用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法
用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种用于柔性显示器的纤维基板的平坦化方法，其中柔性显示器以纤维组织为基底，尤其涉及一种，为确保器件的完整性而提高纤维基板的平滑度、热稳定性及尺寸稳定性的纤维基板的平坦化方法。
【背景技术】
[0002]柔性显示器是指利用如纸张一样薄且柔软的基板，可对其无损伤地实现折弯、折叠及卷曲的显示器。与平板显示器相同地，为形成柔性显示器的现有技术通过细分成利用液晶的LCD (Liquid crystal display)、利用有机发光材料的OLED (Organiclight-emitting d1de)、及 Epaper (Electronic papar)等进行石开宄开发。
[0003]当前，柔性显示器使用塑胶原料、薄膜等作为基板，因此，具有重量轻、厚度薄、以及受到冲击也不会碎的优点。现考虑将柔性显示器作为移动设备用显示器来使用，并且还可变形成弯曲形状的显示器，因此，该柔性显示器的用途已扩大至生活用品或汽车领域等，并且将会成为需求暴增的未来有前景的产业。
[0004]现有技术中，英国Eleksen公司引入了由纤维材料制得的可卷曲键盘作为输入设备，美国佐治亚理工学院(Georgia Institute of Technology)的聚合物、纺织及纤维工程学院(school of polymer,Textile&Fiber Engineerinng)将利用光学、导电纤维制造出实现生理信号监测及信息处理的智能衬衫，并作为主要研发(R&D)成果。
[0005]但是，使用塑胶原料、薄膜作为基板时，其可适用的领域有限，并且只能单向折弯的塑胶原料、薄膜基板不具有悬垂性(Drape)，从而存在无法应用柔性的缺点。因此，现对由可最大限度地应用柔性显示器的优点的纤维基板所制造的柔性显示器进行研宄。
[0006]用于制作显示器件的的基板的表面需要光滑且平滑，以防止待施加的涂层例如电极导电涂层的完整性。
[0007]但是，从平滑度、热稳定性及尺寸稳定性方面来看，现有的纤维基板还不足以用作显示器用基板。
【发明内容】
[0008]技术问题
[0009]本发明是为了解决上述现有技术中存在的问题而提出的，本发明的目的在于提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其中，该平坦化纤维基板确保用纤维制作的纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性，并且通过平坦化工艺提高平滑度，从而能够获得器件的完整性。
[0010]另外，本发明的目的在于提供一种使用悬垂性优异的纤维原料，借由悬垂性来实现优异的柔性及皮肤触感的柔性显示设备。
[0011]技术方案
[0012]本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，包括:准备由纤维制作的纤维基板的准备步骤；用于实现所述纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性的压延(Calendering)步骤；涂布第一平坦化膜以实现经压延的所述纤维基板的平坦化的第一涂布步骤；对所述第一平坦化膜进行常温等离子体处理的等离子体处理步骤；以及在经等离子体处理的所述第一平坦化膜上涂布第二平坦化膜的第二涂布步骤。
[0013]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述纤维基板由聚对苯二甲酸乙二醋(polyethylene terephthalate)、聚乙稀(polyethylene)、尼龙(nylon)、丙稀酸(acrylic)中的任一种或两种以上混合物形成。
[0014]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述压延步骤在40°C -180°CU.5-3.5Kg/cm2的条件下进行。
[0015]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，在进行所述压延步骤之后，对于所述纤维基板的热稳定性而言，在减重为0.2%时的温度为300°C以上，且热膨胀系数(CTE)为10-40ppm/°C。
[0016]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第一平坦化膜由娃烧(silane)、聚氨醋(polyurethane)、聚碳酸醋(polycarbonate)中的任一种或两种以上的混合物形成。
[0017]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述娃烧是甲娃烧(monosilane, SiH4)、乙娃烧(disilane，Si2H6)、丙娃烧(torisilane, Si3H8)、及丁娃烧(tetrasilane，Si4H10)中的任一种或两种以上的混合物。
[0018]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述娃烧具有如下任一官能团:环氧基(epoxy)、烧氧基(alkoxy)、乙稀基(vinyl)、苯基(phenyl)、甲基丙稀酰氧基(methacryloxy)、氨基(amino)、氯娃烧基(chlorosilane)、氯丙基(chloropropyl)、以及巯基(mercapto)。
[0019]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第一平坦化膜可进一步包括选自金属氧化物、非金属氧化物、氮化物、及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。
[0020]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第一涂布步骤利用旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法中的任一方法形成第一平坦化膜，并在80-160°C的低温下固化。
[0021]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第一平坦化膜的厚度是1-20 μ m，表面的Ra值是1-5μπι。
[0022]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述等离子体处理步骤是用常温等离子体在常压且在氩气(Ar)、氧气(O2)气氛下以功率为50-300W进行的。
[0023]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，在进行所述等离子体处理步骤之后，所述第一平坦化膜的表面接触角在10-60度以下。
[0024]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二平坦化膜由丙烯酸酯类聚合物、环氧类聚合物、胺类低聚物、乙烯类聚合物中的任一种或两种以上的混合物形成。
