结合在一起。因此，触 摸感测单元形成在上柔性基板组件的中间层之一上。所述中间层可W是第二柔性基板、被 配置为对白光进行滤光的滤色器层和透明树脂层中的任一个。
[0009] 在另一实施方式中，提供一种柔性有机发光显示装置。该柔性有机发光显示装置 包括附接到彼此的下柔性基板组件和上柔性基板组件。下柔性基板组件包括设置在第一柔 性基板上方的薄膜晶体管和有机发光元件。有机发光元件被配置为发射白光并且电连接到 薄膜晶体管。上柔性基板组件包括设置在上柔性基板组件中的中间层上的触摸感测单元。 所述中间层可W是滤色器层、透明树脂层、第二柔性基板和绝缘膜层中的任一个。结合层插 入在下柔性基板组件和上柔性基板组件之间W将下柔性基板组件和上柔性基板组件附接 在一起。
[0010] 在另一实施方式中，提供一种柔性有机发光显示装置。该柔性有机发光显示装置 包括第一柔性基板、薄膜晶体管、有机发光元件、柔性封装单元、滤色器层、结合层和触摸感 测单元。薄膜晶体管设置在第一柔性基板上。被配置为发射白光的有机发光元件设置在薄 膜晶体管上。柔性封装单元形成在有机发光元件上W保护有机发光元件免受外部环境影 响。在柔性封装单元上方设置有滤色器层。该滤色器层包括多个滤色器层元件，所述多个 滤色器层元件中的每一个被配置为对白光进行滤光W生成与子像素区域对应的彩色光。结 合层插入在柔性封装单元和滤色器层之间。触摸感测单元设置在滤色器层的上表面、下表 面或者上表面和下表面二者上。
【附图说明】
[0011] 通过参照附图详细描述其示例性实施方式，对于本领域普通技术人员而言本发明 的W上和其它目的、特征和优点将变得更显而易见，附图中：
[0012] 图1是根据一个实施方式的柔性有机发光显示装置的横截面图。
[0013] 图2a至图2d是根据各种实施方式的柔性有机发光显示装置的概念图。
[0014] 图3a和图3b是根据另一实施方式的柔性有机发光显示装置的横截面图。
[0015] 图4a至图4c是根据各种实施方式的柔性有机发光显示装置的概念图。
[0016] 图5是示出根据一个实施方式的柔性有机发光显示装置的制造方法的流程图。
[0017] 图6a至图6d是示出根据一个实施方式的柔性有机发光显示装置的制造方法的工 艺的横截面图。
【具体实施方式】
[0018]下面将参照附图详细描述本发明的示例性实施方式。尽管结合本发明示例性实施 方式示出并描述了本发明，对于本领域技术人员而言将显而易见的是，在不脱离本发明的 范围的情况下可进行各种修改。
[0019] 形成在另一元件或层"上"的元件或层包括W下情况：元件直接形成在另一元件 上、W及元件形成在另一元件上并且二者间形成有附加元件或层。
[0020] 尽管可使用术语第一、第二等来描述各种元件，应该理解，该些元件不受该些术语 的限制。该些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，在不脱离示例性实施方式 的范围的情况下，第一元件可被称为第二元件，类似地，第二元件可被称为第一元件。
[0021] 在本说明书中，柔性显示装置是指被赋予柔性的显示装置，并且可按照与可弯曲 显示装置、可卷起显示装置、不可碎显示装置或可折叠显示装置相同的含义来使用。在本文 的描述中，柔性有机发光显示装置是各种柔性显示装置的一个示例。
[0022] 在本说明书中，贯穿附图的描述，相似标号指代相似元件。图中所示的各个元件的 尺寸和厚度仅是为了描述方便而示出，并非旨在限制本文所公开的实施方式的范围。
[0023] 本文所述的各种示例性实施方式的特征可部分地或完整地彼此绑定或组合，并且 利用对本领域技术人员而言显而易见的各种方法在技术上接合和驱动，示例性实施方式可 单独地独立实践或者组合地实践。
[0024] W下将参照附图更详细地描述各种示例性实施方式。
[00巧]图1示出柔性有机发光显示装置100,其包括下柔性基板组件101W及通过结合层 160附接到下柔性基板组件101的上柔性基板组件102。下柔性基板组件101是指有机发 光显示装置100的包括第一柔性基板110、薄膜晶体管120、有机发光元件140和封装单元 150的部分。上柔性基板组件102是指有机发光显示装置100的包括滤色器层170、触摸感 测单元180和第二柔性基板115的部分。
[0026] 下柔性基板组件101和上柔性基板组件102单独地制造。例如，在第一阶段，薄膜 晶体管120、有机发光元件140、封装单元150W及一个或更多个绝缘层（例如，纯化层、层 间绝缘层、涂敷层等）可形成在第一柔性基板110上W制造下柔性基板组件101。在第二阶 段，滤色器层170和触摸感测单元180可形成在第二柔性基板115上W制造上柔性基板组 件102。形成滤色器层元件171、172和173的制造工艺生成热，该可能是有机发光元件140 无法容忍的。形成触摸感测单元180的构图工艺也可能损坏有机发光元件140。因此，下 柔性基板组件101和上柔性基板组件102彼此分开制造，随后通过结合层160附接在一起。 在本公开中，术语"第一阶段"和"第二阶段"仅用于区分制造上柔性基板组件102和下柔 性基板组件101的各个阶段。应该理解，上柔性基板组件102和下柔性基板组件101可同 时制造或者按照任意顺序制造。
[0027] 为了将分开制造的下柔性基板组件101和上柔性基板组件102结合，结合层160 形成在下柔性基板组件101和上柔性基板组件102之间。更具体地讲，结合层160形成在 下柔性基板组件101的最上面的元件与上柔性基板组件102的最下面的元件之间。在图1 所示的柔性有机发光显示装置100的实施方式中，上柔性基板组件102的最下面的元件是 触摸感测单元180的第一电极图案181。因此，结合层160与下柔性基板组件101的封装单 元150和上柔性基板组件102的触摸感测单元180直接接触。
[0028] 然而，在一些其它实施方式中，上柔性基板组件102的最下面的元件可能不是触 摸感测单元180。因此，结合层160可被布置为与滤色器层170、绝缘膜层或者作为上柔性 基板组件102的最下面的元件的任何其它元件接触。
[0029] 结合层160可W是光学透明粘合剂（0CA)、光学透明树脂（OCR)、超级视野树脂 (SVR)、光学弹性树脂（0ER)、直接结合树脂值BR)等。可在真空或大气状态下将紫外扣V) 光或热施加到0CA、OCR、SVR、0ER、DBR等中的至少一个，从而将下柔性基板组件101和上柔 性基板组件102彼此结合。
[0030] 图2a示出柔性有机发光显示装置200A的一个实施方式，其包括通过结合层260 结合在一起之后的下柔性基板组件和上柔性基板组件。
[0031] 柔性有机发光显示装置200A包括多个像素区域，其中所述多个像素区域中的每 一个包括被配置为发射指定颜色的光的多个子像素区域（"A"、"B"、"C")。本文中，像素区 域可被称作像素，子像素区域可被称作子像素。在图2a所描绘的示例性实施方式中，柔性 有机发光显示装置200A包括第一子像素区域A(例如，红色子像素）、第二子像素区域B(例 如，绿色子像素）和第=子像素区域C(例如，藍色子像素）。然而，在一些其它实施方式中， 柔性有机发光显示装置200A的各个像素区域可包括更少或附加的子像素区域。例如，柔性 有机发光装置200A的各个像素区域还可包括第四子像素区域，其可被配置为发射白光。另 夕F，一些子像素区域可被布置为使得它们被两个或更多个像素区域共享。
[0032] 下柔性基板组件包括第一柔性基板210、设置在第一柔性基板210上方的薄膜晶 体管220和有机发光元件240。
[0033] 下柔性基板组件包括第一柔性基板210。第一柔性基板210是用于支撑和保护 柔性有机发光显示装置200A的各种元件的基板 。第一柔性基板210被定位在柔性有机发 光显示装置200A的下部。第一柔性基板210可由柔性绝缘材料形成。柔性绝缘材料的示 例包括聚酷亚胺（PI)、聚離酷亚胺（PEI)、聚对苯二甲酸己二醇醋（PET)、聚碳酸醋（PC)、 聚甲基丙締酸甲醋（PMMA)、聚苯己締（P巧、苯己締丙締晴共聚物（SAN)、娃丙締酸树脂 (silicon-acrylresin)等。另外，当柔性有机发光显示装置200A是透明有机发光显示装 置时，第一柔性基板210可由透明柔性绝缘材料形成。
[0034] 下柔性基板组件可包括缓冲层（未示出），其可形成在第一柔性基板210上。缓 冲层防止湿气或杂质穿过第一柔性基板210渗透，并且可使第一柔性基板210的表面平坦 化。然而，缓冲层是可选元件，可基于柔性有机发光显示装置200A中使用的第一柔性基板 210的种类或者薄膜晶体管220的类型来采用或不采用缓冲层。形成缓冲层的材料可包括 例如娃氧化物、娃氮化物或其组合。
[00巧]薄膜晶体管220包括有源层221、栅极222、源极223和漏极224。薄膜晶体管220 可针对各个像素区域或各个子像素区域形成，并且可允许各个像素区域或各个子像素区域 被单独地驱动。薄膜晶体管220可形成在第一柔性基板210上W允许有机发光层244发射 光。通常，为了允许有机发光层244利用响应于扫描信号输入的数据信号的图像信息来发 射光，采用开关薄膜晶体管和驱动薄膜晶体管。另外，柔性有机发光显示装置200A还可包 括用于为维持或改进柔性有机发光显示装置200A的可靠性而设计的补偿短路的薄膜晶体 管。本公开的图中所描绘的晶体管可W是上述晶体管中的任一个。
[0036] 薄膜晶体管可根据构成薄膜晶体管的元件的位置而分为反交错型或共面型。在本 说明书中，为了描述方便，示出了共面型薄膜晶体管220。然而，本文的实施方式不限于此， 而是可采用反交错型薄膜晶体管。
[0037] 在使用共面型薄膜晶体管220的情况下，其有源层221形成在第一柔性基板210 上。如果有机发光显示装置200A中采用缓冲层，则有源层221可形成在缓冲层上。有源 层221包括当施加偏置电流时形成沟道的沟道区。有源层221还包括分别与源极223和漏 极224接触的源区和漏区。有源层221可由非晶娃、多晶娃或氧化物半导体形成。作为有 源层221中包括的氧化物半导体的构成材料，可使用四元金属氧化物，例如InSnGa化0基材 料己元金属氧化物，例如InGaSiO基材料、InSnZnO基材料、InAlZnO基材料、SnGaZnO基 材料、AlGaZnO基材料和SnAlZnO基材料；二元金属氧化物，例如InZnO基材料、SnZnO基材 料、AlZnO基材料、ZnMgO基材料、SnMgO基材料、InMgO基材料或InGaO基材料；InO基材料； SnO基材料；ZnO基材料；等。所列的各个氧化物半导体材料中包含的各个元素的组成比不 被特别限制，可进行各种各样地调节。
[0038] 栅绝缘膜232形成在有源层221上。栅绝缘膜232将有源层221和栅极222彼此 绝缘。栅绝缘膜232可由娃氧化物、娃氮化物或者由该些材料形成的层堆叠来形成。然而， 栅绝缘膜232不限于此，而是可由各种其它材料形成。由于栅绝缘膜232仅需要将有源层 221和栅极222彼此绝缘，所W如图2a所示，栅绝缘膜232仅形成在有源层221上。然而， 栅绝缘膜232可形成在第一柔性基板210的整个表面上。当栅绝缘膜232形成在第一柔性 基板210的整个表面上时，栅绝缘膜232可被形成为具有使有源层221的源区和漏区的一 些区域开放的一个或更多个接触孔。
[0039] 栅极222形成在栅绝缘膜232上。栅极222至少部分地与有源层221交叠，具体 地讲，与有源层221的沟道区交叠。栅极222可由（但不限于）钢（Mo)、侣（A1)、铭（&)、 金（Au)、铁（Ti)、镶（Ni)、钦（Nd)、铜（Cu)或其合金中的任一种形成，并且可由各种材料形 成。另外，栅极222可形成为由该些材料形成的层堆叠。
[0040] 层间绝缘膜231形成在栅极222上。层间绝缘膜231可由与栅绝缘膜232相同的 材料形成，并且可由娃氧化物、娃氮化物或其堆叠的层形成。然而，层间绝缘膜231不限于 此，而是可由各种材料形成。层间绝缘膜231可形成在第一柔性基板210的整个表面上，并 且可被形成为具有使有源层221的一部分开放的接触孔，所述接触孔可使有源层221的源 区和漏区的一些区域开放。
[0041] 源极223和漏极224形成在层间绝缘膜231上。源极223和漏极224分别通过形 成在层间绝缘膜231和/或栅绝缘膜232中的接触孔来电连接到有源层221的源区和漏区。 源极223和漏极224可由钢Mo、侣A1、铭化、金Au、铁Ti、镶Ni、钦化I、铜化和S氧化二侣 Al2〇3或其合金中的任一种形成。然而，源极223和漏极224不限于此，而是可由各种材料 形成。另外，栅极222可形成为由该些材料形成的层堆叠。
[0042] 纯化膜（未示出）可形成在源极223和漏极224上。纯化膜保护薄膜晶体管220 并且可由与层间绝缘膜231和/或栅绝缘膜232相同的材料形成。纯化膜可形成为由诸如 娃氧化物、娃氮化物和Al2〇3的材料中的任一种形成的单层或者其多层。然而，纯化膜不限 于此，而是可由各种材料形成。
