一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法
一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及显示器技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作 方法。
【背景技术】
[0002] 裸眼3D显示器凭借其全方位的展现与呼之欲出的震撼感觉，以及不需要佩戴特 殊眼镜的优点，成为3D显示研宄的主要方向，是新一代显示器件的研宄热点。裸眼3D显示 器主要包括狭缝光栅式显示器和柱镜光栅式显示器，其原理都是基于光栅的分光原理，通 过对光栅形状的设计及光栅到显示器距离的精确控制，使通过显示平面的各像素的光线分 别只进入人的左眼或右眼，双眼看到不同的画面，从而产生空间感。由于显示器的像素排 布是有序排列的周期结构，同一行像素单元的相邻像素单元之间具有遮光金属形成的数据 线，或者同一列像素单元的相邻像素单元之间具有遮光金属形成的扫描线，导致其发出的 光强也具有周期性排布结构，这样的光强与显示器前面的周期性光栅结构相互干涉，很容 易形成彩色或者黑色莫尔条纹。莫尔条纹的产生会影响3D显示效果，破坏图像的观赏性。
[0003] 图1为现有技术中一种可以消除莫尔条纹的阵列基板的结构示意图，如图1所示， 多条扫描线11和多条数据线12绝缘相交限制出多个像素单元10,为消除莫尔条纹，需要同 一行像素单元10的任意一个聚焦位置的亮度相同，现有技术在每个像素单元10中周期性 的放置遮光的金属伪电极13,金属伪电极13与遮光的数据线12形成周期性排列，使得位于 每个像素单元10中或者位于不同像素单元10中的聚焦位置14、15、16的亮度都相同，进而 使得像素单元10内部每个聚焦位置的亮度与邻近数据线12的每个聚焦位置的亮度相同， 从而所以可以消除莫尔条纹。但是放置金属伪电极13后，会导致阵列基板的开口率明显降 低。
【发明内容】
[0004] 本发明实施例提供一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法，相比现有技术 通过设置金属伪电极的方式消除莫尔条纹的方法，能够提高像素开口率，提升显示亮度。
[0005] 第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：
[0006] 基板；
[0007] 彼此绝缘交叉的多条扫描线和多条数据线；
[0008] 其中，每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接；
[0009] 其中，所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线或所述数据线的金属走 线部位于所述阵列基板的非透光区。
[0010] 第二方面，本发明实施例还提供一种阵列基板的制作方法，包括：
[0011] 首先，在基板上形成扫描线或数据线的多个金属走线部；
[0012] 接着，形成所述扫描线或所述数据线的多个透明导电部；
[0013] 其中，每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接；所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫 描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区。
[0014] 第三方面，本发明实施例还提供一种显示面板，包括：
[0015] 本发明第一方面所述的阵列基板；
[0016] 与所述阵列基板相对设置的彩膜基板；
[0017] 以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的显示功能层。
[0018] 第四方面，本发明实施例还提供一种显示装置，包括：
[0019] 本发明第三方面所述的显示面板；
[0020] 位于所述显示面板的显示侧上方的狭缝光栅或透镜光栅。
[0021] 本发明实施例提供的技术方案，通过将每条扫描线或每条数据线设置为包括多个 透明导电部以及多个金属走线部，相邻的透明导电部通过所述金属走线部电连接，并且所 述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列 基板的非透光区，能够在不影响像素开口率的情况下，消除莫尔条纹现象。
【附图说明】
[0022] 图1为现有技术中一种消除解决莫尔条纹的阵列基板的结构示意图；
[0023] 图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图；
[0024] 图3为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图；
[0025] 图4为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图；
[0026] 图5为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图；
[0027] 图6为图5中沿AA'的剖面示意图；；
[0028] 图7为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图；
[0029] 图8为图7中沿BB'的剖面示意图；
[0030] 图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图；
[0031] 图10为图9中沿BB'的剖面示意图；
[0032] 图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图；
[0033] 图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图；
[0034] 图13为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图；
[0035] 图14为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图；
[0036] 图15为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
[0037] 图16为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0038] 下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描 述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便 于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
[0039] 图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图，如图2所示，所述阵列基板包 括：基板20 ;彼此绝缘交叉的多条扫描线23和多条数据线24 ;其中，每条扫描线23包括多 个透明导电部231以及多个金属走线部232,相邻的透明导电部231通过所述金属走线部 232电连接。所述阵列基板包括透光区21和非透光区22,所述扫描线23的金属走线部232 位于所述阵列基板的非透光区22。