[0025]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二平坦化膜进一步包括吸光剂。
[0026]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二平坦化膜进一步包括金属氧化物、非金属氧化物、氮化物、及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。
[0027]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二涂布步骤利用旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法中的任一方法形成第二平坦化膜，并在80_160°C的低温下固化。
[0028]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二平坦化膜的厚度是0.01-1 μ m，表面的Ra值是10_500nm。
[0029]另外，本发明提供一种柔性显示设备，其特征在于，所述柔性显示设备包括用于所述柔性显示器的平坦化纤维基板。
[0030]下面，参照附图对本发明的优选实施例进行详细说明。首先，应注意，在附图中相同的构成要素或部件尽可能地用相同的附图标记标注。在对本发明进行说明时，为了不使本发明的要点模糊，省略相关公知功能或结构的具体说明。
[0031]本说明书中所使用的修饰程度的术语“约”、“实质上”等是指制造及物质所固有的容许误差的数值或接近该容许误差的数值，这是为了防止不良侵权者不正当地利用本发明中涉及的为助于理解所记载的准确数值或绝对数值的内容。
[0032]图1是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法的工艺流程图，图2是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的截面的剖视图，图3是示出本发明的在进行平坦化步骤之前的纤维基板的截面的扫描电子显微照片，图4是示出对本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的热膨胀系数(CTE)进行分析的图表，图5是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的热稳定性的图表，图6是示出本发明的形成有第一平坦化膜的纤维基板的截面的扫描电子显微照片，图7是示出本发明的形成有 第二平坦化膜的纤维基板的截面的扫描电子显微照片，图8是示出本发明的在用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有机发光器件的结构图，图9是示出本发明的在用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有有机发光器件的示意图。
[0033]本发明涉及使用纤维制造的用于柔性显示器的纤维基板，如图1所示，本发明通过准备步骤、压延步骤、第一涂布步骤、等离子体处理步骤、及第二涂布步骤而制造；如图2所示，柔性显示器的平坦化纤维基板包括纤维基板100、第一平坦化膜200及第二平坦化膜300而形成。
[0034]本发明的纤维基板300所使用的纤维优选使用由合成树脂制造的纤维，所述准备步骤是准备由纤维制造的纤维基板的步骤，所述纤维基板可利用聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、尼龙、及丙烯酸中的任一种或两种以上的混合物来制造，可以利用由上述聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、尼龙、及丙烯酸等树脂制造的纤维，以织造及编织的方式来形成纤维基板。
[0035]优选地，使用所述合成树脂之中物理性质优异的聚对苯二甲酸乙二酯。
[0036]所述压延步骤是为实现所述纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性的步骤，优选地，利用两个以上的棍轴(roller)进行乳制，所述压延步骤在40°C _180°C、1.5_3.5Kg/cm2下进行以实现所述纤维基板的热稳定性、尺寸稳定性。
[0037]在进行所述压延步骤之后，对于所述纤维基板的热稳定性而言，在达到减重为0.2%时的温度为300°C以上，且热膨胀系数(CTE)为10-40ppm/°C的情况下，可以实现纤维基板的热稳定性、尺寸稳定性。
[0038]所述第一涂布步骤是涂布第一平坦化膜200以使经压延的所述纤维基板实现平坦化的步骤。
[0039]在所述第一涂布步骤中，可通过旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法等各种涂布方法来形成所述第一平坦化膜200，所述第一平坦化膜优选在80-160°C的低温下固化，以使所述第一平坦化膜牢固地粘附于纤维基板，并防止第一平坦化膜200发生裂纹，使第一平坦化膜流动而提高平滑性。
[0040]所述第一平坦化膜200的厚度优选为1-20 μ m，并且为了提高所述第二平坦化膜的平滑性，第一平坦化膜的表面Ra值优选为1-5 μ mo
[0041]优选地，所述第一平坦化膜200由硅烷、聚氨酯及聚碳酸酯等合成树脂中的任一种或两种以上的混合物来形成。
[0042]所述硅烷可使用甲硅烷、乙硅烷、丙硅烷及丁硅烷等硅烷类树脂中的任一种或两种以上的混合物。
[0043]另外，所述硅烷可使用具有环氧基、烷氧基、乙烯基、苯基、甲基丙烯酰氧基、氨基、氯硅烷基、氯丙基及巯基中的任一官能团的硅烷，以提高第一平坦化膜的功能性。
[0044]另外，所述第一平坦化膜可包括选自金属氧化物、非金属氧化物、氮化物及硝酸盐盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。所述无机物的混合物优选使用铝氧化物(例如Al2O3)、硅氧化物(例如S12)、硅氮化物(例如SiNx)、硅氮氧化物(例如S1N)、镁氧化物(例如MgO)、铟氧化物(例如In2O3)及镁氟化物(例如MgF2)等。
[0045]所述无机物的混合物形成为无机薄膜保护层，其可以减少由所述第一平坦化膜的缺陷如小孔(pinhole)、晶界(grain boundary)及空隙(crack)导致的表面粗糙度，作为额外功能还可以切断水分及氧气的透过通路以提高纤维基板的电阻特性。
[0046]所述等离子体处理步骤是对所述第一平坦化膜进行常温等离子体处理，以改变第一平坦化膜的表面张力，从而使涂布在第一平坦化膜上的第二平坦化膜牢固地粘附于第一平坦化膜的准备步骤，优选地，在常压下用常温等离子体在功率为50-300W、且氩气(Ar)/氮气(N2)、氩气(Ar)/氧气(O2)的气氛下进行。
[0047]优选地，在进行上述等离子体处理步骤之后，所述第一平坦化膜的表面接触角是10-60 度。
[0048]所述第二涂布步骤是进行在经所述等离子体处理的第一平坦化膜200上涂布第二平坦化膜300的步骤。
[0049]与所述第一涂布步骤类似地，所述第二涂布步骤可采用选自旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法等中的涂布方法来形成第二平坦化膜，第二平坦化膜优选在80-160°C的低温下进行固化，以提高第二平坦化膜的平滑性，并防止发生裂纹。