[0043] 涂敷层233形成在源极223和漏极224上。涂敷层233可被称作平坦化膜。当形 成纯化膜时，涂敷层233可形成在纯化膜上。涂敷层233将第一柔性基板210的顶部平坦 化。另外，涂敷层233可被形成为具有暴露源极223或漏极224的接触孔。涂敷层233可 由聚丙締酸醋树脂、环氧树脂、酪醒树脂、聚酷胺树脂、聚酷亚胺树脂、不饱和聚醋树脂、聚 苯基離树脂、聚苯硫離树脂和苯并环了締中的至少一种材料形成。然而，涂敷层不限于此， 而是可由各种材料形成。
[0044] 包括阳极241、有机发光层244和阴极245的有机发光元件240形成在第一柔性基 板210上。有机发光元件240通过从阳极241供应的空穴与从阴极245供应的电子在有机 发光层244中复合的原理来驱动，从而形成图像。
[0045] 上述薄膜晶体管220和有机发光元件240可设置在各个子像素区域中，设置在各 个子像素区域中的薄膜晶体管220可被配置为单独地驱动该子像素区域中的对应有机发 光元件240。换言之，各个子像素区域可独立于其它子像素区域来驱动。
[0046] 堤层234形成在涂敷层233上。堤层234用于区分相邻子像素区域，并且可设置 在相邻子像素区域之间。另外，堤层234可被形成为暴露阳极241的一部分。堤层234可 由有机绝缘材料形成，例如聚酷亚胺、光丙締（photoacryl)和苯并环了締炬CB)中的任一 种。堤层234可呈锥形。当堤层234呈锥形时，堤层234可利用正性光刻胶来形成。堤层 234可被形成为具有用于划分相邻子像素区域的厚度。
[0047] 阳极241形成在涂敷层233上。根据薄膜晶体管220的类型，阳极241可经由形 成在涂敷层233中的接触孔连接到薄膜晶体管220的源极223或漏极224。
[0048] 阳极241应该供应空穴，因此由具有高功函数的导电材料形成。阳极241可包括 具有高功函数的透明导电层243,该透明导电层243可由诸如铜锡氧化物（IT0)、铜锋氧化 物（IZ0)、铜锡锋氧化物aTZO)、锋氧化物或锡氧化物的透明导电氧化物（TC0)形成。
[0049] 如图2a所示，当柔性有机发光显示装置200A是顶部发射型有机发光显示装置时， 阳极241包括形成在透明导电层243下面的反射层242。阳极241还可包括单独的低电阻 反射层242W用于将光朝着柔性有机发光显示装置200A的顶部反射。反射层242由具有高 反射率的导电层（例如银（Ag)。镶（Ni)、金（Au)、销（Pt)、侣（A1)、铜（化）或者Mo/AlNd) 形成。在本说明书中，阳极241被示出为包括透明导电层243和反射层242。然而，阳极241 可由透明导电层243单独形成，反射层242可被限定为单独的元件。另外，在本说明书中， 阳极241由具有高功函数的透明导电材料和反射金属层形成。然而，阳极241本身可具有 高功函数，并且可由具有高反射率的导电材料形成。
[0050] 阳极241的透明导电层243和/或反射层242中的任一个可电连接到源极223。参 照图2a，反射层242形成在涂敷层233上，接触孔形成在涂敷层233中，透明导电层243因 此可电连接到源极223。为了描述方便，图2a中示出了透明导电层243电连接到源极223。 然而，反射层242可经由形成在涂敷层233中的接触孔电连接到源极223,透明导电层243 可形成在反射层242上W经由反射层242电连接到源极223。
[0051] 针对各个子像素区域单独地形成阳极241。目P，形成在第一子像素区域A中的阳极 241、形成在第二子像素区域B中的阳极241W及形成在第S子像素区域C中的阳极241可 电连接到相应薄膜晶体管W单独地驱动相应子像素区域。
[0052] 柔性有机发光显示装置200A使用被配置为发射白光的有机发光层244W及滤色 器层270,所述滤色器层270包括多个滤色器层元件271、272和273W用于对白光进行滤光 W生成期望颜色的光。在图2a中，示出了被配置为发射白光的有机发光层244连续地形成 在第一子像素区域A、第二子像素区域B和第=子像素区域C上。然而，本文的实施方式不 限于此，白色有机发光层244可分开形成在各个第一子像素区域A、第二子像素区域B和第 =子像素区域C上。
[0053] 阴极245形成在有机发光层244上。阴极245可连接到单独的电压互连W将相同 的电压施加到所有子像素区域。
[0054] 阴极245应该供应电子，因此由具有高电导率和低功函数的材料形成。形成阴极 245的具体材料可根据柔性有机发光显示装置200A的发射类型而不同。如图2a所示，当柔 性有机发光显示装置200A是顶部发射型有机发光显示装置时，阴极245可由具有低功函数 的非常薄的金属材料形成。例如，阴极245可由具有低功函数的金属材料形成，例如可使用 Ag、Ti、Al、Mo、或者银（Ag)和儀（Mg)的合金。另 外，阴极 245 可被形成为具有几百A或更 小（例如，200A或更小）的厚度。即使当形成阴极245的材料是具有高反射率的不透明金 属时，如果它被形成为足够薄的层（例如，等于或小于200A)，则阴极245可被形成为基本 透明的电极。另外，具有足够电导率和光学透明度的碳纳米管（CNT)和/或石墨締基材料 (graphenebasedmaterials)也可用于形成阴极 245。
[00巧]用作覆盖有机发光元件240的密封构件的封装单元250形成在包括阴极245的有 机发光元件240上。封装单元250可保护柔性有机发光显示装置200A内的诸如薄膜晶体 管220和有机发光元件240的元件免受外部湿气、空气、冲击等的影响。
[0056] 封装单元250可根据柔性有机发光显示装置200A内的元件（例如，薄膜晶体管 220、有机发光元件240)的布置而按照各种方式配置。例如，封装单元250可利用薄膜封装 (TFE)、端面密封等来密封有机发光元件240。
[0057] 如本文所述，在各种封装方式当中，柔性薄膜封装（T阳）被描述为由封装单元250 采用。TFE可W是有机TFE、无机TFE或者有机无机复合TFE。在该些类型的TFE当中，无机 TFE在封装性能方面是有利的。然而，无机TFE易于在形成膜期间由杂质引起裂缝，使得难 W确保柔性并且增加了制造时间。另一方面，有机TFE在确保柔性方面是有利的，但是通常 具有差的封装性能。因此，优选采用在封装性能和柔性方面均有利的有机无机复合TFE作 为封装单元250。
[0058] 上柔性基板组件包括第二柔性基板215、滤色器层270和触摸感测单元280A，并且 通过插入在上柔性基板组件和下柔性基板组件之间的结合层260附接到下柔性基板组件。
[0059] 第二柔性基板215是用于支撑和保护柔性有机发光显示装置200A的多个元件的 基板，并且被设置为面向第一柔性基板210。第二柔性基板215可由柔性绝缘材料形成，并 且可由与第一柔性基板210基本上相同的材料形成。如图2a所示，当柔性有机发光显示装 置200A是顶部发射型有机发光显示装置时，第二柔性基板215可由透明柔性绝缘材料形 成。
[0060] 如图2a所示，滤色器层270包括在上柔性基板组件中。由于滤色器层270包括在 上柔性基板组件内，所W滤色器层270在本文中也可被称作中间层。滤色器层270包括各 自形成在对应子像素区域中的多个滤色器层元件271、272和273。例如，滤色器层270包括 形成在第一子像素区域A中的第一滤色器层元件271、形成在第二子像素区域B中的第二滤 色器层元件272W及形成在第=子像素区域C中的第=滤色器层元件273。如上所述，当第 一子像素区域A是红色子像素区域，第二子像素区域B是绿色子像素区域，第=子像素区域 C是藍色子像素区域时，第一滤色器层元件271可W是红色滤色器层元件，第二滤色器层元 件272可W是绿色滤色器层元件，第=滤色器层元件273可W是藍色滤色器层元件。
[0061] 由有机发光层244发射的白光穿过形成在第一子像素区域A中的第一滤色器层元 件271从而成为红光，穿过形成在第二子像素区域B中的第二滤色器层元件272从而成为 绿光，穿过形成在第=子像素区域C中的第=滤色器层元件273从而成为藍光。如图2a所 示，当柔性有机发光显示装置200A是顶部发射型有机发光显示装置时，滤色器层270设置 在有机发光层244上方并且形成在上柔性基板组件中。
[0062] 触摸感测单元280A包括在上柔性基板组件中。触摸感测单元280A是感测触摸的 输入感测单元，并且包括第一电极图案281A和第二电极图案282A。第一电极图案281A和 第二电极图案282A分别形成在滤色器层270的下表面和上表面上。第一电极图案281A和 第二电极图案282A通过设置在第一电极图案281A和第二电极图案282A之间的滤色器层 270而彼此绝缘。
[0063] 触摸感测单元280A的第一电极图案281A和第二电极图案282A分别形成在滤色 器层270的下表面和上表面上。第一和第二电极图案（281A、282A)由透明导电材料形成。 形成第一电极图案281A和第二电极图案282A的材料可包括（但不限于）CNT和/或石墨 締基材料、金属纳米线、导电聚合物W及诸如口〇、IZO和锋氧化物的氧化物等。该些电极图 案（281A、282A)可（例如）利用一般瓣射工艺来形成，而无需任何修改，因此，可实现柔性 有机发光显示装置200A内的触摸感测单元280A的制造而无需过多成本。
[0064] 用于感测触摸的第一电极图案281A和第二电极图案282A共同形成触摸感测单元 280A，电极图案中的每一个可W是感测电极图案或者驱动电极图案。例如，当第一电极图案 281A是驱动电极图案时，第二电极图案282A是感测电极图案。在该设置中，当驱动信号被 施加到实际发生触摸的位置附近的第一电极图案281A时，实际发生触摸的位置附近的第 二电极图案282A上发生的感测信号的改变量将最大。因此，可基于施加到第一电极图案 281A的驱动信号和第二电极图案282A中感测的感测信号来感测触摸位置。
[0065] 触摸感测单元280A的电极图案可包括第一方向感测电极图案（例如，第一或第二 电极图案281A、282A)和第二方向感测电极图案（例如，第一或第二电极图案281A、282A)。 第一和第二方向感测电极图案可通过单独的绝缘材料来彼此绝缘。第一方向感测电极图案 可W是用于感测第一方向（例如，X或Y轴）坐标的感测电极图案，第二方向感测电极图案 可W是用于感测第二方向（例如，X或Y轴）坐标的感测电极图案。因此，当触摸输入被施 加到上柔性基板组件的预定位置时，在第一方向感测电极图案中感测的第一方向坐标化及 在第二方向感测电极图案中感测的第二方向坐标可被组合W感测触摸位置。
[0066] 黑底（未示出）可形成在第二电极图案282A上。黑底形成在子像素区域之间的 各个边界处。黑底可由铭&或者另一不透明金属膜形成，或者可由树脂形成。黑底可区分 形成在各个子像素区域中的各个子像素区域和滤色器层270。另外，偏振膜（未示出）可设 置在上柔性基板组件115中。当偏振膜形成在上柔性基板组件中时，偏振膜可形成在第二 电极图案282A的上表面上或者形成在上柔性基板组件上。
[0067] 传统上，触摸感测单元280A的上述电极形成在除了下柔性基板组件和上柔性基 板组件W外制备的单独的触摸基板（例如，PET膜）上。当使用单独的触摸基板时，显示装 置的厚度的增加是不可避免的。在下柔性基板组件和上柔性基板组件上添加单独的触摸基 板还使总柔性降低。此外，添加单独的触摸基板增加了总制造成本并且使制造工艺复杂。
[0068] 根据实施方式的柔性有机发光显示装置200A，在不添加单独的触摸基板的情况下 形成触摸感测单元280A。具体地讲，第一电极图案281A形成在滤色器层270的下表面（即， 第一表面）上，第二电极图案282A形成在滤色器层270的上表面（即，第二表面）上。去 除单独的触摸基板减小了柔性有机发光显示装置200A的厚度，简化了制造工艺，降低了总 制造成本，并且改进了柔性有机发光显示装置200A的柔性。另外，将触摸感测单元280A集 成在上柔性基板组件内甚至还在柔性增加的情况下减少了湿气的渗透。
[0069] 图化和图2c示出具有单层结构的触摸感测单元（280B、280C)的示例性实施方 式。单层结构可形成为互电容触摸型或者自电容触摸型。在互电容触摸型中，第一和第二 电极图案可形成在滤色器层270的相同表面上。换言之，第一和第二电极图案形成在滤色 器层270的上表面和下表面中的一个上。如上所述，第一电极图案和第二电极图案中的任 一个是感测电极图案，另一个电极图案是驱动电极图案。另外，第一电极图案和第二电极图 案中的一个可W是第一方向感测电极图案或第二方向感测电极图案。自电容触摸型包括实 现上述第一电极图案和第二电极图案二者的功能的单个电极图案。