[0040] 本发明实施例提供的阵列基板，通过将扫描线设置为包括多个透明导电部以及多 个金属走线部，并将所述扫描线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区，由于透光区 中没有遮光的金属材料，因此任意聚焦位置的亮度相同，所以可以避免莫尔条纹的出现，且 无需在透光区设置遮光的金属伪电极，从而可以提高像素的开口率以及显示亮度。在上述 实施例的基础上，所述扫描线23的透明导电部231至少部分位于所述阵列基板的透光区 21，图2示例性的设置扫描线23的透明导电部231部分位于所述阵列基板的透光区21。
[0041] 优选的，如图3所示，也可以设置为所述扫描线23的透明导电部231的全部位于 所述阵列基板的透光区21。这样设置的好处是，可以增加透光区21的面积，从而提升阵列 基板的开口率。
[0042] 图4为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图，如图4所示，所述阵列基板 包括：基板30 ;彼此绝缘交叉的多条扫描线33和多条数据线34 ;其中，每条数据线34括多 个透明导电部341以及多个金属走线部342,相邻的透明导电部341通过所述金属走线部 342电连接。所述阵列基板包括透光区31和非透光区32,所述数据线34的金属走线部342 位于所述阵列基板的非透光区32。
[0043] 在上述实施例的基础上，所述数据线的透明导电部至少部分位于所述阵列基板的 透光区。优选的，也可以设置为所述数据线的透明导电部的全部位于所述阵列基板的透光 区，这样设置可以增加透光区的面积，从而提升阵列基板的开口率。
[0044] 在上述各实施例的基础上，所述扫描线的透明导电部或所述数据线的透明导电部 的材料为氧化铟锡、石墨烯和氧化铟锌的任意一种。
[0045] 由于透明导电部的电阻比金属走线部的电阻大很多倍，用透明导电部作为扫描线 和/或数据线的一部分必然导致扫描线或数据线的电阻的增大，所以需要增加每个透明导 电部的宽长比W/L，以减小透明导电部的电阻。以扫描线为例具体参见图2,本发明实施例 采用下列表1所示的参数设置透明导电部与金属走线部，虽然扫描线由透明导电部与金属 走线部组成，采用下列表1所示的参数设置透明导电部与金属走线部形成的扫描线，与现 有技术中扫描线全部使用金属材料制作相比，整条扫描线的阻值与现有技术中相近，并没 有明显增加。需要说明的是，表1中沿扫描线延伸方向为长L，沿数据线延伸方向为宽W。
[0047]表 1
[0048] 在上述各实施例的基础上，所述阵列基板还包括像素电极和公共电极，所述像素 电极和公共电极可以同层绝缘间隔设置，还可以异层绝缘设置。本发明实施例提供的阵列 基板可适用于TN型、IPS型以及FFS型的液晶驱动面板。
[004 9] 在上述各实施例的基础上，可选的，所述阵列基板还包括金属走线保护部，位于所 述金属走线部上方并覆盖所述金属走线部。下面以数据线包括多个透明导电部以及多个金 属走线部时为例，进行详细介绍。图5为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图，图 6为图5中沿AA'的剖面示意图，如图5和图6所示，所述阵列基板包括：基板40 ;彼此绝缘 交叉的多条扫描线43和多条数据线44 ;其中，每条数据线44包括多个透明导电部441以及 多个金属走线部442,相邻的透明导电部441通过所述金属走线部442电连接。所述阵列基 板包括透光区41和非透光区42,所述数据线44的金属走线部442位于所述阵列基板的非 透光区42。所述阵列基板还包括位于所述金属走线部442上方并覆盖所述金属走线部442 的金属走线保护部443。设置金属走线保护部443的好处是可以保护所述金属走线保护部 443,避免后续工艺制作过程中蚀刻液、杂质离子渗入等对金属走线部443的损坏。
[0050] 优选的，所述金属走线保护部与所述透明导电部在同一制作工艺中，由同种材料 制成，这样可以减少一道制作工艺，进一步提高生产效率，同时，由于金属走线保护部与透 明导电部在同一制作工艺中，由同种材料制成，金属走线保护部与透明导电部为一个整体， 透明导电部可以通过金属走线保护部与金属走线部电连接在一起，从而增强透明导电部与 金属走线部的连接可靠性。
[0051] 需要说明的是，当所述扫描线包括多个透明导电部以及多个金属走线部时，还可 以在所述扫描线的金属走线部上方设置金属走线保护部，所述金属走线保护部覆盖所述金 属走线部，本发明实施例在此不作赘述。
[0052] 需要说明的是，对于上述实施例中，将每条扫描线和/或每条数据线设置为包括 多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻的透明导电部通过所述金属走线部电连接；所 述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线和/或所述数据线的金属走线部位于所述 阵列基板的非透光区，上述结构的设置具体有多种实现方式。因为多条扫描线和多条数据 线彼此绝缘交叉，所以相邻两条扫描线的透明导电部具有间隙，或者，相邻两条数据线的透 明导电部具有间隙，上述间隙位置的设置有多种不同的方式，下面就各优选实施方式进行 详细描述。
[0053] 图7为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图，图8为图7中沿BB' 的剖面示意图，如图8和图7所示，所述阵列基板包括：基板50 ;彼此绝缘交叉的多条扫描 线53和多条数据线54 ;其中，每条数据线54括多个透明导电部541以及多个金属走线部 542,相邻的透明导电部541通过所述金属走线部542电连接。所述阵列基板包括非透光区 51和透光区52,所述数据线54的金属走线部542位于所述阵列基板的非透光区51。所述 阵列基板还包括同层绝缘间隔设置的像素电极55和公共电极56,相邻两条数据线54的透 明导电部541的间隙在所述基板50上的正投影与像素电极55的中间区域在所述基板上的 正投影至少部分重合。同层绝缘间隔设置的像素电极55和公共电极56能够产生边缘场， 可以获得宽视角的显示，但采用该种结构的阵列基板制作的显示面板，由于像素电极55的 中间区域处的液晶分子排列杂乱，容易出现黑色畴线，因此将相邻两条数据线54的透明导 电部541的间隙设置在黑色畴线的正上方，即相邻两条数据线54的透明导电部541的间隙 在所述基板上的正投影与像素电极55的中间区域在所述基板上的正投影至少部分重合， 可以防止工艺波动导致部分产品相邻两条数据线的透明导电部的间隙刻缝可见问题。
[0054] 图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图，图10为图9中沿BB' 的剖面示意图，如图9和图10所示，所述阵列基板包括：基板60 ;彼此绝缘交叉的多条扫描 线63和多条数据线64 ;其中，每条数据线64括多个透明导电部641以及多个金属走线部 642,相邻的透明导电部641通过所述金属走线部642电连接。所述阵列基板包括非透光区 61和透光区62,所述数据线64的金属走线部642位于所述阵列基板的非透光区61。与上 述实施例不同的是，所述阵列基板还包括同层绝缘间隔设置的像素电极65和公共电极66， 相邻两条数据线63的透明导电部641的间隙在所述基板上的正投影与公共电极66的中间 区域在所述基板上的正投影至少部分重合。与上述实施例类似，同层绝缘间隔设置的像素 电极65和公共电极66可以产生边缘场，以增加显示视角，但公共电极66的中间区域也容 易出现黑色畴线，因此还可以将相邻两条数据线63的透明导电部641的间隙设置在公共电 极66的中间区域的正上方，也即相邻两条数据线63的透明导电部641的间隙在所述基板 上的正投影与公共电极66的中间区域在所述基板上的正投影至少部分重合，本实施例也 可以防止工艺波动导致部分产品相邻两条数据线的透明导电部的间隙刻缝可见问题。