[0050]优选地，所述第二平坦化膜的厚度为0.01-1 μ m，为实现高平滑性，其表面的Ra值需为 10-500nm。
[0051]优选地，所述第二平坦化膜300由丙烯酸酯类聚合物、环氧类聚合物、胺类低聚物及乙烯类聚合物中的任一种或两种以上混合物的合成树脂形成。
[0052]所述第二平坦化膜可进一步包括吸光剂。所述吸光剂可由经光降解路径引发的自由基反应进行光固化，其特定混合比例可根据所需最终特性而改变。
[0053]另外，相比于现有的热固化方式，利用光固化方式可提高平坦化膜的表面能，也可反复形成平坦化膜，并能够期待其高度交联效果(highly crosslinking effect)，从而可提尚器件的稳定性及可靠性。
[0054]另外，与所述第一平坦化膜类似地，所述第二平坦化膜可包括金属氧化物、非金属氧化物、氮化物及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物，以形成无机薄膜保护层来提高电阻特性，所述无机物的混合物优选使用铝氧化物(例如Al2O3)、硅氧化物(例如S12)、硅氮化物(例如SiNx)、硅氮氧化物(例如S1N)、镁氧化物(例如MgO)、铟氧化物(例如In2O3)及镁氟化物(例如MgF2)等。
[0055]本发明的具有优异的热稳定性、尺寸稳定性及平滑度且用于柔性显示器的平坦化纤维基板适用于，包括电子、光子及光学组件或结构的电子器件，优选适用于显示器件(包括可穿戴显示器)、光伏电池及半导体器件的制造。
[0056]本发明中使用的术语“电子器件”是表示作为必要特征至少包括聚合物基板及电路的器件。另外，显示器件可包括导电聚合物。
[0057]优选地，显示器件是指电子发光(EL)器件(尤其是有机发光二极管(OLED))、电泳显示器(电子纸)、液晶显示器件或电润湿显示器件、光伏电池或半导体器件(例如，一般为有机场效应晶体管、薄膜晶体管及集成电路)。
[0058]所述有机发光显示器(OLED)器件是一种在各层包括电极的两层之间配置有电子发光层的显示器件，柔性显示器件可通过使所述有机发光显示器(OLED)器件连接至本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板并将它们与罩壳基板结合而形成。
[0059]另外，所述光伏电池是一种在各层包括电极的两层之间配置有导电聚合物层的器件，光伏电池器件可通过使所述光伏电池连接至本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板并将它们与罩壳基板结合而形成。
[0060]发明的效果
[0061]如上所述，本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法可通过纤维基板的平坦化工艺来提高平滑度、热稳定性及尺寸稳定性，并通过使用柔性显示器纤维基板代替现有的显示器基板材料，从而提高设计自由度以可适用于各种领域。
[0062]尤其，由于用于柔性显示器的平坦化纤维基板具有悬垂性，因而其柔性、弹性及皮肤触感优异，可适用于衣物类显示器。
[0063]另外，由于用于柔性显示器的平坦化纤维基板具有高平滑度，因此可防止在形成像素时由于高度差引起不完整性及短路。
【附图说明】
[0064]图1是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法的流程图。
[0065]图2是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的截面的剖视图。
[0066]图3是示出本发明的在进行平坦化步骤之前的纤维基板的截面的扫描电子显微照片。
[0067]图4是示出对本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的热膨胀系数进行分析的图表。
[0068]图5是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的热稳定性的图表。
[0069]图6是示出本发明的形成有第一平坦化膜的纤维基板的截面的扫描电子显微照片。
[0070]图7是示出本发明的形成有第二平坦化膜的纤维基板的截面的扫描电子显微照片。
[0071]图8是示出本发明的在用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有机发光器件的结构图。
[0072]图9是示出本发明的在用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有机发光器件的示意图。
【具体实施方式】
[0073]下面，对本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法的实施例进行详细说明。
[0074]实施例
[0075]对由聚对苯二甲酸乙二醋(polyethylene terephthalate)构成的纤维基板在150°C、3.0Kg/cm2下进行压延步骤。
[0076]在进行所述压延步骤之后，所测量的纤维基板的尺寸稳定性(CTE)如图3所示，热稳定性的结果如图4所示。
[0077]此后，进行第一涂布步骤，在该步骤中，在常温下在纤维基板的一个表面上以狭缝涂布法涂布具有环氧基官能团的硅烷，并在150°C的条件下固化干燥3分钟，在进行固化干燥时第一平坦化膜发生流动以填充纤维基板的凹凸处。
[0078]在形成第一平坦化膜之后，平滑度(Ra)值、薄膜厚度及扫描电子显微镜SEM截面信息如图5所示。
[0079]所述第一平坦化膜的常温等离子体处理步骤是在常压且在氩气7Lpm、氧气30scm的气氛下以200W的功率和30mm/s的速度进行的，进行处理之后的接触角不足60度。
[0080]在进行所述等离子体处理步骤之后进行第二涂布步骤，在第二涂布步骤中，以旋涂法涂布丙烯酸酯类的聚合物而形成第二平坦化膜，并在150°C的条件下固化干燥30分钟。在形成第二平坦化膜之后，平滑度(Ra)值、薄膜厚度及扫描电子显微镜SEM截面信息如图6所示。
[0081]在以上述方式制造的本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有机电致发光器件。所述有机电致发光器件的结构如图7所示，以上述方式制造的纤维基板与所述有机电致发光器件结合的实施例如图8所示。
[0082]<评价方法>
[0083]I)热膨胀系数(CTE)
[0084]以下述方式通过热膨胀系数(CTE)测量以上述方式制造的纤维基板的尺寸稳定性。通过热机械分析仪PE-TMA-7 (Perkin Elmer)进行有关温度、位移、力、本征变形(eigendeformat1n)、基准和温度调整的公知的步骤从而进行修正和检查。使用可拓分析夹(extens1n analysis clamp)对纤维进行检查。使用膨胀系数非常低的膨胀试样(石英)，得到可拓夹所需的基准。之后，通过使用CTE值公知的标准物质如纯铝箔而对CTE的精密度及准确度进行评价。