[0070] 参照图化，触摸感测单元280B被示出为形成在滤色器层270的上表面上。由于滤 色器层270是上柔性基板组件的最下面的元件，所W滤色器层270的下表面与结合层260 接触。参照图2c，触摸感测单元280C被示出为形成在滤色器层270的下表面上。由于触摸 感测单元280C是上柔性基板组件的最下面的元件，所W触摸感测单元280C的下表面与结 合层260接触。
[0071] 图2d是根据另一实施方式的柔性有机发光显示装置200D的横截面图。除了上述 子像素区域（即，红色、绿色、藍色子像素区域）W外，图2d所示的示例性实施方式还包括 被配置为发射白光的第四子像素区域D(即，白色子像素区域）。通过采用该附加白色子像 素区域，柔性有机发光显示装置200D的总亮度可增加，而没有不必要的功耗。
[0072] 透明树脂层275形成在与白色子像素区域对应的上柔性基板组件中。在白色子像 素区域中，来自有机发光元件的光无需被滤光。因此，滤色器层270没有形成在白色子像素 区域中，而是相反，从有机发光元件240发射的白光仅仅是穿过透明树脂层275而没有改变 为不同的颜色。
[0073] 类似于参照图2a描述的触摸感测单元280A，触摸感测单元280D可包括第一电极 图案281D和第二电极图案282D。该些第一电极图案281D和第二电极图案282D可形成在 滤色器层270和/或透明树脂层275的下表面和上表面上。如前所述，触摸感测单元280D 可形成为单层触摸感测单元，其可W是互电容触摸型或自电容触摸型。具有单层结构的触 摸感测单元280D可形成在滤色器层270和透明树脂层275的上表面或下表面上。
[0074] 根据一个实施方式，图3a描绘了具有=个子像素区域（例如，RGB)的柔性有机发 光显示装置300A，图3b描绘了具有四个子像素区域（例如，RGBW)的柔性有机发光显示装 置300B。柔性有机发光显示装置300A和300B均包括第一柔性基板310、薄膜晶体管320、 有机发光元件340和封装单元350。在任一情况下，触摸感测单元380可形成在第二柔性基 板315的上表面和下表面中的至少一个上。在图3a和图3b所示的示例性实施方式中，触 摸感测单元380的第一电极图案381和第二电极图案382可分别形成在 第二柔性基板315 的下表面和上表面上。然而，在一些其它实施方式中，触摸感测单元380可形成为单层触摸 感测单元。在单层触摸感测单元中，被配置为实现第一电极图案和第二电极图案二者的功 能的单个电极图案形成在第二柔性基板315的下表面或上表面上。由于第二柔性基板315 被包括在上柔性基板组件中，所W第二柔性基板315在本文中也可被称作中间层。
[00巧]保护膜390也可被包括在上柔性基板组件中W保护柔性有机发光显示装置内的 元件。在图3a和图3b中，保护膜390被示出为利用单独的粘合剂形成在第二电极图案382 上。保护膜390可具有几百ym或更大的厚度。保护膜390可由透明柔性材料形成。例如， 保护膜390可由塑料、金属、金属氧化物、陶瓷氧化物或聚合物材料中的任一种或其组合形 成。
[0076] 根据一个实施方式，图4a描绘了具有S个子像素区域（例如，RGB)的柔性有机发 光显示装置400A，图4b描绘了具有四个子像素区域（例如，RGBW)的柔性有机发光显示装 置400B。在该两种情况下，上柔性基板组件还可包括绝缘膜层。更具体地讲，上柔性基板组 件内的触摸感测单元可包括绝缘膜层W及形成在其上的一个或更多个电极图案。
[0077] 在图4a和图4b所示的实施方式中，柔性有机发光显示装置400A和400B均包括 第一柔性基板410、薄膜晶体管420、有机发光元件440和封装单元450。另外，触摸感测单 元480包括形成在绝缘膜层485的下表面上的第一电极图案481W及形成在绝缘膜层485 的上表面上的第二电极图案482。然而，在一些其它实施方式中，触摸感测单元480可形成 为单层触摸感测单元。在单层触摸感测单元中，被配置为实现第一和第二电极图案（481、 482)二者的功能的单个电极图案形成在绝缘膜层485的下表面或上表面上。
[0078] 另外，在一些其它实施方式中，如图4c所示，包括绝缘膜层485的触摸感测单元 480可形成在滤色器层470 (W及在图4b的RGBW配置中，透明树脂层475)与结合层460之 间。在该设置中，触摸感测单元480 (更具体讲，绝缘膜层485的下表面或者形成在绝缘膜 层485的下表面上的电极图案）与结合层460直接接触。
[0079] 绝缘膜层485可利用用于沉积无机膜的等离子体增强化学汽相沉积（PECVD)方法 来形成。阳CVD方法是将温度降低至低于一般CVD的温度然后沉积薄膜层的工艺，并且是在 两个平行电极之间注入反应气体的工艺。该两个平行电极可使得在反应气体下诱发化学反 应的等离子态下在反应气体上发生电流，从而在第二电极图案482或第二柔性基板415上 沉积绝缘膜层485。另外，绝缘膜层485可利用原子层沉积（ALD)设备通过沉积Al2〇3的方 法来形成。绝缘膜层485用作维持第二电极图案482与第一电极图案481之间隔开的间隔 的间隔物。因此，绝缘膜层485可由具有良好耐热性、耐化学性、电绝缘性和弹性的透明无 机膜形成。例如，绝缘膜层485可由娃氧化物层、娃氮化物层或者上述层的堆叠形成。由于 绝缘膜层485被包括在上柔性基板组件内，所W绝缘膜层485在本文中也可被称作中间层。
[0080] 图5是示出根据一个实施方式的柔性有机发光显示装置的制造方法的流程图。图 6a至图6d分别是根据本公开的实施方式的在柔性有机发光显示装置600D的制造期间下柔 性基板组件600A和上柔性基板组件600BW及所得柔性有机发光显示装置600D的横截面 图。
[0081] 参照图5、图6a和图化，在步骤S100中，在第一支撑基板611上形成下柔性基板组 件600A。在该阶段，在第一柔性基板610上形成薄膜晶体管620和有机发光元件640。该 阶段还包括形成封装层650W用于保护有机发光元件640免于湿气、气体或其它杂质的不 期望的渗透的步骤。图6a中描绘了上述步骤之后的下柔性基板组件600A。
[0082] 由于与玻璃相比，通常用作第一柔性基板610和第二柔性基板615的材料的塑性 材料具有更低的转变温度和显著更低的刚性，所W难W在第一和第二柔性基板化1〇、615) 上形成各种元件和/或移动那些基板。为了解决该问题，在制造工艺期间使用具有足够刚 性的单独的支撑基板化11、616)来支撑下柔性基板组件和上柔性基板组件的元件。
[0083] 因此，返回参照图5,在步骤S110中在第二支撑基板616上形成上柔性基板组件 600B。在该阶段，在第二柔性基板615上形成触摸感测单元680和滤色器层670。根据有机 发光元件的类型（例如，RGB或RGBW)，还可包括形成透明树脂层（未示出）的步骤。应该 注意的是，形成滤色器层670的步骤和形成触摸感测单元680的步骤的顺序可根据触摸感 测单元的类型（例如，单层或多层）和位置而变化。例如，电极图案之一可形成在第二柔性 基板615上，滤色器层670可形成在第二柔性基板615上所形成的电极图案上。在形成滤 色器层670之后，另一电极图案可形成在滤色器层670上。图化中描绘了步骤S110之后 的上柔性基板组件。
[0084] 当采用单层触摸感测单元时，滤色器层670 (和透明树脂层）可形成在第二柔性 基板615上，然后多个电极图案形成在滤色器层670上W使得它用作触摸感测单元。另选 地，能够用作触摸感测单元的多个电极可形成在第二柔性基板的内表面上，然后滤色器层 680(化及在RGBW型中，透明树脂层）形成在多个电极图案上。
[0085] 在步骤S120中，下柔性基板组件600A和上柔性基板组件600B附接在一起。在该 阶段，结合层660可形成在下柔性基板组件和上柔性基板组件化00A、600B)中的一者或二 者上，然后该些基板组件被附接在一起，如图6c所示。
[0086] 如上所述，第一和第二支撑基板化11、616)用作在形成该里的各种其它元件期间 支撑和保护下柔性基板组件和上柔性基板组件化〇〇A、600B)的临时基板。因此，在图5的 步骤S130中，将第一支撑基板611和第二支撑基板616从下柔性基板组件600A和上柔性 基板组件600B移除。为了移除第一和第二支撑基板化11、616)，可用激光福射第一和第二 支撑基板化11、616)的外部表面。
[0087] 应该理解，可在形成下柔性基板组件和上柔性基板组件化00A、600B)之前在第一 和第二支撑基板化11、616)上沉积牺牲层（未示出）。形成在柔性基板组件化00A、600B) 与它们对应的支撑基板化11、616)之间的牺牲层在移除支撑基板化11、616)期间保护各个 柔性基板组件的第一和第二柔性基板化1〇、615)。
[0088] 图6d中描绘了上述步骤之后的所得柔性有机发光显示装置600D。
[0089] W下。将描述本发明的柔性有机发光显示装置的制造方法的各种特性。
[0090] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在滤色器层的第一表面和第二表面 W及透明树脂层的第一表面和第二表面上，并且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔 性基板上形成触摸感测单元的第一电极图案，在第一电极图案上形成滤色器层和透明树脂 层，并且在滤色器层和透明树脂层上形成触摸感测单元的第二电极图案，其中，第一电极图 案和第二电极图案中的一个是驱动电极。
[0091] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在滤色器层的一个表面和透明树脂层 的一个表面上，并且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔性基板上形成触摸感测单元 的第一电极图案，在第一电极图案上形成触摸感测单元的第二电极图案，所述第一电极图 案和第二电极图案被形成为彼此电绝缘，在形成在第二柔性基板上的第一电极图案和第二 电极图案上形成滤色器层和透明树脂层。
[0092] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在滤色器层的一个表面和透明树脂层 的一个表面上，并且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔性基板上形成滤色器层和透 明树脂层，在滤色器层和透明树脂层上形成触摸感测单元的第一电极图案，并且在第一电 极图案上形成触摸感测单元的第二电极图案，使得第一电极图案和第二电极图案彼此电绝 缘。
[0093] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在第二柔性基板的第一表面和第二柔 性基板的第二表面上，并且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔性基板的第一表面上 形成触摸感测单元的第一电极图案，在第二柔性基板的第二表面上形成触摸感测单元的第 二电极图案，在第二电极图案上形成滤色器层和透明树脂层。
[0094] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在第二柔性基板层的一个表面上，并 且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔性基板的第一表面上形成触摸感测单元的第一 电极图案和触摸感测单元的第二电极图案二者，所述第一电极图案和所述第二电极图案被 形成为彼此电绝缘，并且在第二柔性基板的第二表面上形成滤色器层和透明树脂层。
[0095] W下将描述本发明的柔性有机发光显示装置的各种特性。
[0096] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在滤色器层的第一表面和滤色器层的 第二表面中的至少一个上。
[0097] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案被配置成驱动电极，第二电极图案被配置成感测电极。
[009引根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案和第二电极图案均被配置成感测电极。
[0099] 根据本发明的另一特性，第一电极图案设置在滤色器层的第一表面上，第二电极 图案设置在滤色器层的第二表面上。
[0100] 根据本发明的另一特性，第一电极图案和第二电极图案设置在滤色器层的相同表 面上，使得第一电极图案和第二电极图案彼此电绝缘。
[0101] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元是自电容型触摸感测单元，自电容型触摸 感测单元具有设置在滤色器层的第一表面和滤色器层的第二表面中的至少一个上的多个 电极图案，并且其中，所述多个电极图案中的每一个被布置为不与所述多个电极图案中的 另一电极图案义畳。