[0055] 图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图，与上述各实施例不 同的是，所述阵列基板还包括异层绝缘设置的像素电极75和公共电极76。所述像素电极 75具有多个第一刻缝751。由于第一刻缝751处液晶分子排列杂乱，容易出现黑色畴线，因 此，设置相邻两条扫描线73的透明导电部731的间隙在所述基板上的正投影，与所述第一 刻缝751在所述基板70上的正投影至少部分重合。
[0056] 图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图，如图12所示，所述阵 列基板还包括异层绝缘设置的像素电极75和公共电极76。所述像素电极75具有多个第一 刻缝751。由于像素电极75的中间区域处液晶分子排列杂乱，容易出现黑色畴线，因此，设 置相邻两条扫描线73的透明导电部731的间隙在所述基板70上的正投影，与像素电极75 的中间区域在所述基板70上的正投影至少部分重合。
[0057] 图13为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图，如图13所示，所述阵 列基板还包括异层绝缘设置的像素电极85和公共电极86。述像素电极85具有多个第一刻 缝851，所述公共电极86具有多个第二刻缝861。由于第一刻缝851处液晶分子排列杂乱， 容易出现黑色畴线，因此，相邻两条数据线的透明导电部851的间隙在所述基板80上的正 投影，与所述第一刻缝851在所述基板80上的正投影至少部分重合。
[0058] 图14为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图，如图14所示，所述阵 列基板还包括异层绝缘设置的像素电极85和公共电极86。述像素电极85具有多个第一刻 缝851，所述公共电极86具有多个第二刻缝861。由于第二刻缝861处液晶分子排列杂乱， 容易出现黑色畴线，因此，相邻两条数据线的透明导电部851的间隙在所述基板80上的正 投影，与所述第二刻缝861在所述基板80上的正投影至少部分重合。
[0059] 需要说明的是，图11-图14示例性的设置公共电极位于所述像素电极上方，而并 非对本发明的限制，在其他实施例中，还可以将所述公共电极设置于所述像素电极下方。
[0060] 需要说明的是，上述各实施例中图6-图14示例性的以数据线包括多个透明导电 部以及多个金属走线部时为例，具体介绍数据线的透明导电部与像素电极、公共电极之间 位置的设置方式，类似的，当所述扫描线包括多个透明导电部以及多个金属走线部时，所述 阵列基板的像素电极和公共电极可以为同层绝缘设置，相邻两条扫描线的透明导电部的间 隙在所述基板上的正投影，与公共电极的中间区域在所述基板上的正投影或像素电极的中 间区域在所述基板上的正投影至少部分重合。当所述扫描线包括多个透明导电部以及多个 金属走线部时，所述阵列基板的像素电极和公共电极还可以为异层绝缘设置，所述公共电 极为面电极，所述像素电极具有多个第一刻缝，相邻两条扫描线的透明导电部的间隙在所 述基板上的正投影，与所述第一刻缝在所述基板上的正投影或者与像素电极的中间区域在 所述基板上的正投影至少部分重合。当所述扫描线包括多个透明导电部以及多个金属走线 部时，所述阵列基板的像素电极和公共电极还可以为异层绝缘设置，所述像素电极具有多 个第一刻缝，所述公共电极具有多个第二刻缝，相邻两条扫描线的透明导电部的间隙在所 述基板上的正投影，与所述第一刻缝或者所述第二刻缝在所述基板上的正投影至少部分重 合。
[0061] 在上述各实施例的基础上，所述阵列基板还包括位于数据线或扫描线所在膜层， 与像素电极或公共电极所在膜层之间的平坦化层。
[0062] 进一步的，所述平坦化层的厚度为2_3um，这样设置的好处是可以减小数据线或扫 描线与像素电极或公共电极的寄生电容，避免信号之间的干扰与耦合。
[0063] 本发明实施例还提供一种阵列基板的制作方法，用于所述方法适用于制备上述各 实施例所述的阵列基板，具体的，所述方法包括：
[0064] 首先，在基板上形成扫描线或数据线的多个金属走线部；
[0065] 接着，形成所述扫描线或所述数据线的多个透明导电部；
[0066] 其中，每条扫描线或 每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接；所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫 描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区。
[0067] 在上述各实施例的基础上，所述制作方法还包括：
[0068] 在形成多个透明导电部的同时形成多个金属走线保护部，所述金属走线保护部覆 盖所述金属走线部。
[0069] 在上述实施例的基础上，可选的，所述扫描线或所述数据线的透明导电部至少部 分位于所述阵列基板的透光区。
[0070] 进一步的，所述扫描线的透明导电部或所述数据线的透明导电部的材料为氧化铟 锡、石墨烯和氧化铟锌的任意一种。
[0071] 在上述实施例的基础上，在制作完多条扫描线和多条数据线后，形成于所述多条 扫描线和多条数据线绝缘的公共电极和像素电极。本发明实施例对于公共电极和像素电极 的制作顺序不作限制，可以先制作公共电极，再制作像素电极；也可以先制作像素电极再制 作公共电极。所述公共电极与像素电极可以是同层绝缘间隔设置，还可以是异层绝缘设置。
[0072] 当所述公共电极与像素电极同层绝缘间隔设置时，相邻两条扫描线的透明导电部 的间隙在所述基板上的正投影或相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正 投影，与公共电极的中间区域在所述基板上的正投影或像素电极的中间区域在所述基板上 的正投影至少部分重合。
[0073] 当所述公共电极与像素电极异层绝缘设置，所述公共电极可以是面电极，所述像 素电极具有多个第一刻缝，相邻两条扫描线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投影或 相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投影，与所述第一刻缝在所述基板 上的正投影或者与像素电极的中间区域在所述基板上的正投影至少部分重合。
[0074] 当所述公共电极与像素电极异层绝缘设置，所述像素电极可以具有多个第一刻 缝，所述公共电极具有多个第二刻缝。相邻两条扫描线的透明导电部的间隙在所述基板上 的正投影或相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投影，与所述第一刻缝 或者所述第二刻缝在所述基板上的正投影至少部分重合。
[0075] 在上述各实施例的基础上，在制作完多条扫描线和多条数据线后，制作公共电极 或像素电极之前，所述方法还包括在数据线或扫描线所在膜层，与像素电极或公共电极所 在膜层之间形成平坦化层。优选所述平坦化层的厚度为2_3um，这样设置的好处是可以减小 数据线或扫描线与像素电极或公共电极的寄生电容，避免信号之间的干扰与耦合。