[0085]在原始薄膜试样中，使用尺寸为约12mm的分离夹将选自已知定向轴的试样安装在系统中，并对5mm宽度的试样施加75mN的外力。为确保一定的张力，根据纤维厚度的变化调整外力，以使纤维不会沿着定向轴弯曲。将试样长度相对于在23°C温度下测量的长度进行标准化。使试样稳定后，以5°C /min的速度从30°C加热至180°C。从下述式推导出CTE值(α ):
[0086]a = L/(LX (Τ2-Τ1))
[0087]在上述式中，L表示在(T2-T1)温度范围内所测量的试样长度的变化，L表示在23°C下测量的试样原始长度。
[0088]CTE值被认为直至Tg温度是具有可靠性的，所涉及的温度范围的上限接近但小于测试试样的Tg值，但在确保热稳定性的温度范围内可测量CTE值。可以用相对于温度23°C标准化的温度和试样长度的变化)的函数绘制数据。
[0089]2)热稳定性
[0090]热稳定性表示为利用TGA (Thermogravimetry analysis，热重分析)测量而减重0.2%时的温度。
[0091]〈评价结果〉
[0092]通过上文中的热稳定性、热膨胀系数及热稳定性的评价方法，对在所述实施例中制造的本发明的热膨胀系数及热稳定性进行评价。
[0093]如图4所示，可知本发明的热膨胀系数被评为30.63ppm/°C，就热稳定性而言，纤维基板的减重为0.2%时，温度为331.37°C。因此，可知本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板具有非常优异的热膨胀系数及热稳定性。
【主权项】
1.一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，包括: 准备由纤维制作的纤维基板的准备步骤； 用于实现所述纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性的压延步骤； 涂布第一平坦化膜以实现经压延的所述纤维基板的平坦化的第一涂布步骤； 对所述第一平坦化膜进行常温等离子体处理的等离子体处理步骤；以及 在经等离子体处理后的所述第一平坦化膜上涂布第二平坦化膜的第二涂布步骤。2.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述纤维基板由聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、尼龙、丙烯酸中的任一种或两种以上混合物形成。3.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述压延步骤在40°C -180°CU.5-3.5Kg/cm2的条件下进行。4.根据权利要求3所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 在进行所述压延步骤之后，对于所述纤维基板的热稳定性而言，在减重为0.2%时，温度为300°C以上，且热膨胀系数为10-40ppm/°C。5.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第一平坦化膜由硅烷、聚氨酯、聚碳酸酯中的任一种或两种以上的混合物形成。6.根据权利要求5所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述硅烷是甲硅烷、乙硅烷、丙硅烷、及丁硅烷中的任一种或两种以上的混合物。7.根据权利要求5所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述硅烷具有如下任一官能团:环氧基、烷氧基、乙烯基、苯基、甲基丙烯酰氧基、氨基、氯硅烷基、氯丙基、及巯基。8.根据权利要求5所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第一平坦化膜还包括选自金属氧化物、非金属氧化物、氮化物、及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。9.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第一涂布步骤利用旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法中的任一涂布方法形成第一平坦化膜，并在80-160°C的低温下固化。10.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第一平坦化膜的厚度是10-60 μ m，表面的Ra值是1_5 ym。11.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述等离子体处理步骤是用常温等离子体在常压且在氩气(Ar)、氧气(O2)的气氛下以50-300W的功率进行的。12.根据权利要求11所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 在进行所述等离子体处理步骤之后，所述第一平坦化膜的表面接触角是10-60度以下。13.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二平坦化膜由丙烯酸酯类聚合物、环氧类聚合物、胺类低聚物、乙烯类聚合物中的任一种或两种以上的混合物形成。14.根据权利要求13所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二平坦化膜还包括吸光剂。15.根据权利要求13所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二平坦化膜还包括金属氧化物、非金属氧化物、氮化物、及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。16.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二涂布步骤利用旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法中的任一涂布方法形成第二平坦化膜，并在80-160°C的低温下固化。17.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二平坦化膜的厚度是0.01-1 μ m，表面的Ra值是10_500nm。18.—种柔性显示设备，其特征在于， 所述柔性显示设备包括权利要求1至16中任一项所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板。
【专利摘要】本发明涉及一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，其包括：准备由纤维制作的纤维基板的准备步骤；用于实现所述纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性的压延步骤；涂布第一平坦化膜以实现经压延的所述纤维基板的平坦化的第一涂布步骤；对所述第一平坦化膜进行常温等离子体处理的等离子体处理步骤；以及在经等离子体处理后的所述第一平坦化膜上涂布第二平坦化膜的第二涂布步骤。
【IPC分类】G09F9/00
【公开号】CN104903947
【申请号】CN201280077741
【发明人】朴炳彻, 朴法, 柳光泽