[0102] W下，将描述本发明的柔性有机发光显示装置的各种特性。
[0103] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案设置在滤色器层的 第一表面上，第二电极图案设置在滤色器层的第二 表面上。
[0104] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案和第二电极图案二者设置在滤色器层的相同表面上。
[0105] 根据本发明的另一特性，柔性有机发光显示装置还包括透明树脂层，其被配置为 在柔性有机发光显示装置的白色子像素区域处使从有机发光元件发射的白光穿过。
[0106] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案设置在滤色器层的第一表面和透明树脂层的第一表面上，第二电极图 案设置在滤色器层的第一表面的相对表面和透明树脂层的第一表面的相对表面上。
[0107] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案设置在滤色器层的第一表面和透明树脂层的第一表面上，第二电极图 案设置在滤色器层的第一表面的相同表面和透明树脂层的第一表面的相同表面上。
[010引上面借助示出指定功能及其关系的实现方式的功能框图描述了本发明。为了描述 方便，本文中任意限定了该些功能框图的边界。可限定替代边界，只要指定功能及其关系被 适当地执行即可。
【具体实施方式】 [0109] 的W上描述因此将充分揭露本发明的一般性质，使得在不脱离本发 明的一般范围的情况下，其他人可在没有过度实验的情况下通过应用本领域内的知识容易 地针对各种应用修改和/或改变该些。因此，该些改变和修改旨在基于本文 呈现的教导和指导落入所公开的实施方式的含义和等同范围内。将理解，本文中的措辞或 术语用于描述的目的，而非限制，因此本说明书的措辞或术语由本领域技术人员根据所述 教导和指导来解释。
[0110] 本发明的广度和范围不应由上述任何示例性实施方式限制，而是应该仅根据W下 权利要求及其等同物来限定。
[0111] 本申请中的权利要求不同于母案申请或其它相关申请中的那些权利要求。因此， 申请人废除与本申请有关的母案申请或者任何在前申请中所作的保护范围的任何弃权声 明。因此建议审查员，任何该种先前的弃权声明及其所撤销的引用的参考文献可能需要重 新评估。因此，应该注意的是，本申请中所作的任何弃权声明不应在母案申请中考虑或与母 案申请相对。
【主权项】
1. 一种制造柔性有机发光显示装置的方法，该方法包括以下步骤： 形成下柔性基板组件，该下柔性基板组件包括第一柔性基板、设置在第一柔性基板上 方的薄膜晶体管和有机发光元件，该有机发光元件被配置为发射白光并且电连接到所述薄 膜晶体管； 形成上柔性基板组件，该上柔性基板组件包括在中间层上具有至少一个电极图案的触 摸感测单元，所述中间层是第二柔性基板、被配置为对所述白光进行滤光的滤色器层和透 明树脂层中的至少一个；以及 将所述下柔性基板组件和所述上柔性基板组件结合在一起。2. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述滤色器层的第一 表面和第二表面以及所述透明树脂层的第一表面和第二表面上，并且其中，形成所述上柔 性基板组件的步骤包括： 在所述第二柔性基板上形成所述触摸感测单元的第一电极图案； 在所述第一电极图案上形成所述滤色器层和所述透明树脂层；以及 在所述滤色器层和所述透明树脂层上形成所述触摸感测单元的第二电极图案，其中， 所述第一电极图案和所述第二电极图案中的一个是驱动电极。3. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述滤色器层的一个 表面和所述透明树脂层的一个表面上，并且其中，形成所述上柔性基板组件的步骤包括： 在所述第二柔性基板上形成所述触摸感测单元的第一电极图案； 在所述第一电极图案上形成所述触摸感测单元的第二电极图案，所述第一电极图案和 所述第二电极图案被形成为彼此电绝缘； 在形成在所述第二柔性基板上的所述第一电极图案和所述第二电极图案上形成所述 滤色器层和所述透明树脂层。4. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述滤色器层的一个 表面和所述透明树脂层的一个表面上，并且其中，形成所述上柔性基板组件的步骤包括： 在所述第二柔性基板上形成所述滤色器层和所述透明树脂层； 在所述滤色器层和所述透明树脂层上形成所述触摸感测单元的第一电极图案；以及 在所述第一电极图案上形成所述触摸感测单元的第二电极图案，使得所述第一电极图 案和所述第二电极图案彼此电绝缘。5. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述第二柔性基板的 第一表面和所述第二柔性基板的第二表面上，并且其中，形成所述上柔性基板组件的步骤 包括： 在所述第二柔性基板的所述第一表面上形成所述触摸感测单元的第一电极图案； 在所述第二柔性基板的所述第二表面上形成所述触摸感测单元的第二电极图案； 在所述第二电极图案上形成所述滤色器层和所述透明树脂层。6. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述第二柔性基板层 的一个表面上，并且其中，形成所述上柔性基板组件的步骤包括： 在所述第二柔性基板的第一表面上形成所述触摸感测单元的第一电极图案和所述触 摸感测单元的第二电极图案二者，所述第一电极图案和所述第二电极图案被形成为彼此电 绝缘；以及 在所述第二柔性基板的第二表面上形成所述滤色器层和所述透明树脂层。7. -种柔性有机发光显示装置，该柔性有机发光显示装置包括： 下柔性基板组件，该下柔性基板组件包括设置在第一柔性基板上方的薄膜晶体管和白 色有机发光元件，该白色有机发光元件被配置为发射白光并且电连接到所述薄膜晶体管； 上柔性基板组件，该上柔性基板组件具有设置在中间层上的触摸感测单元，所述中间 层包括滤色器层、透明树脂层、第二柔性基板和绝缘膜层中的至少一个；以及 结合层，该结合层插入在所述下柔性基板组件和所述上柔性基板组件之间以将所述下 柔性基板组件和所述上柔性基板组件附接在一起。8. 根据权利要求7所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元设置在所 述滤色器层的第一表面和所述滤色器层的第二表面中的至少一个上。9. 根据权利要求8所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第一 电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案被配置成驱动电极，所述第二电极 图案被配置成感测电极。10. 根据权利要求8所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第一 电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案和所述第二电极图案均被配置成 感测电极。11. 根据权利要求9所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述第一电极图案设置在 所述滤色器层的所述第一表面上，所述第二电极图案设置在所述滤色器层的所述第二表面 上。12. 根据权利要求9所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述第一电极图案和所述第 二电极图案设置在所述滤色器层的相同的表面上，使得所述第一电极图案和所述第二电极 图案彼此电绝缘。13. 根据权利要求8所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元是自电容 型触摸感测单元，所述自电容型触摸感测单元具有设置在所述滤色器层的所述第一表面和 所述滤色器层的所述第二表面中的至少一个上的多个电极图案，并且其中，所述多个电极 图案中的每一个被布置为不与所述多个电极图案中的另一电极图案交叠。14. 一种柔性有机发光显示装置，该柔性有机发光显示装置包括： 第一柔性基板； 薄膜晶体管，该薄膜晶体管设置在所述第一柔性基板上； 有机发光元件，该有机发光元件设置在所述薄膜晶体管上，所述有机发光元件被配置 为发射白光； 柔性封装单元，该柔性封装单元形成在所述有机发光元件上； 滤色器层，该滤色器层具有多个滤色器层元件，所述多个滤色器层元件中的每一个被 配置为在与所述多个滤色器层元件中的每一个关联的子像素区域处对所述白光进行滤光 以生成与所述多个滤色器层元件中的每一个对应的彩色光； 结合层，该结合层设置在所述柔性封装单元和所述滤色器层之间；以及 触摸感测单元，该触摸感测单元设置在所述滤色器层的至少一个表面上。15. 根据权利要求14所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第 一电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案设置在所述滤色器层的第一表 面上，所述第二电极图案设置在所述滤色器层的第二表面上。16. 根据权利要求14所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第 一电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案和所述第二电极图案二者设置 在所述滤色器层的相同的表面上。17. 根据权利要求14所述的柔性有机发光显示装置，该柔性有机发光显示装置还包 括： 透明树脂层，该透明树脂层被配置为在所述柔性有机发光显示装置的白色子像素区域 处使从所述有机发光元件发射的白光穿过。18. 根据权利要求17所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第 一电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案设置在所述滤色器层的第一表 面和所述透明树脂层的第一表面上，所述第二电极图案设置在所述滤色器层的所述第一表 面的相对表面和所述透明树脂层的所述第一表面的相对表面上。19. 根据权利要求17所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第 一电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案设置在所述滤色器层的第一表 面和所述透明树脂层的第一表面上，并且所述第二电极图案设置在所述滤色器层的所述第 一表面的相同表面和所述透明树脂层的所述第一表面的相同表面上。
【专利摘要】提供了一种柔性有机发光显示装置以及该柔性有机发光显示装置的制造方法。该柔性有机发光显示装置包括通过结合层结合的下柔性基板组件和上柔性基板组件。下柔性基板组件包括第一柔性基板、形成在第一柔性基板上的薄膜晶体管、形成在薄膜晶体管上的白色有机发光元件以及形成在白色有机发光元件上的封装层。上柔性基板组件包括第二柔性基板、中间层以及形成在中间层上的触摸感测单元。中间层可以是滤色器层、透明树脂层、绝缘膜层和第二柔性基板中的至少一个。
【IPC分类】G09F9/33, H01L27/32, H01L51/50
【公开号】CN104885142
【申请号】CN201380068348
【发明人】李美贞, 朴钟贤, 尹洙荣
【申请人】乐金显示有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2013年12月24日
【公告号】EP2939230A1
【专利说明】
[0001] 相关申请的交叉引用
[0002] 本申请要求2012年12月27日提交的韩国专利申请No. 10-2012-0155596的优先 权和利益，其公开内容整体W引用方式并入本文。此申请还要求2013年11月28日提交的 韩国专利申请No. 10-2013-0146333的优先权和利益，其公开内容整体W引用方式并入本 文。
技术领域
[0003] 本文的实施方式设及使用on-cell触摸屏面板的柔性有机发光显示装置及其制 造方法。
【背景技术】
[0004] 计算机的监视器、TV、蜂窝电话等中所使用的显示装置的示例包括本身发光的有 机发光显示器（0LED)和等离子体显示面板（PDP)W及需要单独光源的液晶显示器（LCD) 等。
[0005] 另外，近来很多注意力已集中于作为下一代显示装置的柔性显示装置，其利用诸 如塑料的柔性材料制造W即使显示装置像纸一样弯曲时也允许显示图像。
