一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法
一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明属于有色金属冶金技术领域，特别涉及一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法。
【背景技术】
[0002]铑属于铂族元素，是一种难熔金属，质硬而脆，物理化学性质非常稳定，在一般温度的所有气氛下，铑或铑的镀层均能保持很高的光亮度。并且铑具有良好的抗氧化性，在600-1000 °C内仅出现缓慢氧化现象，超过该温度后，氧化物即行消失；铑还能耐中等温度下各种介质的腐蚀，即便是100°c的王水也不会腐蚀铑。此外，铑具有稳定的电阻温度系数和良好的热电性能。基于铑的以上特性，水镀铑在电子电力、军工、机电、装饰及工艺品行业具有越来越广泛的应用，但是由于水镀铑存在污染环境、膜层与基底结合力较差、膜层厚度可控性差等问题，致使其应用受到很大限制，因而发展铑产品真空炉内镀膜是一项势在必行的新技术。
【发明内容】
[0003]针对现有技术存在的问题，本发明提供一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法，通过不同合金元素的添加及其成分的变化，制备具有高亮度、高硬度及优异抗氧化性的铂铑合金靶材。本发明的技术方案如下:
一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:pt 25.0-49.0%，Rh50.0-74.0%，Ir 0.1-1.0%，Cr 0.1-0.5%。
[0004]所述一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材的制备方法，按照以下工艺步骤进行:
(1)按照重量百分比为Pt 25.0-49.0%, Rh 50.0-74.0%，Ir 0.1-1.0%, Cr 0.1-0.5% 的化学成分准备Pt、Rh、Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本发明的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0005]所述用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX60 _X2.0mm。
[0006]本发明的有益效果为:本发明的铂铑合金靶材应用于真空磁控溅射镀膜技术可取代传统高污染的水镀铑，获得亮度值L不低于88.0、硬度值高、抗氧化性和耐蚀性优异的膜层，并且本发明绿色环保，节约材料降低成本，预计降低成本达10%以上，具有广阔的应用前景。
【具体实施方式】
[0007]本发明实施例中采用的金属Pt、Rh、Ir和Cr均为市售产品，其中Pt的重量纯度彡99.99%，Rh的重量纯度彡99.95%，Ir的重量纯度彡99.95%，Cr的重量纯度彡99.95%。
[0008]本发明实施例中熔炼采用的加热炉为高频真空感应熔炼炉。
[0009]本发明实施例中熔炼采用的坩祸为氧化锆坩祸。
[0010]本发明实施例中轧制时采用Φ350轧机进行轧制。
[0011]本发明实施例中采用箱式高温炉进行退火，惰性气体保护，退火温度为1000° C，时间为1min。
[0012]本发明实施例中采用300X1 C8008-21EF滚剪机进行剪切。
[0013]本发明实施例中采用1000T液压机进行校平。
[0014]实施例1
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 49.0%，Rh 50.0%，Ir0.5%，Cr 0.5%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt49.0%, Rh 50.0%，Ir 0.5%, Cr 0.5%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0015]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为88.5，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0016]实施例2
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 45.0%，Rh 54.5%，Ir
0.2%，Cr 0.3%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt45.0%, Rh 54.5%，Ir 0.2%, Cr 0.3%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0017]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为88.5，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0018]实施例3
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 40.0%，Rh 59.5%，Ir
0.3%，Cr 0.2%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt40.0%, Rh 59.5%，Ir 0.3%, Cr 0.2%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min； (3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0019]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为88.8，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0020]实施例4
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 38.5%，Rh 60.5%，Ir0.1%，Cr 0.5%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt38.5%, Rh 60.5%，Ir 0.1%, Cr 0.5%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原 材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0021]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为89.3，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0022]实施例5
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 36.5%，Rh 62.5%，Ir
0.6%，Cr 0.4%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt36.5%, Rh 62.5%，Ir 0.6%, Cr 0.4%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0023]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为90.2，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0024]实施例6
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 34.5%，Rh 65.0%，Ir
0.4%，Cr 0.1%。制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt34.5%, Rh 65.0%，Ir 0.4%, Cr 0.1%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0025]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为90.5，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0026]实施例7