【申请人】司隆科技有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2012年12月17日
【公告号】US20150314326, WO2014098275A1
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种用于柔性显示器的纤维基板的平坦化方法，其中柔性显示器以纤维组织为基底，尤其涉及一种，为确保器件的完整性而提高纤维基板的平滑度、热稳定性及尺寸稳定性的纤维基板的平坦化方法。
【背景技术】
[0002]柔性显示器是指利用如纸张一样薄且柔软的基板，可对其无损伤地实现折弯、折叠及卷曲的显示器。与平板显示器相同地，为形成柔性显示器的现有技术通过细分成利用液晶的LCD (Liquid crystal display)、利用有机发光材料的OLED (Organiclight-emitting d1de)、及 Epaper (Electronic papar)等进行石开宄开发。
[0003]当前，柔性显示器使用塑胶原料、薄膜等作为基板，因此，具有重量轻、厚度薄、以及受到冲击也不会碎的优点。现考虑将柔性显示器作为移动设备用显示器来使用，并且还可变形成弯曲形状的显示器，因此，该柔性显示器的用途已扩大至生活用品或汽车领域等，并且将会成为需求暴增的未来有前景的产业。
[0004]现有技术中，英国Eleksen公司引入了由纤维材料制得的可卷曲键盘作为输入设备，美国佐治亚理工学院(Georgia Institute of Technology)的聚合物、纺织及纤维工程学院(school of polymer,Textile&Fiber Engineerinng)将利用光学、导电纤维制造出实现生理信号监测及信息处理的智能衬衫，并作为主要研发(R&D)成果。
[0005]但是，使用塑胶原料、薄膜作为基板时，其可适用的领域有限，并且只能单向折弯的塑胶原料、薄膜基板不具有悬垂性(Drape)，从而存在无法应用柔性的缺点。因此，现对由可最大限度地应用柔性显示器的优点的纤维基板所制造的柔性显示器进行研宄。
[0006]用于制作显示器件的的基板的表面需要光滑且平滑，以防止待施加的涂层例如电极导电涂层的完整性。
[0007]但是，从平滑度、热稳定性及尺寸稳定性方面来看，现有的纤维基板还不足以用作显示器用基板。
【发明内容】
[0008]技术问题
[0009]本发明是为了解决上述现有技术中存在的问题而提出的，本发明的目的在于提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其中，该平坦化纤维基板确保用纤维制作的纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性，并且通过平坦化工艺提高平滑度，从而能够获得器件的完整性。
[0010]另外，本发明的目的在于提供一种使用悬垂性优异的纤维原料，借由悬垂性来实现优异的柔性及皮肤触感的柔性显示设备。
[0011]技术方案
[0012]本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，包括:准备由纤维制作的纤维基板的准备步骤；用于实现所述纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性的压延(Calendering)步骤；涂布第一平坦化膜以实现经压延的所述纤维基板的平坦化的第一涂布步骤；对所述第一平坦化膜进行常温等离子体处理的等离子体处理步骤；以及在经等离子体处理的所述第一平坦化膜上涂布第二平坦化膜的第二涂布步骤。
[0013]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述纤维基板由聚对苯二甲酸乙二醋(polyethylene terephthalate)、聚乙稀(polyethylene)、尼龙(nylon)、丙稀酸(acrylic)中的任一种或两种以上混合物形成。
[0014]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述压延步骤在40°C -180°CU.5-3.5Kg/cm2的条件下进行。
[0015]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，在进行所述压延步骤之后，对于所述纤维基板的热稳定性而言，在减重为0.2%时的温度为300°C以上，且热膨胀系数(CTE)为10-40ppm/°C。
[0016]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第一平坦化膜由娃烧(silane)、聚氨醋(polyurethane)、聚碳酸醋(polycarbonate)中的任一种或两种以上的混合物形成。
[0017]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述娃烧是甲娃烧(monosilane, SiH4)、乙娃烧(disilane，Si2H6)、丙娃烧(torisilane, Si3H8)、及丁娃烧(tetrasilane，Si4H10)中的任一种或两种以上的混合物。
[0018]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述娃烧具有如下任一官能团:环氧基(epoxy)、烧氧基(alkoxy)、乙稀基(vinyl)、苯基(phenyl)、甲基丙稀酰氧基(methacryloxy)、氨基(amino)、氯娃烧基(chlorosilane)、氯丙基(chloropropyl)、以及巯基(mercapto)。
[0019]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第一平坦化膜可进一步包括选自金属氧化物、非金属氧化物、氮化物、及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。
[0020]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第一涂布步骤利用旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法中的任一方法形成第一平坦化膜，并在80-160°C的低温下固化。
[0021]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第一平坦化膜的厚度是1-20 μ m，表面的Ra值是1-5μπι。
[0022]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述等离子体处理步骤是用常温等离子体在常压且在氩气(Ar)、氧气(O2)气氛下以功率为50-300W进行的。
[0023]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，在进行所述等离子体处理步骤之后，所述第一平坦化膜的表面接触角在10-60度以下。
[0024]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二平坦化膜由丙烯酸酯类聚合物、环氧类聚合物、胺类低聚物、乙烯类聚合物中的任一种或两种以上的混合物形成。