[0006] 柔性显示装置的应用范围多种多样，从计算机监视器和TV到个人便携式设备。已 对具有大显示区域并且体积和重量减小的柔性显示装置进行了研究。另外，已对应用触摸 屏面板的柔性显示装置进行了研究，所述触摸屏面板允许用户利用他/她的手或笔来对显 示屏幕输入触摸。
【发明内容】
[0007] 当触摸屏面板应用于柔性有机发光显示装置时，应用add-on型触摸屏面板，其中 在诸如玻璃的基材上形成有用于感测触摸的电极图案的触摸屏面板附接到有机发光显示 装置。然而，当使用add-on型触摸屏面板时，有机发光显示装置的厚度由于基材而增加，审U 造单位成本增加，制造工艺中存在困难，具体地讲，当add-on型触摸屏面板应用于柔性有 机发光装置时，柔性有机发光装置的柔性变差，柔性有机发光装置变硬并且不具柔性。
[0008] 在一个实施方式中，提供一种制造柔性有机发光显示装置的方法，该方法包括步 骤；形成下柔性基板组件，该下柔性基板组件包括第一柔性基板、设置在第一柔性基板上方 的薄膜晶体管和有机发光元件，该有机发光元件被配置为发射白光并且电连接到所述薄膜 晶体管；形成上柔性基板组件，该上柔性基板组件包括在中间层上具有至少一个电极图案 的触摸感测单元；W及将所述下柔性基板组件和所述上柔性基板组件结合在一起。因此，触 摸感测单元形成在上柔性基板组件的中间层之一上。所述中间层可W是第二柔性基板、被 配置为对白光进行滤光的滤色器层和透明树脂层中的任一个。
[0009] 在另一实施方式中，提供一种柔性有机发光显示装置。该柔性有机发光显示装置 包括附接到彼此的下柔性基板组件和上柔性基板组件。下柔性基板组件包括设置在第一柔 性基板上方的薄膜晶体管和有机发光元件。有机发光元件被配置为发射白光并且电连接到 薄膜晶体管。上柔性基板组件包括设置在上柔性基板组件中的中间层上的触摸感测单元。 所述中间层可W是滤色器层、透明树脂层、第二柔性基板和绝缘膜层中的任一个。结合层插 入在下柔性基板组件和上柔性基板组件之间W将下柔性基板组件和上柔性基板组件附接 在一起。
[0010] 在另一实施方式中，提供一种柔性有机发光显示装置。该柔性有机发光显示装置 包括第一柔性基板、薄膜晶体管、有机发光元件、柔性封装单元、滤色器层、结合层和触摸感 测单元。薄膜晶体管设置在第一柔性基板上。被配置为发射白光的有机发光元件设置在薄 膜晶体管上。柔性封装单元形成在有机发光元件上W保护有机发光元件免受外部环境影 响。在柔性封装单元上方设置有滤色器层。该滤色器层包括多个滤色器层元件，所述多个 滤色器层元件中的每一个被配置为对白光进行滤光W生成与子像素区域对应的彩色光。结 合层插入在柔性封装单元和滤色器层之间。触摸感测单元设置在滤色器层的上表面、下表 面或者上表面和下表面二者上。
【附图说明】
[0011] 通过参照附图详细描述其示例性实施方式，对于本领域普通技术人员而言本发明 的W上和其它目的、特征和优点将变得更显而易见，附图中：
[0012] 图1是根据一个实施方式的柔性有机发光显示装置的横截面图。
[0013] 图2a至图2d是根据各种实施方式的柔性有机发光显示装置的概念图。
[0014] 图3a和图3b是根据另一实施方式的柔性有机发光显示装置的横截面图。
[0015] 图4a至图4c是根据各种实施方式的柔性有机发光显示装置的概念图。
[0016] 图5是示出根据一个实施方式的柔性有机发光显示装置的制造方法的流程图。
[0017] 图6a至图6d是示出根据一个实施方式的柔性有机发光显示装置的制造方法的工 艺的横截面图。
【具体实施方式】
[0018]下面将参照附图详细描述本发明的示例性实施方式。尽管结合本发明示例性实施 方式示出并描述了本发明，对于本领域技术人员而言将显而易见的是，在不脱离本发明的 范围的情况下可进行各种修改。
[0019] 形成在另一元件或层"上"的元件或层包括W下情况：元件直接形成在另一元件 上、W及元件形成在另一元件上并且二者间形成有附加元件或层。
[0020] 尽管可使用术语第一、第二等来描述各种元件，应该理解，该些元件不受该些术语 的限制。该些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，在不脱离示例性实施方式 的范围的情况下，第一元件可被称为第二元件，类似地，第二元件可被称为第一元件。
[0021] 在本说明书中，柔性显示装置是指被赋予柔性的显示装置，并且可按照与可弯曲 显示装置、可卷起显示装置、不可碎显示装置或可折叠显示装置相同的含义来使用。在本文 的描述中，柔性有机发光显示装置是各种柔性显示装置的一个示例。
[0022] 在本说明书中，贯穿附图的描述，相似标号指代相似元件。图中所示的各个元件的 尺寸和厚度仅是为了描述方便而示出，并非旨在限制本文所公开的实施方式的范围。
[0023] 本文所述的各种示例性实施方式的特征可部分地或完整地彼此绑定或组合，并且 利用对本领域技术人员而言显而易见的各种方法在技术上接合和驱动，示例性实施方式可 单独地独立实践或者组合地实践。
[0024] W下将参照附图更详细地描述各种示例性实施方式。
[00巧]图1示出柔性有机发光显示装置100,其包括下柔性基板组件101W及通过结合层 160附接到下柔性基板组件101的上柔性基板组件102。下柔性基板组件101是指有机发 光显示装置100的包括第一柔性基板110、薄膜晶体管120、有机发光元件140和封装单元 150的部分。上柔性基板组件102是指有机发光显示装置100的包括滤色器层170、触摸感 测单元180和第二柔性基板115的部分。
[0026] 下柔性基板组件101和上柔性基板组件102单独地制造。例如，在第一阶段，薄膜 晶体管120、有机发光元件140、封装单元150W及一个或更多个绝缘层（例如，纯化层、层 间绝缘层、涂敷层等）可形成在第一柔性基板110上W制造下柔性基板组件101。在第二阶 段，滤色器层170和触摸感测单元180可形成在第二柔性基板115上W制造上柔性基板组 件102。形成滤色器层元件171、172和173的制造工艺生成热，该可能是有机发光元件140 无法容忍的。形成触摸感测单元180的构图工艺也可能损坏有机发光元件140。因此，下 柔性基板组件101和上柔性基板组件102彼此分开制造，随后通过结合层160附接在一起。 在本公开中，术语"第一阶段"和"第二阶段"仅用于区分制造上柔性基板组件102和下柔 性基板组件101的各个阶段。应该理解，上柔性基板组件102和下柔性基板组件101可同 时制造或者按照任意顺序制造。
[0027] 为了将分开制造的下柔性基板组件101和上柔性基板组件102结合，结合层160 形成在下柔性基板组件101和上柔性基板组件102之间。更具体地讲，结合层160形成在 下柔性基板组件101的最上面的元件与上柔性基板组件102的最下面的元件之间。在图1 所示的柔性有机发光显示装置100的实施方式中，上柔性基板组件102的最下面的元件是 触摸感测单元180的第一电极图案181。因此，结合层160与下柔性基板组件101的封装单 元150和上柔性基板组件102的触摸感测单元180直接接触。
[0028] 然而，在一些其它实施方式中，上柔性基板组件102的最下面的元件可能不是触 摸感测单元180。因此，结合层160可被布置为与滤色器层170、绝缘膜层或者作为上柔性 基板组件102的最下面的元件的任何其它元件接触。
[0029] 结合层160可W是光学透明粘合剂（0CA)、光学透明树脂（OCR)、超级视野树脂 (SVR)、光学弹性树脂（0ER)、直接结合树脂值BR)等。可在真空或大气状态下将紫外扣V) 光或热施加到0CA、OCR、SVR、0ER、DBR等中的至少一个，从而将下柔性基板组件101和上柔 性基板组件102彼此结合。
[0030] 图2a示出柔性有机发光显示装置200A的一个实施方式，其包括通过结合层260 结合在一起之后的下柔性基板组件和上柔性基板组件。
[0031] 柔性有机发光显示装置200A包括多个像素区域，其中所述多个像素区域中的每 一个包括被配置为发射指定颜色的光的多个子像素区域（"A"、"B"、"C")。本文中，像素区 域可被称作像素，子像素区域可被称作子像素。在图2a所描绘的示例性实施方式中，柔性 有机发光显示装置200A包括第一子像素区域A(例如，红色子像素）、第二子像素区域B(例 如，绿色子像素）和第=子像素区域C(例如，藍色子像素）。然而，在一些其它实施方式中， 柔性有机发光显示装置200A的各个像素区域可包括更少或附加的子像素区域。例如，柔性 有机发光装置200A的各个像素区域还可包括第四子像素区域，其可被配置为发射白光。另 夕F，一些子像素区域可被布置为使得它们被两个或更多个像素区域共享。
[0032] 下柔性基板组件包括第一柔性基板210、设置在第一柔性基板210上方的薄膜晶 体管220和有机发光元件240。
[0033] 下柔性基板组件包括第一柔性基板210。第一柔性基板210是用于支撑和保护 柔性有机发光显示装置200A的各种元件的基板 。第一柔性基板210被定位在柔性有机发 光显示装置200A的下部。第一柔性基板210可由柔性绝缘材料形成。柔性绝缘材料的示 例包括聚酷亚胺（PI)、聚離酷亚胺（PEI)、聚对苯二甲酸己二醇醋（PET)、聚碳酸醋（PC)、 聚甲基丙締酸甲醋（PMMA)、聚苯己締（P巧、苯己締丙締晴共聚物（SAN)、娃丙締酸树脂 (silicon-acrylresin)等。另外，当柔性有机发光显示装置200A是透明有机发光显示装 置时，第一柔性基板210可由透明柔性绝缘材料形成。
[0034] 下柔性基板组件可包括缓冲层（未示出），其可形成在第一柔性基板210上。缓 冲层防止湿气或杂质穿过第一柔性基板210渗透，并且可使第一柔性基板210的表面平坦 化。然而，缓冲层是可选元件，可基于柔性有机发光显示装置200A中使用的第一柔性基板 210的种类或者薄膜晶体管220的类型来采用或不采用缓冲层。形成缓冲层的材料可包括 例如娃氧化物、娃氮化物或其组合。
[00巧]薄膜晶体管220包括有源层221、栅极222、源极223和漏极224。薄膜晶体管220 可针对各个像素区域或各个子像素区域形成，并且可允许各个像素区域或各个子像素区域 被单独地驱动。薄膜晶体管220可形成在第一柔性基板210上W允许有机发光层244发射 光。通常，为了允许有机发光层244利用响应于扫描信号输入的数据信号的图像信息来发 射光，采用开关薄膜晶体管和驱动薄膜晶体管。另外，柔性有机发光显示装置200A还可包 括用于为维持或改进柔性有机发光显示装置200A的可靠性而设计的补偿短路的薄膜晶体 管。本公开的图中所描绘的晶体管可W是上述晶体管中的任一个。
[0036] 薄膜晶体管可根据构成薄膜晶体管的元件的位置而分为反交错型或共面型。在本 说明书中，为了描述方便，示出了共面型薄膜晶体管220。然而，本文的实施方式不限于此， 而是可采用反交错型薄膜晶体管。
[0037] 在使用共面型薄膜晶体管220的情况下，其有源层221形成在第一柔性基板210 上。如果有机发光显示装置200A中采用缓冲层，则有源层221可形成在缓冲层上。有源 层221包括当施加偏置电流时形成沟道的沟道区。有源层221还包括分别与源极223和漏 极224接触的源区和漏区。有源层221可由非晶娃、多晶娃或氧化物半导体形成。作为有 源层221中包括的氧化物半导体的构成材料，可使用四元金属氧化物，例如InSnGa化0基材 料己元金属氧化物，例如InGaSiO基材料、InSnZnO基材料、InAlZnO基材料、SnGaZnO基 材料、AlGaZnO基材料和SnAlZnO基材料；二元金属氧化物，例如InZnO基材料、SnZnO基材 料、AlZnO基材料、ZnMgO基材料、SnMgO基材料、InMgO基材料或InGaO基材料；InO基材料； SnO基材料；ZnO基材料；等。所列的各个氧化物半导体材料中包含的各个元素的组成比不 被特别限制，可进行各种各样地调节。
[0038] 栅绝缘膜232形成在有源层221上。栅绝缘膜232将有源层221和栅极222彼此 绝缘。栅绝缘膜232可由娃氧化物、娃氮化物或者由该些材料形成的层堆叠来形成。然而， 栅绝缘膜232不限于此，而是可由各种其它材料形成。由于栅绝缘膜232仅需要将有源层 221和栅极222彼此绝缘，所W如图2a所示，栅绝缘膜232仅形成在有源层221上。然而， 栅绝缘膜232可形成在第一柔性基板210的整个表面上。当栅绝缘膜232形成在第一柔性 基板210的整个表面上时，栅绝缘膜232可被形成为具有使有源层221的源区和漏区的一 些区域开放的一个或更多个接触孔。
[0039] 栅极222形成在栅绝缘膜232上。栅极222至少部分地与有源层221交叠，具体 地讲，与有源层221的沟道区交叠。栅极222可由（但不限于）钢（Mo)、侣（A1)、铭（&)、 金（Au)、铁（Ti)、镶（Ni)、钦（Nd)、铜（Cu)或其合金中的任一种形成，并且可由各种材料形 成。另外，栅极222可形成为由该些材料形成的层堆叠。