[0076] 本发明实施例还提供一种显示面板，图15为本发明实施例提供的一种显示面板 的结构示意图，如图15所示，所述显示面板包括：阵列基板91，与所述阵列基板91相对设 置的彩膜基板92,以及位于所述阵列基板91和所述彩膜基板92之间的显示功能层93。其 中所述阵列基板91为上述各实施例所述的阵列基板。由于所述显示面板采用了上述各实 施例所述的阵列基板，其技术原理和产生的技术效果与上述阵列基板类似，因此具备与上 述阵列基板同样的有益效果，这里不再赘述。
[0077] 在上述实施例的基础上，所述彩膜基板上还设置有黑矩阵，所述黑矩阵在所述阵 列基板上的真投影与所述阵列基板上的非透光区重合。
[0078] 本发明实施例还提供一种显示装置，图16为本发明实施例提供的一种显示装置 的结构示意图，如图16所示，所述显示装置包括显示面板101和位于所述显示面板的显示 侧上方的狭缝光栅102或透镜光栅103。其中所述显示面板101为上述实施例中所述的显 示面板，所述狭缝光栅102或透镜光栅103用于分光，使进入人的双眼看到不同的画面，从 而产生空间感。需要说明的是，本发明实施例提供显示装置还可以包括其他用于支持显示 装置正常工作的电路及器件。
[0079] 注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解， 本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、 重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行 了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还 可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
【主权项】
1. 一种阵列基板，其特征在于，包括： 基板； 彼此绝缘交叉的多条扫描线和多条数据线； 其中，每条扫描线和/或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接； 其中，所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线和/或所述数据线的金属走 线部位于所述阵列基板的非透光区。2. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述扫描线或所述数据线的透明导 电部至少部分位于所述阵列基板的透光区。3. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述扫描线的透明导电部或所述数 据线的透明导电部的材料为氧化铟锡、石墨烯和氧化铟锌的任意一种。4. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括金属走线保护部，位于所述金 属走线部上方并覆盖所述金属走线部。5. 根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述金属走线保护部与所述透明导 电部在同一制作工艺中，由同种材料制成。6. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：同层绝缘间隔设置的像素电 极和公共电极。7. 根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，相邻两条扫描线的透明导电部的间 隙在所述基板上的正投影或相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投影， 与公共电极的中间区域在所述基板上的正投影或像素电极的中间区域在所述基板上的正 投影至少部分重合。8. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：异层绝缘设置的像素电极和 公共电极。9. 根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极为面电极，所述像素电 极具有多个第一刻缝。10. 根据权利要求9所述的阵列基板，其特征在于，相邻两条所述扫描线的透明导电部 的间隙在所述基板上的正投影或相邻两条所述数据线的透明导电部的间隙在所述基板上 的正投影，与所述第一刻缝在所述基板上的正投影或者与像素电极的中间区域在所述基板 上的正投影至少部分重合。11. 根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极具有多个第一刻缝， 所述公共电极具有多个第二刻缝。12. 根据权利要求11所述的阵列基板，其特征在于，相邻两条扫描线的透明导电部的 间隙在所述基板上的正投影或相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投 影，与所述第一刻缝或者所述第二刻缝在所述基板上的正投影至少部分重合。13. 根据权利要求6-12任一所述的阵列基板，其特征在于，还包括： 位于数据线或扫描线所在膜层，与像素电极或公共电极所在膜层之间的平坦化层。14. 根据权利要求13所述的阵列基板，其特征在于，所述平坦化层的厚度为2-3um。15. -种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括： 首先，在基板上形成扫描线或数据线的多个金属走线部； 接着，形成所述扫描线或所述数据线的多个透明导电部； 其中，每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻的透 明导电部通过所述金属走线部电连接；所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线 或所述数据线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区。16. 根据权利要求15所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括： 在形成多个透明导电部的同时形成多个金属走线保护部，所述金属走线保护部覆盖所述金 属走线部。17. -种显示面板，其特征在于，包括： 权利要求1-14任一所述的阵列基板； 与所述阵列基板相对设置的彩膜基板； 以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的显示功能层。18. 根据权利要求17所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜基板上设置有黑矩阵，所 述黑矩阵在所述阵列基板上的正投影与所述阵列基板上的非透光区重合。19. 一种显示装置，其特征在于，包括： 权利要求17或18所述的显示面板； 位于所述显示面板的显示侧上方的狭缝光栅或透镜光栅。
【专利摘要】本发明公开了一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法，所述阵列基板包括：基板；彼此绝缘交叉的多条扫描线和多条数据线；其中，每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻的透明导电部通过所述金属走线部电连接；其中，所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区。相比现有技术能够在消除莫尔条纹的同时提高像素开口率，提升显示亮度。
【IPC分类】G02F1/1345
【公开号】CN104898337
【申请号】CN201510374357
【发明人】李嘉灵, 牛磊, 凌志华
【申请人】上海天马微电子有限公司, 天马微电子股份有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年6月30日