[0025]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二平坦化膜进一步包括吸光剂。
[0026]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二平坦化膜进一步包括金属氧化物、非金属氧化物、氮化物、及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。
[0027]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二涂布步骤利用旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法中的任一方法形成第二平坦化膜，并在80_160°C的低温下固化。
[0028]另外，本发明提供一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，所述第二平坦化膜的厚度是0.01-1 μ m，表面的Ra值是10_500nm。
[0029]另外，本发明提供一种柔性显示设备，其特征在于，所述柔性显示设备包括用于所述柔性显示器的平坦化纤维基板。
[0030]下面，参照附图对本发明的优选实施例进行详细说明。首先，应注意，在附图中相同的构成要素或部件尽可能地用相同的附图标记标注。在对本发明进行说明时，为了不使本发明的要点模糊，省略相关公知功能或结构的具体说明。
[0031]本说明书中所使用的修饰程度的术语“约”、“实质上”等是指制造及物质所固有的容许误差的数值或接近该容许误差的数值，这是为了防止不良侵权者不正当地利用本发明中涉及的为助于理解所记载的准确数值或绝对数值的内容。
[0032]图1是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法的工艺流程图，图2是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的截面的剖视图，图3是示出本发明的在进行平坦化步骤之前的纤维基板的截面的扫描电子显微照片，图4是示出对本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的热膨胀系数(CTE)进行分析的图表，图5是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的热稳定性的图表，图6是示出本发明的形成有第一平坦化膜的纤维基板的截面的扫描电子显微照片，图7是示出本发明的形成有 第二平坦化膜的纤维基板的截面的扫描电子显微照片，图8是示出本发明的在用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有机发光器件的结构图，图9是示出本发明的在用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有有机发光器件的示意图。
[0033]本发明涉及使用纤维制造的用于柔性显示器的纤维基板，如图1所示，本发明通过准备步骤、压延步骤、第一涂布步骤、等离子体处理步骤、及第二涂布步骤而制造；如图2所示，柔性显示器的平坦化纤维基板包括纤维基板100、第一平坦化膜200及第二平坦化膜300而形成。
[0034]本发明的纤维基板300所使用的纤维优选使用由合成树脂制造的纤维，所述准备步骤是准备由纤维制造的纤维基板的步骤，所述纤维基板可利用聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、尼龙、及丙烯酸中的任一种或两种以上的混合物来制造，可以利用由上述聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、尼龙、及丙烯酸等树脂制造的纤维，以织造及编织的方式来形成纤维基板。
[0035]优选地，使用所述合成树脂之中物理性质优异的聚对苯二甲酸乙二酯。
[0036]所述压延步骤是为实现所述纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性的步骤，优选地，利用两个以上的棍轴(roller)进行乳制，所述压延步骤在40°C _180°C、1.5_3.5Kg/cm2下进行以实现所述纤维基板的热稳定性、尺寸稳定性。
[0037]在进行所述压延步骤之后，对于所述纤维基板的热稳定性而言，在达到减重为0.2%时的温度为300°C以上，且热膨胀系数(CTE)为10-40ppm/°C的情况下，可以实现纤维基板的热稳定性、尺寸稳定性。
[0038]所述第一涂布步骤是涂布第一平坦化膜200以使经压延的所述纤维基板实现平坦化的步骤。
[0039]在所述第一涂布步骤中，可通过旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法等各种涂布方法来形成所述第一平坦化膜200，所述第一平坦化膜优选在80-160°C的低温下固化，以使所述第一平坦化膜牢固地粘附于纤维基板，并防止第一平坦化膜200发生裂纹，使第一平坦化膜流动而提高平滑性。
[0040]所述第一平坦化膜200的厚度优选为1-20 μ m，并且为了提高所述第二平坦化膜的平滑性，第一平坦化膜的表面Ra值优选为1-5 μ mo
[0041]优选地，所述第一平坦化膜200由硅烷、聚氨酯及聚碳酸酯等合成树脂中的任一种或两种以上的混合物来形成。
[0042]所述硅烷可使用甲硅烷、乙硅烷、丙硅烷及丁硅烷等硅烷类树脂中的任一种或两种以上的混合物。
[0043]另外，所述硅烷可使用具有环氧基、烷氧基、乙烯基、苯基、甲基丙烯酰氧基、氨基、氯硅烷基、氯丙基及巯基中的任一官能团的硅烷，以提高第一平坦化膜的功能性。
[0044]另外，所述第一平坦化膜可包括选自金属氧化物、非金属氧化物、氮化物及硝酸盐盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。所述无机物的混合物优选使用铝氧化物(例如Al2O3)、硅氧化物(例如S12)、硅氮化物(例如SiNx)、硅氮氧化物(例如S1N)、镁氧化物(例如MgO)、铟氧化物(例如In2O3)及镁氟化物(例如MgF2)等。
[0045]所述无机物的混合物形成为无机薄膜保护层，其可以减少由所述第一平坦化膜的缺陷如小孔(pinhole)、晶界(grain boundary)及空隙(crack)导致的表面粗糙度，作为额外功能还可以切断水分及氧气的透过通路以提高纤维基板的电阻特性。
[0046]所述等离子体处理步骤是对所述第一平坦化膜进行常温等离子体处理，以改变第一平坦化膜的表面张力，从而使涂布在第一平坦化膜上的第二平坦化膜牢固地粘附于第一平坦化膜的准备步骤，优选地，在常压下用常温等离子体在功率为50-300W、且氩气(Ar)/氮气(N2)、氩气(Ar)/氧气(O2)的气氛下进行。
[0047]优选地，在进行上述等离子体处理步骤之后，所述第一平坦化膜的表面接触角是10-60 度。
[0048]所述第二涂布步骤是进行在经所述等离子体处理的第一平坦化膜200上涂布第二平坦化膜300的步骤。