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 30.0%，Rh 68.5%，Ir
1.0%，Cr 0.5%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt30.0%, Rh 68.5%，Ir 1.0%, Cr 0.5%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0027]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为90.8，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0028]实施例8
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 25.0%，Rh 74.0%，Ir
0.8%，Cr 0.2%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt25.0%, Rh 74.0%，Ir 0.8%, Cr 0.2%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0029]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX60 mmX 2.0mm，亮度值L为91.2，
硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
【主权项】
1.一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，其特征在于该合金靶材按照重量百分比组成为:Pt 25.0-49.0%，Rh 50.0-74.0%，Ir 0.1-1.0%，Cr 0.1-0.5%。2.权利要求1所述的一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材的制备方法，其特征在于按照以下工艺步骤进行:(1)按照重量百分比为Pt 25.0-49.0%, Rh 50.0-74.0%，Ir 0.1-1.0%, Cr 0.1-0.5% 的化学成分准备Pt、Rh、Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化； (2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min； (3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯； (4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
【专利摘要】本发明提供一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法，该合金靶材按照重量百分比组成为：Pt 25.0~49.0%，Rh 50.0~74.0%，Ir 0.1~1.0%，Cr 0.1~0.5%。制备方法为：（1）按以上重量百分比的化学成分准备Pt、Rh、Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入搅拌直至所有金属熔化；（2）将混合金属进行精炼；（3）将熔体浇注到纯铜模具中，水冷；（4）将合金铸坯依次经过热锻、轧制、退火、剪切和校平。本发明的铂铑合金靶材应用于真空磁控溅射镀膜技术可取代传统高污染的水镀铑，获得亮度值L不低于88.0、硬度值高、抗氧化性和耐蚀性优异的膜层。
【IPC分类】C22C5/04, C23C14/35
【公开号】CN104894525
【申请号】CN201510352215
【发明人】刘革, 赵宏达, 于志凯, 王伟, 柳泉
【申请人】沈阳东创贵金属材料有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年6月24日
【技术领域】
[0001]本发明属于有色金属冶金技术领域，特别涉及一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法。
【背景技术】
[0002]铑属于铂族元素，是一种难熔金属，质硬而脆，物理化学性质非常稳定，在一般温度的所有气氛下，铑或铑的镀层均能保持很高的光亮度。并且铑具有良好的抗氧化性，在600-1000 °C内仅出现缓慢氧化现象，超过该温度后，氧化物即行消失；铑还能耐中等温度下各种介质的腐蚀，即便是100°c的王水也不会腐蚀铑。此外，铑具有稳定的电阻温度系数和良好的热电性能。基于铑的以上特性，水镀铑在电子电力、军工、机电、装饰及工艺品行业具有越来越广泛的应用，但是由于水镀铑存在污染环境、膜层与基底结合力较差、膜层厚度可控性差等问题，致使其应用受到很大限制，因而发展铑产品真空炉内镀膜是一项势在必行的新技术。
【发明内容】
[0003]针对现有技术存在的问题，本发明提供一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法，通过不同合金元素的添加及其成分的变化，制备具有高亮度、高硬度及优异抗氧化性的铂铑合金靶材。本发明的技术方案如下:
一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:pt 25.0-49.0%，Rh50.0-74.0%，Ir 0.1-1.0%，Cr 0.1-0.5%。
[0004]所述一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材的制备方法，按照以下工艺步骤进行:
(1)按照重量百分比为Pt 25.0-49.0%, Rh 50.0-74.0%，Ir 0.1-1.0%, Cr 0.1-0.5% 的化学成分准备Pt、Rh、Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本发明的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0005]所述用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX60 _X2.0mm。
[0006]本发明的有益效果为:本发明的铂铑合金靶材应用于真空磁控溅射镀膜技术可取代传统高污染的水镀铑，获得亮度值L不低于88.0、硬度值高、抗氧化性和耐蚀性优异的膜层，并且本发明绿色环保，节约材料降低成本，预计降低成本达10%以上，具有广阔的应用前景。
【具体实施方式】
[0007]本发明实施例中采用的金属Pt、Rh、Ir和Cr均为市售产品，其中Pt的重量纯度彡99.99%，Rh的重量纯度彡99.95%，Ir的重量纯度彡99.95%，Cr的重量纯度彡99.95%。
[0008]本发明实施例中熔炼采用的加热炉为高频真空感应熔炼炉。
[0009]本发明实施例中熔炼采用的坩祸为氧化锆坩祸。
[0010]本发明实施例中轧制时采用Φ350轧机进行轧制。
[0011]本发明实施例中采用箱式高温炉进行退火，惰性气体保护，退火温度为1000° C，时间为1min。
[0012]本发明实施例中采用300X1 C8008-21EF滚剪机进行剪切。
[0013]本发明实施例中采用1000T液压机进行校平。
[0014]实施例1
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 49.0%，Rh 50.0%，Ir0.5%，Cr 0.5%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt49.0%, Rh 50.0%，Ir 0.5%, Cr 0.5%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0015]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为88.5，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0016]实施例2
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 45.0%，Rh 54.5%，Ir