[0040] 层间绝缘膜231形成在栅极222上。层间绝缘膜231可由与栅绝缘膜232相同的 材料形成，并且可由娃氧化物、娃氮化物或其堆叠的层形成。然而，层间绝缘膜231不限于 此，而是可由各种材料形成。层间绝缘膜231可形成在第一柔性基板210的整个表面上，并 且可被形成为具有使有源层221的一部分开放的接触孔，所述接触孔可使有源层221的源 区和漏区的一些区域开放。
[0041] 源极223和漏极224形成在层间绝缘膜231上。源极223和漏极224分别通过形 成在层间绝缘膜231和/或栅绝缘膜232中的接触孔来电连接到有源层221的源区和漏区。 源极223和漏极224可由钢Mo、侣A1、铭化、金Au、铁Ti、镶Ni、钦化I、铜化和S氧化二侣 Al2〇3或其合金中的任一种形成。然而，源极223和漏极224不限于此，而是可由各种材料 形成。另外，栅极222可形成为由该些材料形成的层堆叠。
[0042] 纯化膜（未示出）可形成在源极223和漏极224上。纯化膜保护薄膜晶体管220 并且可由与层间绝缘膜231和/或栅绝缘膜232相同的材料形成。纯化膜可形成为由诸如 娃氧化物、娃氮化物和Al2〇3的材料中的任一种形成的单层或者其多层。然而，纯化膜不限 于此，而是可由各种材料形成。
[0043] 涂敷层233形成在源极223和漏极224上。涂敷层233可被称作平坦化膜。当形 成纯化膜时，涂敷层233可形成在纯化膜上。涂敷层233将第一柔性基板210的顶部平坦 化。另外，涂敷层233可被形成为具有暴露源极223或漏极224的接触孔。涂敷层233可 由聚丙締酸醋树脂、环氧树脂、酪醒树脂、聚酷胺树脂、聚酷亚胺树脂、不饱和聚醋树脂、聚 苯基離树脂、聚苯硫離树脂和苯并环了締中的至少一种材料形成。然而，涂敷层不限于此， 而是可由各种材料形成。
[0044] 包括阳极241、有机发光层244和阴极245的有机发光元件240形成在第一柔性基 板210上。有机发光元件240通过从阳极241供应的空穴与从阴极245供应的电子在有机 发光层244中复合的原理来驱动，从而形成图像。
[0045] 上述薄膜晶体管220和有机发光元件240可设置在各个子像素区域中，设置在各 个子像素区域中的薄膜晶体管220可被配置为单独地驱动该子像素区域中的对应有机发 光元件240。换言之，各个子像素区域可独立于其它子像素区域来驱动。
[0046] 堤层234形成在涂敷层233上。堤层234用于区分相邻子像素区域，并且可设置 在相邻子像素区域之间。另外，堤层234可被形成为暴露阳极241的一部分。堤层234可 由有机绝缘材料形成，例如聚酷亚胺、光丙締（photoacryl)和苯并环了締炬CB)中的任一 种。堤层234可呈锥形。当堤层234呈锥形时，堤层234可利用正性光刻胶来形成。堤层 234可被形成为具有用于划分相邻子像素区域的厚度。
[0047] 阳极241形成在涂敷层233上。根据薄膜晶体管220的类型，阳极241可经由形 成在涂敷层233中的接触孔连接到薄膜晶体管220的源极223或漏极224。
[0048] 阳极241应该供应空穴，因此由具有高功函数的导电材料形成。阳极241可包括 具有高功函数的透明导电层243,该透明导电层243可由诸如铜锡氧化物（IT0)、铜锋氧化 物（IZ0)、铜锡锋氧化物aTZO)、锋氧化物或锡氧化物的透明导电氧化物（TC0)形成。
[0049] 如图2a所示，当柔性有机发光显示装置200A是顶部发射型有机发光显示装置时， 阳极241包括形成在透明导电层243下面的反射层242。阳极241还可包括单独的低电阻 反射层242W用于将光朝着柔性有机发光显示装置200A的顶部反射。反射层242由具有高 反射率的导电层（例如银（Ag)。镶（Ni)、金（Au)、销（Pt)、侣（A1)、铜（化）或者Mo/AlNd) 形成。在本说明书中，阳极241被示出为包括透明导电层243和反射层242。然而，阳极241 可由透明导电层243单独形成，反射层242可被限定为单独的元件。另外，在本说明书中， 阳极241由具有高功函数的透明导电材料和反射金属层形成。然而，阳极241本身可具有 高功函数，并且可由具有高反射率的导电材料形成。
[0050] 阳极241的透明导电层243和/或反射层242中的任一个可电连接到源极223。参 照图2a，反射层242形成在涂敷层233上，接触孔形成在涂敷层233中，透明导电层243因 此可电连接到源极223。为了描述方便，图2a中示出了透明导电层243电连接到源极223。 然而，反射层242可经由形成在涂敷层233中的接触孔电连接到源极223,透明导电层243 可形成在反射层242上W经由反射层242电连接到源极223。
[0051] 针对各个子像素区域单独地形成阳极241。目P，形成在第一子像素区域A中的阳极 241、形成在第二子像素区域B中的阳极241W及形成在第S子像素区域C中的阳极241可 电连接到相应薄膜晶体管W单独地驱动相应子像素区域。
[0052] 柔性有机发光显示装置200A使用被配置为发射白光的有机发光层244W及滤色 器层270,所述滤色器层270包括多个滤色器层元件271、272和273W用于对白光进行滤光 W生成期望颜色的光。在图2a中，示出了被配置为发射白光的有机发光层244连续地形成 在第一子像素区域A、第二子像素区域B和第=子像素区域C上。然而，本文的实施方式不 限于此，白色有机发光层244可分开形成在各个第一子像素区域A、第二子像素区域B和第 =子像素区域C上。
[0053] 阴极245形成在有机发光层244上。阴极245可连接到单独的电压互连W将相同 的电压施加到所有子像素区域。
[0054] 阴极245应该供应电子，因此由具有高电导率和低功函数的材料形成。形成阴极 245的具体材料可根据柔性有机发光显示装置200A的发射类型而不同。如图2a所示，当柔 性有机发光显示装置200A是顶部发射型有机发光显示装置时，阴极245可由具有低功函数 的非常薄的金属材料形成。例如，阴极245可由具有低功函数的金属材料形成，例如可使用 Ag、Ti、Al、Mo、或者银（Ag)和儀（Mg)的合金。另 外，阴极 245 可被形成为具有几百A或更 小（例如，200A或更小）的厚度。即使当形成阴极245的材料是具有高反射率的不透明金 属时，如果它被形成为足够薄的层（例如，等于或小于200A)，则阴极245可被形成为基本 透明的电极。另外，具有足够电导率和光学透明度的碳纳米管（CNT)和/或石墨締基材料 (graphenebasedmaterials)也可用于形成阴极 245。
[00巧]用作覆盖有机发光元件240的密封构件的封装单元250形成在包括阴极245的有 机发光元件240上。封装单元250可保护柔性有机发光显示装置200A内的诸如薄膜晶体 管220和有机发光元件240的元件免受外部湿气、空气、冲击等的影响。
[0056] 封装单元250可根据柔性有机发光显示装置200A内的元件（例如，薄膜晶体管 220、有机发光元件240)的布置而按照各种方式配置。例如，封装单元250可利用薄膜封装 (TFE)、端面密封等来密封有机发光元件240。
[0057] 如本文所述，在各种封装方式当中，柔性薄膜封装（T阳）被描述为由封装单元250 采用。TFE可W是有机TFE、无机TFE或者有机无机复合TFE。在该些类型的TFE当中，无机 TFE在封装性能方面是有利的。然而，无机TFE易于在形成膜期间由杂质引起裂缝，使得难 W确保柔性并且增加了制造时间。另一方面，有机TFE在确保柔性方面是有利的，但是通常 具有差的封装性能。因此，优选采用在封装性能和柔性方面均有利的有机无机复合TFE作 为封装单元250。
[0058] 上柔性基板组件包括第二柔性基板215、滤色器层270和触摸感测单元280A，并且 通过插入在上柔性基板组件和下柔性基板组件之间的结合层260附接到下柔性基板组件。
[0059] 第二柔性基板215是用于支撑和保护柔性有机发光显示装置200A的多个元件的 基板，并且被设置为面向第一柔性基板210。第二柔性基板215可由柔性绝缘材料形成，并 且可由与第一柔性基板210基本上相同的材料形成。如图2a所示，当柔性有机发光显示装 置200A是顶部发射型有机发光显示装置时，第二柔性基板215可由透明柔性绝缘材料形 成。
[0060] 如图2a所示，滤色器层270包括在上柔性基板组件中。由于滤色器层270包括在 上柔性基板组件内，所W滤色器层270在本文中也可被称作中间层。滤色器层270包括各 自形成在对应子像素区域中的多个滤色器层元件271、272和273。例如，滤色器层270包括 形成在第一子像素区域A中的第一滤色器层元件271、形成在第二子像素区域B中的第二滤 色器层元件272W及形成在第=子像素区域C中的第=滤色器层元件273。如上所述，当第 一子像素区域A是红色子像素区域，第二子像素区域B是绿色子像素区域，第=子像素区域 C是藍色子像素区域时，第一滤色器层元件271可W是红色滤色器层元件，第二滤色器层元 件272可W是绿色滤色器层元件，第=滤色器层元件273可W是藍色滤色器层元件。
[0061] 由有机发光层244发射的白光穿过形成在第一子像素区域A中的第一滤色器层元 件271从而成为红光，穿过形成在第二子像素区域B中的第二滤色器层元件272从而成为 绿光，穿过形成在第=子像素区域C中的第=滤色器层元件273从而成为藍光。如图2a所 示，当柔性有机发光显示装置200A是顶部发射型有机发光显示装置时，滤色器层270设置 在有机发光层244上方并且形成在上柔性基板组件中。
[0062] 触摸感测单元280A包括在上柔性基板组件中。触摸感测单元280A是感测触摸的 输入感测单元，并且包括第一电极图案281A和第二电极图案282A。第一电极图案281A和 第二电极图案282A分别形成在滤色器层270的下表面和上表面上。第一电极图案281A和 第二电极图案282A通过设置在第一电极图案281A和第二电极图案282A之间的滤色器层 270而彼此绝缘。
[0063] 触摸感测单元280A的第一电极图案281A和第二电极图案282A分别形成在滤色 器层270的下表面和上表面上。第一和第二电极图案（281A、282A)由透明导电材料形成。 形成第一电极图案281A和第二电极图案282A的材料可包括（但不限于）CNT和/或石墨 締基材料、金属纳米线、导电聚合物W及诸如口〇、IZO和锋氧化物的氧化物等。该些电极图 案（281A、282A)可（例如）利用一般瓣射工艺来形成，而无需任何修改，因此，可实现柔性 有机发光显示装置200A内的触摸感测单元280A的制造而无需过多成本。
[0064] 用于感测触摸的第一电极图案281A和第二电极图案282A共同形成触摸感测单元 280A，电极图案中的每一个可W是感测电极图案或者驱动电极图案。例如，当第一电极图案 281A是驱动电极图案时，第二电极图案282A是感测电极图案。在该设置中，当驱动信号被 施加到实际发生触摸的位置附近的第一电极图案281A时，实际发生触摸的位置附近的第 二电极图案282A上发生的感测信号的改变量将最大。因此，可基于施加到第一电极图案 281A的驱动信号和第二电极图案282A中感测的感测信号来感测触摸位置。
[0065] 触摸感测单元280A的电极图案可包括第一方向感测电极图案（例如，第一或第二 电极图案281A、282A)和第二方向感测电极图案（例如，第一或第二电极图案281A、282A)。 第一和第二方向感测电极图案可通过单独的绝缘材料来彼此绝缘。第一方向感测电极图案 可W是用于感测第一方向（例如，X或Y轴）坐标的感测电极图案，第二方向感测电极图案 可W是用于感测第二方向（例如，X或Y轴）坐标的感测电极图案。因此，当触摸输入被施 加到上柔性基板组件的预定位置时，在第一方向感测电极图案中感测的第一方向坐标化及 在第二方向感测电极图案中感测的第二方向坐标可被组合W感测触摸位置。
[0066] 黑底（未示出）可形成在第二电极图案282A上。黑底形成在子像素区域之间的 各个边界处。黑底可由铭&或者另一不透明金属膜形成，或者可由树脂形成。黑底可区分 形成在各个子像素区域中的各个子像素区域和滤色器层270。另外，偏振膜（未示出）可设 置在上柔性基板组件115中。当偏振膜形成在上柔性基板组件中时，偏振膜可形成在第二 电极图案282A的上表面上或者形成在上柔性基板组件上。
[0067] 传统上，触摸感测单元280A的上述电极形成在除了下柔性基板组件和上柔性基 板组件W外制备的单独的触摸基板（例如，PET膜）上。当使用单独的触摸基板时，显示装 置的厚度的增加是不可避免的。在下柔性基板组件和上柔性基板组件上添加单独的触摸基 板还使总柔性降低。此外，添加单独的触摸基板增加了总制造成本并且使制造工艺复杂。