[0049]与所述第一涂布步骤类似地，所述第二涂布步骤可采用选自旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法等中的涂布方法来形成第二平坦化膜，第二平坦化膜优选在80-160°C的低温下进行固化，以提高第二平坦化膜的平滑性，并防止发生裂纹。
[0050]优选地，所述第二平坦化膜的厚度为0.01-1 μ m，为实现高平滑性，其表面的Ra值需为 10-500nm。
[0051]优选地，所述第二平坦化膜300由丙烯酸酯类聚合物、环氧类聚合物、胺类低聚物及乙烯类聚合物中的任一种或两种以上混合物的合成树脂形成。
[0052]所述第二平坦化膜可进一步包括吸光剂。所述吸光剂可由经光降解路径引发的自由基反应进行光固化，其特定混合比例可根据所需最终特性而改变。
[0053]另外，相比于现有的热固化方式，利用光固化方式可提高平坦化膜的表面能，也可反复形成平坦化膜，并能够期待其高度交联效果(highly crosslinking effect)，从而可提尚器件的稳定性及可靠性。
[0054]另外，与所述第一平坦化膜类似地，所述第二平坦化膜可包括金属氧化物、非金属氧化物、氮化物及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物，以形成无机薄膜保护层来提高电阻特性，所述无机物的混合物优选使用铝氧化物(例如Al2O3)、硅氧化物(例如S12)、硅氮化物(例如SiNx)、硅氮氧化物(例如S1N)、镁氧化物(例如MgO)、铟氧化物(例如In2O3)及镁氟化物(例如MgF2)等。
[0055]本发明的具有优异的热稳定性、尺寸稳定性及平滑度且用于柔性显示器的平坦化纤维基板适用于，包括电子、光子及光学组件或结构的电子器件，优选适用于显示器件(包括可穿戴显示器)、光伏电池及半导体器件的制造。
[0056]本发明中使用的术语“电子器件”是表示作为必要特征至少包括聚合物基板及电路的器件。另外，显示器件可包括导电聚合物。
[0057]优选地，显示器件是指电子发光(EL)器件(尤其是有机发光二极管(OLED))、电泳显示器(电子纸)、液晶显示器件或电润湿显示器件、光伏电池或半导体器件(例如，一般为有机场效应晶体管、薄膜晶体管及集成电路)。
[0058]所述有机发光显示器(OLED)器件是一种在各层包括电极的两层之间配置有电子发光层的显示器件，柔性显示器件可通过使所述有机发光显示器(OLED)器件连接至本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板并将它们与罩壳基板结合而形成。
[0059]另外，所述光伏电池是一种在各层包括电极的两层之间配置有导电聚合物层的器件，光伏电池器件可通过使所述光伏电池连接至本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板并将它们与罩壳基板结合而形成。
[0060]发明的效果
[0061]如上所述，本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法可通过纤维基板的平坦化工艺来提高平滑度、热稳定性及尺寸稳定性，并通过使用柔性显示器纤维基板代替现有的显示器基板材料，从而提高设计自由度以可适用于各种领域。
[0062]尤其，由于用于柔性显示器的平坦化纤维基板具有悬垂性，因而其柔性、弹性及皮肤触感优异，可适用于衣物类显示器。
[0063]另外，由于用于柔性显示器的平坦化纤维基板具有高平滑度，因此可防止在形成像素时由于高度差引起不完整性及短路。
【附图说明】
[0064]图1是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法的流程图。
[0065]图2是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的截面的剖视图。
[0066]图3是示出本发明的在进行平坦化步骤之前的纤维基板的截面的扫描电子显微照片。
[0067]图4是示出对本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的热膨胀系数进行分析的图表。
[0068]图5是示出本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的热稳定性的图表。
[0069]图6是示出本发明的形成有第一平坦化膜的纤维基板的截面的扫描电子显微照片。
[0070]图7是示出本发明的形成有第二平坦化膜的纤维基板的截面的扫描电子显微照片。
[0071]图8是示出本发明的在用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有机发光器件的结构图。
[0072]图9是示出本发明的在用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有机发光器件的示意图。
【具体实施方式】
[0073]下面，对本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法的实施例进行详细说明。
[0074]实施例
[0075]对由聚对苯二甲酸乙二醋(polyethylene terephthalate)构成的纤维基板在150°C、3.0Kg/cm2下进行压延步骤。
[0076]在进行所述压延步骤之后，所测量的纤维基板的尺寸稳定性(CTE)如图3所示，热稳定性的结果如图4所示。
[0077]此后，进行第一涂布步骤，在该步骤中，在常温下在纤维基板的一个表面上以狭缝涂布法涂布具有环氧基官能团的硅烷，并在150°C的条件下固化干燥3分钟，在进行固化干燥时第一平坦化膜发生流动以填充纤维基板的凹凸处。
[0078]在形成第一平坦化膜之后，平滑度(Ra)值、薄膜厚度及扫描电子显微镜SEM截面信息如图5所示。
[0079]所述第一平坦化膜的常温等离子体处理步骤是在常压且在氩气7Lpm、氧气30scm的气氛下以200W的功率和30mm/s的速度进行的，进行处理之后的接触角不足60度。
[0080]在进行所述等离子体处理步骤之后进行第二涂布步骤，在第二涂布步骤中，以旋涂法涂布丙烯酸酯类的聚合物而形成第二平坦化膜，并在150°C的条件下固化干燥30分钟。在形成第二平坦化膜之后，平滑度(Ra)值、薄膜厚度及扫描电子显微镜SEM截面信息如图6所示。
[0081]在以上述方式制造的本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板上形成有机电致发光器件。所述有机电致发光器件的结构如图7所示，以上述方式制造的纤维基板与所述有机电致发光器件结合的实施例如图8所示。
[0082]<评价方法>
[0083]I)热膨胀系数(CTE)
[0084]以下述方式通过热膨胀系数(CTE)测量以上述方式制造的纤维基板的尺寸稳定性。通过热机械分析仪PE-TMA-7 (Perkin Elmer)进行有关温度、位移、力、本征变形(eigendeformat1n)、基准和温度调整的公知的步骤从而进行修正和检查。使用可拓分析夹(extens1n analysis clamp)对纤维进行检查。使用膨胀系数非常低的膨胀试样(石英)，得到可拓夹所需的基准。之后，通过使用CTE值公知的标准物质如纯铝箔而对CTE的精密度及准确度进行评价。