【技术领域】
[0001] 本发明涉及显示器技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作 方法。
【背景技术】
[0002] 裸眼3D显示器凭借其全方位的展现与呼之欲出的震撼感觉，以及不需要佩戴特 殊眼镜的优点，成为3D显示研宄的主要方向，是新一代显示器件的研宄热点。裸眼3D显示 器主要包括狭缝光栅式显示器和柱镜光栅式显示器，其原理都是基于光栅的分光原理，通 过对光栅形状的设计及光栅到显示器距离的精确控制，使通过显示平面的各像素的光线分 别只进入人的左眼或右眼，双眼看到不同的画面，从而产生空间感。由于显示器的像素排 布是有序排列的周期结构，同一行像素单元的相邻像素单元之间具有遮光金属形成的数据 线，或者同一列像素单元的相邻像素单元之间具有遮光金属形成的扫描线，导致其发出的 光强也具有周期性排布结构，这样的光强与显示器前面的周期性光栅结构相互干涉，很容 易形成彩色或者黑色莫尔条纹。莫尔条纹的产生会影响3D显示效果，破坏图像的观赏性。
[0003] 图1为现有技术中一种可以消除莫尔条纹的阵列基板的结构示意图，如图1所示， 多条扫描线11和多条数据线12绝缘相交限制出多个像素单元10,为消除莫尔条纹，需要同 一行像素单元10的任意一个聚焦位置的亮度相同，现有技术在每个像素单元10中周期性 的放置遮光的金属伪电极13,金属伪电极13与遮光的数据线12形成周期性排列，使得位于 每个像素单元10中或者位于不同像素单元10中的聚焦位置14、15、16的亮度都相同，进而 使得像素单元10内部每个聚焦位置的亮度与邻近数据线12的每个聚焦位置的亮度相同， 从而所以可以消除莫尔条纹。但是放置金属伪电极13后，会导致阵列基板的开口率明显降 低。
【发明内容】
[0004] 本发明实施例提供一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法，相比现有技术 通过设置金属伪电极的方式消除莫尔条纹的方法，能够提高像素开口率，提升显示亮度。
[0005] 第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：
[0006] 基板；
[0007] 彼此绝缘交叉的多条扫描线和多条数据线；
[0008] 其中，每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接；
[0009] 其中，所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线或所述数据线的金属走 线部位于所述阵列基板的非透光区。
[0010] 第二方面，本发明实施例还提供一种阵列基板的制作方法，包括：
[0011] 首先，在基板上形成扫描线或数据线的多个金属走线部；
[0012] 接着，形成所述扫描线或所述数据线的多个透明导电部；
[0013] 其中，每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接；所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫 描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区。
[0014] 第三方面，本发明实施例还提供一种显示面板，包括：
[0015] 本发明第一方面所述的阵列基板；
[0016] 与所述阵列基板相对设置的彩膜基板；
[0017] 以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的显示功能层。
[0018] 第四方面，本发明实施例还提供一种显示装置，包括：
[0019] 本发明第三方面所述的显示面板；
[0020] 位于所述显示面板的显示侧上方的狭缝光栅或透镜光栅。
[0021] 本发明实施例提供的技术方案，通过将每条扫描线或每条数据线设置为包括多个 透明导电部以及多个金属走线部，相邻的透明导电部通过所述金属走线部电连接，并且所 述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列 基板的非透光区，能够在不影响像素开口率的情况下，消除莫尔条纹现象。
【附图说明】
[0022] 图1为现有技术中一种消除解决莫尔条纹的阵列基板的结构示意图；
[0023] 图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图；
[0024] 图3为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图；
[0025] 图4为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图；
[0026] 图5为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图；
[0027] 图6为图5中沿AA'的剖面示意图；；
[0028] 图7为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图；
[0029] 图8为图7中沿BB'的剖面示意图；
[0030] 图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图；
[0031] 图10为图9中沿BB'的剖面示意图；
[0032] 图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图；
[0033] 图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图；
[0034] 图13为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图；
[0035] 图14为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图；
[0036] 图15为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
[0037] 图16为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0038] 下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描 述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便 于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
[0039] 图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图，如图2所示，所述阵列基板包 括：基板20 ;彼此绝缘交叉的多条扫描线23和多条数据线24 ;其中，每条扫描线23包括多 个透明导电部231以及多个金属走线部232,相邻的透明导电部231通过所述金属走线部 232电连接。所述阵列基板包括透光区21和非透光区22,所述扫描线23的金属走线部232 位于所述阵列基板的非透光区22。