0.2%，Cr 0.3%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt45.0%, Rh 54.5%，Ir 0.2%, Cr 0.3%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0017]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为88.5，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0018]实施例3
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 40.0%，Rh 59.5%，Ir
0.3%，Cr 0.2%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt40.0%, Rh 59.5%，Ir 0.3%, Cr 0.2%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min； (3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0019]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为88.8，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0020]实施例4
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 38.5%，Rh 60.5%，Ir0.1%，Cr 0.5%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt38.5%, Rh 60.5%，Ir 0.1%, Cr 0.5%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原 材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0021]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为89.3，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0022]实施例5
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 36.5%，Rh 62.5%，Ir
0.6%，Cr 0.4%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt36.5%, Rh 62.5%，Ir 0.6%, Cr 0.4%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0023]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为90.2，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0024]实施例6
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 34.5%，Rh 65.0%，Ir
0.4%，Cr 0.1%。制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt34.5%, Rh 65.0%，Ir 0.4%, Cr 0.1%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0025]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为90.5，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0026]实施例7
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 30.0%，Rh 68.5%，Ir
1.0%，Cr 0.5%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt30.0%, Rh 68.5%，Ir 1.0%, Cr 0.5%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0027]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX 60 mmX 2.0mm，亮度值L为90.8，硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
[0028]实施例8
用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，按照重量百分比其组成为:Pt 25.0%，Rh 74.0%，Ir
0.8%，Cr 0.2%ο制备过程如下:
(1)按照重量百分比为Pt25.0%, Rh 74.0%，Ir 0.8%, Cr 0.2%的化学成分准备Pt,Rh,Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化；
(2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min；
(3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯；
(4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到本实施例的用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
[0029]用于真空磁控派射钼铭合金革E材尺寸为60 mmX60 mmX 2.0mm，亮度值L为91.2，
硬度值高，抗氧化性和耐蚀性优异。
【主权项】
1.一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材，其特征在于该合金靶材按照重量百分比组成为:Pt 25.0-49.0%，Rh 50.0-74.0%，Ir 0.1-1.0%，Cr 0.1-0.5%。2.权利要求1所述的一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材的制备方法，其特征在于按照以下工艺步骤进行:(1)按照重量百分比为Pt 25.0-49.0%, Rh 50.0-74.0%，Ir 0.1-1.0%, Cr 0.1-0.5% 的化学成分准备Pt、Rh、Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中搅拌，直至所有金属熔化； (2)将熔化的混合金属进行精炼，精炼温度为1950~2050°C，时间为3~5min； (3)将精炼的金属熔体浇注到纯铜模具中，并同时通水进行水冷，获得铂铑合金铸坯； (4)将合金铸坯依次经过热锻、乳制、退火、剪切和校平，得到用于真空磁控溅射铂铑合金靶材。
【专利摘要】本发明提供一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法，该合金靶材按照重量百分比组成为：Pt 25.0~49.0%，Rh 50.0~74.0%，Ir 0.1~1.0%，Cr 0.1~0.5%。制备方法为：（1）按以上重量百分比的化学成分准备Pt、Rh、Ir和Cr原材料，先将Pt加热至熔化，再将Rh、Ir和Cr依次加入搅拌直至所有金属熔化；（2）将混合金属进行精炼；（3）将熔体浇注到纯铜模具中，水冷；（4）将合金铸坯依次经过热锻、轧制、退火、剪切和校平。本发明的铂铑合金靶材应用于真空磁控溅射镀膜技术可取代传统高污染的水镀铑，获得亮度值L不低于88.0、硬度值高、抗氧化性和耐蚀性优异的膜层。
【IPC分类】C22C5/04, C23C14/35
【公开号】CN104894525
【申请号】CN201510352215
【发明人】刘革, 赵宏达, 于志凯, 王伟, 柳泉
【申请人】沈阳东创贵金属材料有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年6月24日
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