[0085]在原始薄膜试样中，使用尺寸为约12mm的分离夹将选自已知定向轴的试样安装在系统中，并对5mm宽度的试样施加75mN的外力。为确保一定的张力，根据纤维厚度的变化调整外力，以使纤维不会沿着定向轴弯曲。将试样长度相对于在23°C温度下测量的长度进行标准化。使试样稳定后，以5°C /min的速度从30°C加热至180°C。从下述式推导出CTE值(α ):
[0086]a = L/(LX (Τ2-Τ1))
[0087]在上述式中，L表示在(T2-T1)温度范围内所测量的试样长度的变化，L表示在23°C下测量的试样原始长度。
[0088]CTE值被认为直至Tg温度是具有可靠性的，所涉及的温度范围的上限接近但小于测试试样的Tg值，但在确保热稳定性的温度范围内可测量CTE值。可以用相对于温度23°C标准化的温度和试样长度的变化)的函数绘制数据。
[0089]2)热稳定性
[0090]热稳定性表示为利用TGA (Thermogravimetry analysis，热重分析)测量而减重0.2%时的温度。
[0091]〈评价结果〉
[0092]通过上文中的热稳定性、热膨胀系数及热稳定性的评价方法，对在所述实施例中制造的本发明的热膨胀系数及热稳定性进行评价。
[0093]如图4所示，可知本发明的热膨胀系数被评为30.63ppm/°C，就热稳定性而言，纤维基板的减重为0.2%时，温度为331.37°C。因此，可知本发明的用于柔性显示器的平坦化纤维基板具有非常优异的热膨胀系数及热稳定性。
【主权项】
1.一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，包括: 准备由纤维制作的纤维基板的准备步骤； 用于实现所述纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性的压延步骤； 涂布第一平坦化膜以实现经压延的所述纤维基板的平坦化的第一涂布步骤； 对所述第一平坦化膜进行常温等离子体处理的等离子体处理步骤；以及 在经等离子体处理后的所述第一平坦化膜上涂布第二平坦化膜的第二涂布步骤。2.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述纤维基板由聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯、尼龙、丙烯酸中的任一种或两种以上混合物形成。3.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述压延步骤在40°C -180°CU.5-3.5Kg/cm2的条件下进行。4.根据权利要求3所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 在进行所述压延步骤之后，对于所述纤维基板的热稳定性而言，在减重为0.2%时，温度为300°C以上，且热膨胀系数为10-40ppm/°C。5.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第一平坦化膜由硅烷、聚氨酯、聚碳酸酯中的任一种或两种以上的混合物形成。6.根据权利要求5所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述硅烷是甲硅烷、乙硅烷、丙硅烷、及丁硅烷中的任一种或两种以上的混合物。7.根据权利要求5所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述硅烷具有如下任一官能团:环氧基、烷氧基、乙烯基、苯基、甲基丙烯酰氧基、氨基、氯硅烷基、氯丙基、及巯基。8.根据权利要求5所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第一平坦化膜还包括选自金属氧化物、非金属氧化物、氮化物、及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。9.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第一涂布步骤利用旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法中的任一涂布方法形成第一平坦化膜，并在80-160°C的低温下固化。10.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第一平坦化膜的厚度是10-60 μ m，表面的Ra值是1_5 ym。11.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述等离子体处理步骤是用常温等离子体在常压且在氩气(Ar)、氧气(O2)的气氛下以50-300W的功率进行的。12.根据权利要求11所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 在进行所述等离子体处理步骤之后，所述第一平坦化膜的表面接触角是10-60度以下。13.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二平坦化膜由丙烯酸酯类聚合物、环氧类聚合物、胺类低聚物、乙烯类聚合物中的任一种或两种以上的混合物形成。14.根据权利要求13所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二平坦化膜还包括吸光剂。15.根据权利要求13所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二平坦化膜还包括金属氧化物、非金属氧化物、氮化物、及硝酸盐中的任一种或两种以上无机物的混合物。16.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二涂布步骤利用旋涂法、狭缝式涂布法及棒涂法中的任一涂布方法形成第二平坦化膜，并在80-160°C的低温下固化。17.根据权利要求1所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于， 所述第二平坦化膜的厚度是0.01-1 μ m，表面的Ra值是10_500nm。18.—种柔性显示设备，其特征在于， 所述柔性显示设备包括权利要求1至16中任一项所述的用于柔性显示器的平坦化纤维基板。
【专利摘要】本发明涉及一种用于柔性显示器的平坦化纤维基板的制造方法，其特征在于，其包括：准备由纤维制作的纤维基板的准备步骤；用于实现所述纤维基板的热稳定性及尺寸稳定性的压延步骤；涂布第一平坦化膜以实现经压延的所述纤维基板的平坦化的第一涂布步骤；对所述第一平坦化膜进行常温等离子体处理的等离子体处理步骤；以及在经等离子体处理后的所述第一平坦化膜上涂布第二平坦化膜的第二涂布步骤。
【IPC分类】G09F9/00
【公开号】CN104903947
【申请号】CN201280077741
【发明人】朴炳彻, 朴法, 柳光泽
【申请人】司隆科技有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2012年12月17日
【公告号】US20150314326, WO2014098275A1
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