[0040] 本发明实施例提供的阵列基板，通过将扫描线设置为包括多个透明导电部以及多 个金属走线部，并将所述扫描线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区，由于透光区 中没有遮光的金属材料，因此任意聚焦位置的亮度相同，所以可以避免莫尔条纹的出现，且 无需在透光区设置遮光的金属伪电极，从而可以提高像素的开口率以及显示亮度。在上述 实施例的基础上，所述扫描线23的透明导电部231至少部分位于所述阵列基板的透光区 21，图2示例性的设置扫描线23的透明导电部231部分位于所述阵列基板的透光区21。
[0041] 优选的，如图3所示，也可以设置为所述扫描线23的透明导电部231的全部位于 所述阵列基板的透光区21。这样设置的好处是，可以增加透光区21的面积，从而提升阵列 基板的开口率。
[0042] 图4为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图，如图4所示，所述阵列基板 包括：基板30 ;彼此绝缘交叉的多条扫描线33和多条数据线34 ;其中，每条数据线34括多 个透明导电部341以及多个金属走线部342,相邻的透明导电部341通过所述金属走线部 342电连接。所述阵列基板包括透光区31和非透光区32,所述数据线34的金属走线部342 位于所述阵列基板的非透光区32。
[0043] 在上述实施例的基础上，所述数据线的透明导电部至少部分位于所述阵列基板的 透光区。优选的，也可以设置为所述数据线的透明导电部的全部位于所述阵列基板的透光 区，这样设置可以增加透光区的面积，从而提升阵列基板的开口率。
[0044] 在上述各实施例的基础上，所述扫描线的透明导电部或所述数据线的透明导电部 的材料为氧化铟锡、石墨烯和氧化铟锌的任意一种。
[0045] 由于透明导电部的电阻比金属走线部的电阻大很多倍，用透明导电部作为扫描线 和/或数据线的一部分必然导致扫描线或数据线的电阻的增大，所以需要增加每个透明导 电部的宽长比W/L，以减小透明导电部的电阻。以扫描线为例具体参见图2,本发明实施例 采用下列表1所示的参数设置透明导电部与金属走线部，虽然扫描线由透明导电部与金属 走线部组成，采用下列表1所示的参数设置透明导电部与金属走线部形成的扫描线，与现 有技术中扫描线全部使用金属材料制作相比，整条扫描线的阻值与现有技术中相近，并没 有明显增加。需要说明的是，表1中沿扫描线延伸方向为长L，沿数据线延伸方向为宽W。
[0047]表 1
[0048] 在上述各实施例的基础上，所述阵列基板还包括像素电极和公共电极，所述像素 电极和公共电极可以同层绝缘间隔设置，还可以异层绝缘设置。本发明实施例提供的阵列 基板可适用于TN型、IPS型以及FFS型的液晶驱动面板。
[004 9] 在上述各实施例的基础上，可选的，所述阵列基板还包括金属走线保护部，位于所 述金属走线部上方并覆盖所述金属走线部。下面以数据线包括多个透明导电部以及多个金 属走线部时为例，进行详细介绍。图5为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图，图 6为图5中沿AA'的剖面示意图，如图5和图6所示，所述阵列基板包括：基板40 ;彼此绝缘 交叉的多条扫描线43和多条数据线44 ;其中，每条数据线44包括多个透明导电部441以及 多个金属走线部442,相邻的透明导电部441通过所述金属走线部442电连接。所述阵列基 板包括透光区41和非透光区42,所述数据线44的金属走线部442位于所述阵列基板的非 透光区42。所述阵列基板还包括位于所述金属走线部442上方并覆盖所述金属走线部442 的金属走线保护部443。设置金属走线保护部443的好处是可以保护所述金属走线保护部 443,避免后续工艺制作过程中蚀刻液、杂质离子渗入等对金属走线部443的损坏。
[0050] 优选的，所述金属走线保护部与所述透明导电部在同一制作工艺中，由同种材料 制成，这样可以减少一道制作工艺，进一步提高生产效率，同时，由于金属走线保护部与透 明导电部在同一制作工艺中，由同种材料制成，金属走线保护部与透明导电部为一个整体， 透明导电部可以通过金属走线保护部与金属走线部电连接在一起，从而增强透明导电部与 金属走线部的连接可靠性。
[0051] 需要说明的是，当所述扫描线包括多个透明导电部以及多个金属走线部时，还可 以在所述扫描线的金属走线部上方设置金属走线保护部，所述金属走线保护部覆盖所述金 属走线部，本发明实施例在此不作赘述。
[0052] 需要说明的是，对于上述实施例中，将每条扫描线和/或每条数据线设置为包括 多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻的透明导电部通过所述金属走线部电连接；所 述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线和/或所述数据线的金属走线部位于所述 阵列基板的非透光区，上述结构的设置具体有多种实现方式。因为多条扫描线和多条数据 线彼此绝缘交叉，所以相邻两条扫描线的透明导电部具有间隙，或者，相邻两条数据线的透 明导电部具有间隙，上述间隙位置的设置有多种不同的方式，下面就各优选实施方式进行 详细描述。
[0053] 图7为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图，图8为图7中沿BB' 的剖面示意图，如图8和图7所示，所述阵列基板包括：基板50 ;彼此绝缘交叉的多条扫描 线53和多条数据线54 ;其中，每条数据线54括多个透明导电部541以及多个金属走线部 542,相邻的透明导电部541通过所述金属走线部542电连接。所述阵列基板包括非透光区 51和透光区52,所述数据线54的金属走线部542位于所述阵列基板的非透光区51。所述 阵列基板还包括同层绝缘间隔设置的像素电极55和公共电极56,相邻两条数据线54的透 明导电部541的间隙在所述基板50上的正投影与像素电极55的中间区域在所述基板上的 正投影至少部分重合。同层绝缘间隔设置的像素电极55和公共电极56能够产生边缘场， 可以获得宽视角的显示，但采用该种结构的阵列基板制作的显示面板，由于像素电极55的 中间区域处的液晶分子排列杂乱，容易出现黑色畴线，因此将相邻两条数据线54的透明导 电部541的间隙设置在黑色畴线的正上方，即相邻两条数据线54的透明导电部541的间隙 在所述基板上的正投影与像素电极55的中间区域在所述基板上的正投影至少部分重合， 可以防止工艺波动导致部分产品相邻两条数据线的透明导电部的间隙刻缝可见问题。
[0054] 图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视示意图，图10为图9中沿BB' 的剖面示意图，如图9和图10所示，所述阵列基板包括：基板60 ;彼此绝缘交叉的多条扫描 线63和多条数据线64 ;其中，每条数据线64括多个透明导电部641以及多个金属走线部 642,相邻的透明导电部641通过所述金属走线部642电连接。所述阵列基板包括非透光区 61和透光区62,所述数据线64的金属走线部642位于所述阵列基板的非透光区61。与上 述实施例不同的是，所述阵列基板还包括同层绝缘间隔设置的像素电极65和公共电极66， 相邻两条数据线63的透明导电部641的间隙在所述基板上的正投影与公共电极66的中间 区域在所述基板上的正投影至少部分重合。与上述实施例类似，同层绝缘间隔设置的像素 电极65和公共电极66可以产生边缘场，以增加显示视角，但公共电极66的中间区域也容 易出现黑色畴线，因此还可以将相邻两条数据线63的透明导电部641的间隙设置在公共电 极66的中间区域的正上方，也即相邻两条数据线63的透明导电部641的间隙在所述基板 上的正投影与公共电极66的中间区域在所述基板上的正投影至少部分重合，本实施例也 可以防止工艺波动导致部分产品相邻两条数据线的透明导电部的间隙刻缝可见问题。