[0068] 根据实施方式的柔性有机发光显示装置200A，在不添加单独的触摸基板的情况下 形成触摸感测单元280A。具体地讲，第一电极图案281A形成在滤色器层270的下表面（即， 第一表面）上，第二电极图案282A形成在滤色器层270的上表面（即，第二表面）上。去 除单独的触摸基板减小了柔性有机发光显示装置200A的厚度，简化了制造工艺，降低了总 制造成本，并且改进了柔性有机发光显示装置200A的柔性。另外，将触摸感测单元280A集 成在上柔性基板组件内甚至还在柔性增加的情况下减少了湿气的渗透。
[0069] 图化和图2c示出具有单层结构的触摸感测单元（280B、280C)的示例性实施方 式。单层结构可形成为互电容触摸型或者自电容触摸型。在互电容触摸型中，第一和第二 电极图案可形成在滤色器层270的相同表面上。换言之，第一和第二电极图案形成在滤色 器层270的上表面和下表面中的一个上。如上所述，第一电极图案和第二电极图案中的任 一个是感测电极图案，另一个电极图案是驱动电极图案。另外，第一电极图案和第二电极图 案中的一个可W是第一方向感测电极图案或第二方向感测电极图案。自电容触摸型包括实 现上述第一电极图案和第二电极图案二者的功能的单个电极图案。
[0070] 参照图化，触摸感测单元280B被示出为形成在滤色器层270的上表面上。由于滤 色器层270是上柔性基板组件的最下面的元件，所W滤色器层270的下表面与结合层260 接触。参照图2c，触摸感测单元280C被示出为形成在滤色器层270的下表面上。由于触摸 感测单元280C是上柔性基板组件的最下面的元件，所W触摸感测单元280C的下表面与结 合层260接触。
[0071] 图2d是根据另一实施方式的柔性有机发光显示装置200D的横截面图。除了上述 子像素区域（即，红色、绿色、藍色子像素区域）W外，图2d所示的示例性实施方式还包括 被配置为发射白光的第四子像素区域D(即，白色子像素区域）。通过采用该附加白色子像 素区域，柔性有机发光显示装置200D的总亮度可增加，而没有不必要的功耗。
[0072] 透明树脂层275形成在与白色子像素区域对应的上柔性基板组件中。在白色子像 素区域中，来自有机发光元件的光无需被滤光。因此，滤色器层270没有形成在白色子像素 区域中，而是相反，从有机发光元件240发射的白光仅仅是穿过透明树脂层275而没有改变 为不同的颜色。
[0073] 类似于参照图2a描述的触摸感测单元280A，触摸感测单元280D可包括第一电极 图案281D和第二电极图案282D。该些第一电极图案281D和第二电极图案282D可形成在 滤色器层270和/或透明树脂层275的下表面和上表面上。如前所述，触摸感测单元280D 可形成为单层触摸感测单元，其可W是互电容触摸型或自电容触摸型。具有单层结构的触 摸感测单元280D可形成在滤色器层270和透明树脂层275的上表面或下表面上。
[0074] 根据一个实施方式，图3a描绘了具有=个子像素区域（例如，RGB)的柔性有机发 光显示装置300A，图3b描绘了具有四个子像素区域（例如，RGBW)的柔性有机发光显示装 置300B。柔性有机发光显示装置300A和300B均包括第一柔性基板310、薄膜晶体管320、 有机发光元件340和封装单元350。在任一情况下，触摸感测单元380可形成在第二柔性基 板315的上表面和下表面中的至少一个上。在图3a和图3b所示的示例性实施方式中，触 摸感测单元380的第一电极图案381和第二电极图案382可分别形成在 第二柔性基板315 的下表面和上表面上。然而，在一些其它实施方式中，触摸感测单元380可形成为单层触摸 感测单元。在单层触摸感测单元中，被配置为实现第一电极图案和第二电极图案二者的功 能的单个电极图案形成在第二柔性基板315的下表面或上表面上。由于第二柔性基板315 被包括在上柔性基板组件中，所W第二柔性基板315在本文中也可被称作中间层。
[00巧]保护膜390也可被包括在上柔性基板组件中W保护柔性有机发光显示装置内的 元件。在图3a和图3b中，保护膜390被示出为利用单独的粘合剂形成在第二电极图案382 上。保护膜390可具有几百ym或更大的厚度。保护膜390可由透明柔性材料形成。例如， 保护膜390可由塑料、金属、金属氧化物、陶瓷氧化物或聚合物材料中的任一种或其组合形 成。
[0076] 根据一个实施方式，图4a描绘了具有S个子像素区域（例如，RGB)的柔性有机发 光显示装置400A，图4b描绘了具有四个子像素区域（例如，RGBW)的柔性有机发光显示装 置400B。在该两种情况下，上柔性基板组件还可包括绝缘膜层。更具体地讲，上柔性基板组 件内的触摸感测单元可包括绝缘膜层W及形成在其上的一个或更多个电极图案。
[0077] 在图4a和图4b所示的实施方式中，柔性有机发光显示装置400A和400B均包括 第一柔性基板410、薄膜晶体管420、有机发光元件440和封装单元450。另外，触摸感测单 元480包括形成在绝缘膜层485的下表面上的第一电极图案481W及形成在绝缘膜层485 的上表面上的第二电极图案482。然而，在一些其它实施方式中，触摸感测单元480可形成 为单层触摸感测单元。在单层触摸感测单元中，被配置为实现第一和第二电极图案（481、 482)二者的功能的单个电极图案形成在绝缘膜层485的下表面或上表面上。
[0078] 另外，在一些其它实施方式中，如图4c所示，包括绝缘膜层485的触摸感测单元 480可形成在滤色器层470 (W及在图4b的RGBW配置中，透明树脂层475)与结合层460之 间。在该设置中，触摸感测单元480 (更具体讲，绝缘膜层485的下表面或者形成在绝缘膜 层485的下表面上的电极图案）与结合层460直接接触。
[0079] 绝缘膜层485可利用用于沉积无机膜的等离子体增强化学汽相沉积（PECVD)方法 来形成。阳CVD方法是将温度降低至低于一般CVD的温度然后沉积薄膜层的工艺，并且是在 两个平行电极之间注入反应气体的工艺。该两个平行电极可使得在反应气体下诱发化学反 应的等离子态下在反应气体上发生电流，从而在第二电极图案482或第二柔性基板415上 沉积绝缘膜层485。另外，绝缘膜层485可利用原子层沉积（ALD)设备通过沉积Al2〇3的方 法来形成。绝缘膜层485用作维持第二电极图案482与第一电极图案481之间隔开的间隔 的间隔物。因此，绝缘膜层485可由具有良好耐热性、耐化学性、电绝缘性和弹性的透明无 机膜形成。例如，绝缘膜层485可由娃氧化物层、娃氮化物层或者上述层的堆叠形成。由于 绝缘膜层485被包括在上柔性基板组件内，所W绝缘膜层485在本文中也可被称作中间层。
[0080] 图5是示出根据一个实施方式的柔性有机发光显示装置的制造方法的流程图。图 6a至图6d分别是根据本公开的实施方式的在柔性有机发光显示装置600D的制造期间下柔 性基板组件600A和上柔性基板组件600BW及所得柔性有机发光显示装置600D的横截面 图。
[0081] 参照图5、图6a和图化，在步骤S100中，在第一支撑基板611上形成下柔性基板组 件600A。在该阶段，在第一柔性基板610上形成薄膜晶体管620和有机发光元件640。该 阶段还包括形成封装层650W用于保护有机发光元件640免于湿气、气体或其它杂质的不 期望的渗透的步骤。图6a中描绘了上述步骤之后的下柔性基板组件600A。
[0082] 由于与玻璃相比，通常用作第一柔性基板610和第二柔性基板615的材料的塑性 材料具有更低的转变温度和显著更低的刚性，所W难W在第一和第二柔性基板化1〇、615) 上形成各种元件和/或移动那些基板。为了解决该问题，在制造工艺期间使用具有足够刚 性的单独的支撑基板化11、616)来支撑下柔性基板组件和上柔性基板组件的元件。
[0083] 因此，返回参照图5,在步骤S110中在第二支撑基板616上形成上柔性基板组件 600B。在该阶段，在第二柔性基板615上形成触摸感测单元680和滤色器层670。根据有机 发光元件的类型（例如，RGB或RGBW)，还可包括形成透明树脂层（未示出）的步骤。应该 注意的是，形成滤色器层670的步骤和形成触摸感测单元680的步骤的顺序可根据触摸感 测单元的类型（例如，单层或多层）和位置而变化。例如，电极图案之一可形成在第二柔性 基板615上，滤色器层670可形成在第二柔性基板615上所形成的电极图案上。在形成滤 色器层670之后，另一电极图案可形成在滤色器层670上。图化中描绘了步骤S110之后 的上柔性基板组件。
[0084] 当采用单层触摸感测单元时，滤色器层670 (和透明树脂层）可形成在第二柔性 基板615上，然后多个电极图案形成在滤色器层670上W使得它用作触摸感测单元。另选 地，能够用作触摸感测单元的多个电极可形成在第二柔性基板的内表面上，然后滤色器层 680(化及在RGBW型中，透明树脂层）形成在多个电极图案上。
[0085] 在步骤S120中，下柔性基板组件600A和上柔性基板组件600B附接在一起。在该 阶段，结合层660可形成在下柔性基板组件和上柔性基板组件化00A、600B)中的一者或二 者上，然后该些基板组件被附接在一起，如图6c所示。
[0086] 如上所述，第一和第二支撑基板化11、616)用作在形成该里的各种其它元件期间 支撑和保护下柔性基板组件和上柔性基板组件化〇〇A、600B)的临时基板。因此，在图5的 步骤S130中，将第一支撑基板611和第二支撑基板616从下柔性基板组件600A和上柔性 基板组件600B移除。为了移除第一和第二支撑基板化11、616)，可用激光福射第一和第二 支撑基板化11、616)的外部表面。
[0087] 应该理解，可在形成下柔性基板组件和上柔性基板组件化00A、600B)之前在第一 和第二支撑基板化11、616)上沉积牺牲层（未示出）。形成在柔性基板组件化00A、600B) 与它们对应的支撑基板化11、616)之间的牺牲层在移除支撑基板化11、616)期间保护各个 柔性基板组件的第一和第二柔性基板化1〇、615)。
[0088] 图6d中描绘了上述步骤之后的所得柔性有机发光显示装置600D。
[0089] W下。将描述本发明的柔性有机发光显示装置的制造方法的各种特性。
[0090] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在滤色器层的第一表面和第二表面 W及透明树脂层的第一表面和第二表面上，并且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔 性基板上形成触摸感测单元的第一电极图案，在第一电极图案上形成滤色器层和透明树脂 层，并且在滤色器层和透明树脂层上形成触摸感测单元的第二电极图案，其中，第一电极图 案和第二电极图案中的一个是驱动电极。
[0091] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在滤色器层的一个表面和透明树脂层 的一个表面上，并且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔性基板上形成触摸感测单元 的第一电极图案，在第一电极图案上形成触摸感测单元的第二电极图案，所述第一电极图 案和第二电极图案被形成为彼此电绝缘，在形成在第二柔性基板上的第一电极图案和第二 电极图案上形成滤色器层和透明树脂层。
[0092] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在滤色器层的一个表面和透明树脂层 的一个表面上，并且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔性基板上形成滤色器层和透 明树脂层，在滤色器层和透明树脂层上形成触摸感测单元的第一电极图案，并且在第一电 极图案上形成触摸感测单元的第二电极图案，使得第一电极图案和第二电极图案彼此电绝 缘。
[0093] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在第二柔性基板的第一表面和第二柔 性基板的第二表面上，并且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔性基板的第一表面上 形成触摸感测单元的第一电极图案，在第二柔性基板的第二表面上形成触摸感测单元的第 二电极图案，在第二电极图案上形成滤色器层和透明树脂层。
[0094] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在第二柔性基板层的一个表面上，并 且其中，形成上柔性基板组件包括在第二柔性基板的第一表面上形成触摸感测单元的第一 电极图案和触摸感测单元的第二电极图案二者，所述第一电极图案和所述第二电极图案被 形成为彼此电绝缘，并且在第二柔性基板的第二表面上形成滤色器层和透明树脂层。
[0095] W下将描述本发明的柔性有机发光显示装置的各种特性。
[0096] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元设置在滤色器层的第一表面和滤色器层的 第二表面中的至少一个上。