[0055] 图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图，与上述各实施例不 同的是，所述阵列基板还包括异层绝缘设置的像素电极75和公共电极76。所述像素电极 75具有多个第一刻缝751。由于第一刻缝751处液晶分子排列杂乱，容易出现黑色畴线，因 此，设置相邻两条扫描线73的透明导电部731的间隙在所述基板上的正投影，与所述第一 刻缝751在所述基板70上的正投影至少部分重合。
[0056] 图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图，如图12所示，所述阵 列基板还包括异层绝缘设置的像素电极75和公共电极76。所述像素电极75具有多个第一 刻缝751。由于像素电极75的中间区域处液晶分子排列杂乱，容易出现黑色畴线，因此，设 置相邻两条扫描线73的透明导电部731的间隙在所述基板70上的正投影，与像素电极75 的中间区域在所述基板70上的正投影至少部分重合。
[0057] 图13为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图，如图13所示，所述阵 列基板还包括异层绝缘设置的像素电极85和公共电极86。述像素电极85具有多个第一刻 缝851，所述公共电极86具有多个第二刻缝861。由于第一刻缝851处液晶分子排列杂乱， 容易出现黑色畴线，因此，相邻两条数据线的透明导电部851的间隙在所述基板80上的正 投影，与所述第一刻缝851在所述基板80上的正投影至少部分重合。
[0058] 图14为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面示意图，如图14所示，所述阵 列基板还包括异层绝缘设置的像素电极85和公共电极86。述像素电极85具有多个第一刻 缝851，所述公共电极86具有多个第二刻缝861。由于第二刻缝861处液晶分子排列杂乱， 容易出现黑色畴线，因此，相邻两条数据线的透明导电部851的间隙在所述基板80上的正 投影，与所述第二刻缝861在所述基板80上的正投影至少部分重合。
[0059] 需要说明的是，图11-图14示例性的设置公共电极位于所述像素电极上方，而并 非对本发明的限制，在其他实施例中，还可以将所述公共电极设置于所述像素电极下方。
[0060] 需要说明的是，上述各实施例中图6-图14示例性的以数据线包括多个透明导电 部以及多个金属走线部时为例，具体介绍数据线的透明导电部与像素电极、公共电极之间 位置的设置方式，类似的，当所述扫描线包括多个透明导电部以及多个金属走线部时，所述 阵列基板的像素电极和公共电极可以为同层绝缘设置，相邻两条扫描线的透明导电部的间 隙在所述基板上的正投影，与公共电极的中间区域在所述基板上的正投影或像素电极的中 间区域在所述基板上的正投影至少部分重合。当所述扫描线包括多个透明导电部以及多个 金属走线部时，所述阵列基板的像素电极和公共电极还可以为异层绝缘设置，所述公共电 极为面电极，所述像素电极具有多个第一刻缝，相邻两条扫描线的透明导电部的间隙在所 述基板上的正投影，与所述第一刻缝在所述基板上的正投影或者与像素电极的中间区域在 所述基板上的正投影至少部分重合。当所述扫描线包括多个透明导电部以及多个金属走线 部时，所述阵列基板的像素电极和公共电极还可以为异层绝缘设置，所述像素电极具有多 个第一刻缝，所述公共电极具有多个第二刻缝，相邻两条扫描线的透明导电部的间隙在所 述基板上的正投影，与所述第一刻缝或者所述第二刻缝在所述基板上的正投影至少部分重 合。
[0061] 在上述各实施例的基础上，所述阵列基板还包括位于数据线或扫描线所在膜层， 与像素电极或公共电极所在膜层之间的平坦化层。
[0062] 进一步的，所述平坦化层的厚度为2_3um，这样设置的好处是可以减小数据线或扫 描线与像素电极或公共电极的寄生电容，避免信号之间的干扰与耦合。
[0063] 本发明实施例还提供一种阵列基板的制作方法，用于所述方法适用于制备上述各 实施例所述的阵列基板，具体的，所述方法包括：
[0064] 首先，在基板上形成扫描线或数据线的多个金属走线部；
[0065] 接着，形成所述扫描线或所述数据线的多个透明导电部；
[0066] 其中，每条扫描线或 每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接；所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫 描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区。
[0067] 在上述各实施例的基础上，所述制作方法还包括：
[0068] 在形成多个透明导电部的同时形成多个金属走线保护部，所述金属走线保护部覆 盖所述金属走线部。
[0069] 在上述实施例的基础上，可选的，所述扫描线或所述数据线的透明导电部至少部 分位于所述阵列基板的透光区。
[0070] 进一步的，所述扫描线的透明导电部或所述数据线的透明导电部的材料为氧化铟 锡、石墨烯和氧化铟锌的任意一种。
[0071] 在上述实施例的基础上，在制作完多条扫描线和多条数据线后，形成于所述多条 扫描线和多条数据线绝缘的公共电极和像素电极。本发明实施例对于公共电极和像素电极 的制作顺序不作限制，可以先制作公共电极，再制作像素电极；也可以先制作像素电极再制 作公共电极。所述公共电极与像素电极可以是同层绝缘间隔设置，还可以是异层绝缘设置。
[0072] 当所述公共电极与像素电极同层绝缘间隔设置时，相邻两条扫描线的透明导电部 的间隙在所述基板上的正投影或相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正 投影，与公共电极的中间区域在所述基板上的正投影或像素电极的中间区域在所述基板上 的正投影至少部分重合。
[0073] 当所述公共电极与像素电极异层绝缘设置，所述公共电极可以是面电极，所述像 素电极具有多个第一刻缝，相邻两条扫描线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投影或 相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投影，与所述第一刻缝在所述基板 上的正投影或者与像素电极的中间区域在所述基板上的正投影至少部分重合。
[0074] 当所述公共电极与像素电极异层绝缘设置，所述像素电极可以具有多个第一刻 缝，所述公共电极具有多个第二刻缝。相邻两条扫描线的透明导电部的间隙在所述基板上 的正投影或相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投影，与所述第一刻缝 或者所述第二刻缝在所述基板上的正投影至少部分重合。
[0075] 在上述各实施例的基础上，在制作完多条扫描线和多条数据线后，制作公共电极 或像素电极之前，所述方法还包括在数据线或扫描线所在膜层，与像素电极或公共电极所 在膜层之间形成平坦化层。优选所述平坦化层的厚度为2_3um，这样设置的好处是可以减小 数据线或扫描线与像素电极或公共电极的寄生电容，避免信号之间的干扰与耦合。
[0076] 本发明实施例还提供一种显示面板，图15为本发明实施例提供的一种显示面板 的结构示意图，如图15所示，所述显示面板包括：阵列基板91，与所述阵列基板91相对设 置的彩膜基板92,以及位于所述阵列基板91和所述彩膜基板92之间的显示功能层93。其 中所述阵列基板91为上述各实施例所述的阵列基板。由于所述显示面板采用了上述各实 施例所述的阵列基板，其技术原理和产生的技术效果与上述阵列基板类似，因此具备与上 述阵列基板同样的有益效果，这里不再赘述。
[0077] 在上述实施例的基础上，所述彩膜基板上还设置有黑矩阵，所述黑矩阵在所述阵 列基板上的真投影与所述阵列基板上的非透光区重合。
[0078] 本发明实施例还提供一种显示装置，图16为本发明实施例提供的一种显示装置 的结构示意图，如图16所示，所述显示装置包括显示面板101和位于所述显示面板的显示 侧上方的狭缝光栅102或透镜光栅103。其中所述显示面板101为上述实施例中所述的显 示面板，所述狭缝光栅102或透镜光栅103用于分光，使进入人的双眼看到不同的画面，从 而产生空间感。需要说明的是，本发明实施例提供显示装置还可以包括其他用于支持显示 装置正常工作的电路及器件。
[0079] 注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解， 本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、 重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行 了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还 可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
【主权项】
1. 一种阵列基板，其特征在于，包括： 基板； 彼此绝缘交叉的多条扫描线和多条数据线； 其中，每条扫描线和/或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻 的透明导电部通过所述金属走线部电连接； 其中，所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线和/或所述数据线的金属走 线部位于所述阵列基板的非透光区。2. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述扫描线或所述数据线的透明导 电部至少部分位于所述阵列基板的透光区。3. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述扫描线的透明导电部或所述数 据线的透明导电部的材料为氧化铟锡、石墨烯和氧化铟锌的任意一种。4. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括金属走线保护部，位于所述金 属走线部上方并覆盖所述金属走线部。5. 根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述金属走线保护部与所述透明导 电部在同一制作工艺中，由同种材料制成。6. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：同层绝缘间隔设置的像素电 极和公共电极。7. 根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，相邻两条扫描线的透明导电部的间 隙在所述基板上的正投影或相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投影， 与公共电极的中间区域在所述基板上的正投影或像素电极的中间区域在所述基板上的正 投影至少部分重合。8. 根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：异层绝缘设置的像素电极和 公共电极。9. 根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极为面电极，所述像素电 极具有多个第一刻缝。10. 根据权利要求9所述的阵列基板，其特征在于，相邻两条所述扫描线的透明导电部 的间隙在所述基板上的正投影或相邻两条所述数据线的透明导电部的间隙在所述基板上 的正投影，与所述第一刻缝在所述基板上的正投影或者与像素电极的中间区域在所述基板 上的正投影至少部分重合。11. 根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极具有多个第一刻缝， 所述公共电极具有多个第二刻缝。12. 根据权利要求11所述的阵列基板，其特征在于，相邻两条扫描线的透明导电部的 间隙在所述基板上的正投影或相邻两条数据线的透明导电部的间隙在所述基板上的正投 影，与所述第一刻缝或者所述第二刻缝在所述基板上的正投影至少部分重合。13. 根据权利要求6-12任一所述的阵列基板，其特征在于，还包括： 位于数据线或扫描线所在膜层，与像素电极或公共电极所在膜层之间的平坦化层。14. 根据权利要求13所述的阵列基板，其特征在于，所述平坦化层的厚度为2-3um。15. -种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括： 首先，在基板上形成扫描线或数据线的多个金属走线部； 接着，形成所述扫描线或所述数据线的多个透明导电部； 其中，每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻的透 明导电部通过所述金属走线部电连接；所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线 或所述数据线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区。16. 根据权利要求15所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括： 在形成多个透明导电部的同时形成多个金属走线保护部，所述金属走线保护部覆盖所述金 属走线部。17. -种显示面板，其特征在于，包括： 权利要求1-14任一所述的阵列基板； 与所述阵列基板相对设置的彩膜基板； 以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的显示功能层。18. 根据权利要求17所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜基板上设置有黑矩阵，所 述黑矩阵在所述阵列基板上的正投影与所述阵列基板上的非透光区重合。19. 一种显示装置，其特征在于，包括： 权利要求17或18所述的显示面板； 位于所述显示面板的显示侧上方的狭缝光栅或透镜光栅。
【专利摘要】本发明公开了一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法，所述阵列基板包括：基板；彼此绝缘交叉的多条扫描线和多条数据线；其中，每条扫描线或每条数据线包括多个透明导电部以及多个金属走线部，相邻的透明导电部通过所述金属走线部电连接；其中，所述阵列基板包括透光区和非透光区，所述扫描线或所述数据线的金属走线部位于所述阵列基板的非透光区。相比现有技术能够在消除莫尔条纹的同时提高像素开口率，提升显示亮度。
【IPC分类】G02F1/1345
【公开号】CN104898337
【申请号】CN201510374357
【发明人】李嘉灵, 牛磊, 凌志华
【申请人】上海天马微电子有限公司, 天马微电子股份有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年6月30日
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