[0097] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案被配置成驱动电极，第二电极图案被配置成感测电极。
[009引根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案和第二电极图案均被配置成感测电极。
[0099] 根据本发明的另一特性，第一电极图案设置在滤色器层的第一表面上，第二电极 图案设置在滤色器层的第二表面上。
[0100] 根据本发明的另一特性，第一电极图案和第二电极图案设置在滤色器层的相同表 面上，使得第一电极图案和第二电极图案彼此电绝缘。
[0101] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元是自电容型触摸感测单元，自电容型触摸 感测单元具有设置在滤色器层的第一表面和滤色器层的第二表面中的至少一个上的多个 电极图案，并且其中，所述多个电极图案中的每一个被布置为不与所述多个电极图案中的 另一电极图案义畳。
[0102] W下，将描述本发明的柔性有机发光显示装置的各种特性。
[0103] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案设置在滤色器层的 第一表面上，第二电极图案设置在滤色器层的第二 表面上。
[0104] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案和第二电极图案二者设置在滤色器层的相同表面上。
[0105] 根据本发明的另一特性，柔性有机发光显示装置还包括透明树脂层，其被配置为 在柔性有机发光显示装置的白色子像素区域处使从有机发光元件发射的白光穿过。
[0106] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案设置在滤色器层的第一表面和透明树脂层的第一表面上，第二电极图 案设置在滤色器层的第一表面的相对表面和透明树脂层的第一表面的相对表面上。
[0107] 根据本发明的另一特性，触摸感测单元包括第一电极图案和第二电极图案，并且 其中，第一电极图案设置在滤色器层的第一表面和透明树脂层的第一表面上，第二电极图 案设置在滤色器层的第一表面的相同表面和透明树脂层的第一表面的相同表面上。
[010引上面借助示出指定功能及其关系的实现方式的功能框图描述了本发明。为了描述 方便，本文中任意限定了该些功能框图的边界。可限定替代边界，只要指定功能及其关系被 适当地执行即可。
【具体实施方式】 [0109] 的W上描述因此将充分揭露本发明的一般性质，使得在不脱离本发 明的一般范围的情况下，其他人可在没有过度实验的情况下通过应用本领域内的知识容易 地针对各种应用修改和/或改变该些。因此，该些改变和修改旨在基于本文 呈现的教导和指导落入所公开的实施方式的含义和等同范围内。将理解，本文中的措辞或 术语用于描述的目的，而非限制，因此本说明书的措辞或术语由本领域技术人员根据所述 教导和指导来解释。
[0110] 本发明的广度和范围不应由上述任何示例性实施方式限制，而是应该仅根据W下 权利要求及其等同物来限定。
[0111] 本申请中的权利要求不同于母案申请或其它相关申请中的那些权利要求。因此， 申请人废除与本申请有关的母案申请或者任何在前申请中所作的保护范围的任何弃权声 明。因此建议审查员，任何该种先前的弃权声明及其所撤销的引用的参考文献可能需要重 新评估。因此，应该注意的是，本申请中所作的任何弃权声明不应在母案申请中考虑或与母 案申请相对。
【主权项】
1. 一种制造柔性有机发光显示装置的方法，该方法包括以下步骤： 形成下柔性基板组件，该下柔性基板组件包括第一柔性基板、设置在第一柔性基板上 方的薄膜晶体管和有机发光元件，该有机发光元件被配置为发射白光并且电连接到所述薄 膜晶体管； 形成上柔性基板组件，该上柔性基板组件包括在中间层上具有至少一个电极图案的触 摸感测单元，所述中间层是第二柔性基板、被配置为对所述白光进行滤光的滤色器层和透 明树脂层中的至少一个；以及 将所述下柔性基板组件和所述上柔性基板组件结合在一起。2. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述滤色器层的第一 表面和第二表面以及所述透明树脂层的第一表面和第二表面上，并且其中，形成所述上柔 性基板组件的步骤包括： 在所述第二柔性基板上形成所述触摸感测单元的第一电极图案； 在所述第一电极图案上形成所述滤色器层和所述透明树脂层；以及 在所述滤色器层和所述透明树脂层上形成所述触摸感测单元的第二电极图案，其中， 所述第一电极图案和所述第二电极图案中的一个是驱动电极。3. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述滤色器层的一个 表面和所述透明树脂层的一个表面上，并且其中，形成所述上柔性基板组件的步骤包括： 在所述第二柔性基板上形成所述触摸感测单元的第一电极图案； 在所述第一电极图案上形成所述触摸感测单元的第二电极图案，所述第一电极图案和 所述第二电极图案被形成为彼此电绝缘； 在形成在所述第二柔性基板上的所述第一电极图案和所述第二电极图案上形成所述 滤色器层和所述透明树脂层。4. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述滤色器层的一个 表面和所述透明树脂层的一个表面上，并且其中，形成所述上柔性基板组件的步骤包括： 在所述第二柔性基板上形成所述滤色器层和所述透明树脂层； 在所述滤色器层和所述透明树脂层上形成所述触摸感测单元的第一电极图案；以及 在所述第一电极图案上形成所述触摸感测单元的第二电极图案，使得所述第一电极图 案和所述第二电极图案彼此电绝缘。5. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述第二柔性基板的 第一表面和所述第二柔性基板的第二表面上，并且其中，形成所述上柔性基板组件的步骤 包括： 在所述第二柔性基板的所述第一表面上形成所述触摸感测单元的第一电极图案； 在所述第二柔性基板的所述第二表面上形成所述触摸感测单元的第二电极图案； 在所述第二电极图案上形成所述滤色器层和所述透明树脂层。6. 根据权利要求1所述的方法，其中，所述触摸感测单元设置在所述第二柔性基板层 的一个表面上，并且其中，形成所述上柔性基板组件的步骤包括： 在所述第二柔性基板的第一表面上形成所述触摸感测单元的第一电极图案和所述触 摸感测单元的第二电极图案二者，所述第一电极图案和所述第二电极图案被形成为彼此电 绝缘；以及 在所述第二柔性基板的第二表面上形成所述滤色器层和所述透明树脂层。7. -种柔性有机发光显示装置，该柔性有机发光显示装置包括： 下柔性基板组件，该下柔性基板组件包括设置在第一柔性基板上方的薄膜晶体管和白 色有机发光元件，该白色有机发光元件被配置为发射白光并且电连接到所述薄膜晶体管； 上柔性基板组件，该上柔性基板组件具有设置在中间层上的触摸感测单元，所述中间 层包括滤色器层、透明树脂层、第二柔性基板和绝缘膜层中的至少一个；以及 结合层，该结合层插入在所述下柔性基板组件和所述上柔性基板组件之间以将所述下 柔性基板组件和所述上柔性基板组件附接在一起。8. 根据权利要求7所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元设置在所 述滤色器层的第一表面和所述滤色器层的第二表面中的至少一个上。9. 根据权利要求8所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第一 电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案被配置成驱动电极，所述第二电极 图案被配置成感测电极。10. 根据权利要求8所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第一 电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案和所述第二电极图案均被配置成 感测电极。11. 根据权利要求9所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述第一电极图案设置在 所述滤色器层的所述第一表面上，所述第二电极图案设置在所述滤色器层的所述第二表面 上。12. 根据权利要求9所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述第一电极图案和所述第 二电极图案设置在所述滤色器层的相同的表面上，使得所述第一电极图案和所述第二电极 图案彼此电绝缘。13. 根据权利要求8所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元是自电容 型触摸感测单元，所述自电容型触摸感测单元具有设置在所述滤色器层的所述第一表面和 所述滤色器层的所述第二表面中的至少一个上的多个电极图案，并且其中，所述多个电极 图案中的每一个被布置为不与所述多个电极图案中的另一电极图案交叠。14. 一种柔性有机发光显示装置，该柔性有机发光显示装置包括： 第一柔性基板； 薄膜晶体管，该薄膜晶体管设置在所述第一柔性基板上； 有机发光元件，该有机发光元件设置在所述薄膜晶体管上，所述有机发光元件被配置 为发射白光； 柔性封装单元，该柔性封装单元形成在所述有机发光元件上； 滤色器层，该滤色器层具有多个滤色器层元件，所述多个滤色器层元件中的每一个被 配置为在与所述多个滤色器层元件中的每一个关联的子像素区域处对所述白光进行滤光 以生成与所述多个滤色器层元件中的每一个对应的彩色光； 结合层，该结合层设置在所述柔性封装单元和所述滤色器层之间；以及 触摸感测单元，该触摸感测单元设置在所述滤色器层的至少一个表面上。15. 根据权利要求14所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第 一电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案设置在所述滤色器层的第一表 面上，所述第二电极图案设置在所述滤色器层的第二表面上。16. 根据权利要求14所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第 一电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案和所述第二电极图案二者设置 在所述滤色器层的相同的表面上。17. 根据权利要求14所述的柔性有机发光显示装置，该柔性有机发光显示装置还包 括： 透明树脂层，该透明树脂层被配置为在所述柔性有机发光显示装置的白色子像素区域 处使从所述有机发光元件发射的白光穿过。18. 根据权利要求17所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第 一电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案设置在所述滤色器层的第一表 面和所述透明树脂层的第一表面上，所述第二电极图案设置在所述滤色器层的所述第一表 面的相对表面和所述透明树脂层的所述第一表面的相对表面上。19. 根据权利要求17所述的柔性有机发光显示装置，其中，所述触摸感测单元包括第 一电极图案和第二电极图案，并且其中，所述第一电极图案设置在所述滤色器层的第一表 面和所述透明树脂层的第一表面上，并且所述第二电极图案设置在所述滤色器层的所述第 一表面的相同表面和所述透明树脂层的所述第一表面的相同表面上。
【专利摘要】提供了一种柔性有机发光显示装置以及该柔性有机发光显示装置的制造方法。该柔性有机发光显示装置包括通过结合层结合的下柔性基板组件和上柔性基板组件。下柔性基板组件包括第一柔性基板、形成在第一柔性基板上的薄膜晶体管、形成在薄膜晶体管上的白色有机发光元件以及形成在白色有机发光元件上的封装层。上柔性基板组件包括第二柔性基板、中间层以及形成在中间层上的触摸感测单元。中间层可以是滤色器层、透明树脂层、绝缘膜层和第二柔性基板中的至少一个。
【IPC分类】G09F9/33, H01L27/32, H01L51/50
【公开号】CN104885142
【申请号】CN201380068348
【发明人】李美贞, 朴钟贤, 尹洙荣
【申请人】乐金显示有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2013年12月24日
【公告号】EP2939230A1
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