用于形成减小的室空间的装置，和用于定位多层体的方法
专利名称：用于形成减小的室空间的装置，和用于定位多层体的方法
技术领域：
本发明涉及一种设备，该设备用于定位至少两个物体，特别是至少两个多层体(各自具有至少一个待加工表面)，其中该用于容纳至少两个物体(特别是多层体)的设备是这样配 置的，即，使得该物体特别是多层体彼此相对，其中待加工表面彼此背对背，以使得该至少两个物体能够作为多层体布置在加工系统中加工，特别是硒化。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备是这样配置的，即，它可以布置或者被布置在具有室空间的加工系统的加工室或者加工隧道中和/或用于形成减小的室空间的装置中，优选布置在加工盒中(该加工盒具有底面元件，覆盖元件，和优选具有侧壁元件)或者布置在加工罩中(该加工罩特别被配置用于固定保持在加工系统中)，和/或在运载元件之上或者与之相接(该运载元件用于依靠传输设备将多层体布置传输到加工系统中和从其中传输出来)。根据一种实施方案中，该用于定位至少两个物体的设备是这样配置的，即，至少一部分的该设备形成了加工盒的至少一部分，特别至少部分构成了加工盒的侧壁元件。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备是这样配置的，即，该多层体在使用时彼此夹层状叠置，并因此形成该多层体布置的下多层体和上多层体。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备是这样配置的，即，该具有彼此背对背的待加工表面的多层体可以彼此叠置来定位。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备具有至少一个间隔元件，其中该间隔元件可以如此至少部分地置于两个多层体之间，以使得它们能够彼此间隔开定位。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备具有至少一个第一置放元件，其可以或者已经位于加工室的室底面和/或室侧壁上和/或加工盒的底面元件和/或侧壁元件上和/或位于运载元件上或者与之邻接(该运载元件用于依靠传输设备将多层体布置传输到加工系统中和从中传输出来)，并且该第一置放元件配置成这样，即，使得下多层体能够优选在它的边缘区域至少部分布置于该第一置放元件上，特别可以置放在置放元件上。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备具有至少一个第二置放元件，其可以或者已经位于加工室的室底面和/或室侧壁上和/或加工盒的底面元件和/或侧壁元件上和/或位于第一置放元件上或者与之邻接和/或位于运载元件上或者与之邻接(该运载元件用于依靠传输设备将多层体布置传输到加工系统中和从其中传输出来)，其中该第二置放元件配置成这样，即，使得上多层体能够优选在它的边缘区域至少部分布置在该第二置放元件上，特别可以置放于置放元件上。根据一种实施方案，一方面，提供该第一置放元件和/或第二置放元件，在每种情况中作为框架元件，优选作为复制了该多层体的轮廓的矩形或者正方形框架元件，以使得该多层体能够优选在它们的边缘区域至少部分布置于各自的框架元件上，特别是可以置放于该框架元件上，和/或另一方面，该第一置放元件和/或该第二置放元件每个配置为在使用中，在该多层体的延伸平面上彼此相对的两个框架板条元件，以使得该多层体，优选在它们的边缘区域上，优选在它们的纵向侧，能够至少部分地布置于该框架板条元件上，特别能够置放于该框架板条元件上。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备包括中间元件，其可以位于第一置放元件和第二置放元件之间，以使得第二置放元件能够位于第一置放元件上。根据一种实施方案，第一置放元件和/或第二置放元件各自具有至少一个横向连接元件，其用来连接在该多层体的延伸平面上彼此相对的各自的框架元件的区域或者在使用中彼此相对的框架板条元件的区域，使得能够另外支承该多层体以防止弯曲。根据一种实施方案，该横向连接元件具有至少一个第一支承元件，优选点支承元件，特别优选球形元件，以使得该多层体可以经由支承元件置于横向连接元件上或者与之邻接，其中该支承元件是这样配置的，即，它具有与各自的至少一个框架元件和/或框架板条元件相同的高度。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备具有至少一个第二支承元件，优选点支承元件，特别优选球形元件，其提供在加工室的室底面上和/或加工盒的底面元件上，来支承该多层体布置。根据一种实施方案，各自的框架元件和/或框架板条元件具有至少两个支承元件，以使得该多层体可以置于该支承元件上或者邻接于该支承元件。
本发明涉及一种多层体布置，其包含至少两个各自具有至少一个待加工表面的多层体，和至少一个用于定位该至少两个多层体的设备，如上所述。本发明涉及一种多层体布置，其包含至少两个各自具有至少一个待加工表面的多层体，其中该至少两个多层体设计成使得它们彼此相对，并且待加工表面彼此背对背。本发明涉及一种用于加工，特别是硒化至少两个物体，特别是至少两个多层体的系统，每个多层体具有至少一个待加工表面，该系统包含至少一个具有室空间的加工室，和用于定位该至少两个物体的设备，如上所述。有利地，该系统具有用于将加工气体供给到室空间和/或加工空间中和/或从其中排出的气体供给元件和/或气体排出元件。本发明涉及一种用于定位至少两个物体，特别是至少两个多层体(各自具有至少一个待加工表面)的方法，该方法依靠用于定位至少两个物体，特别是多层体的设备来进行，该设备经配置来容纳该至少两个物体，特别是该多层体，其中该方法包含下面的步骤将该设备布置在为其提供的位置上；将两个物体，特别是多层体布置到该设备上，以使得该物体，特别是多层体彼此相对，其中待加工表面彼此背对背，以使得该至少两个物体能够作为多层体布置在加工系统中进行加工，特别是硒化。本发明涉及一种用于定位至少两个物体，特别是至少两个多层体(各自具有至少一个待加工表面)的方法，其中该方法包含下面的步骤如此布置两个物体，特别是多层体，以使得该物体，特别是多层体彼此相对，并且待加工表面彼此背对背，以使得该至少两个物体能够作为多层体布置在加工系统中进行加工，特别是硒化。附图
标记列表
10加工系统
11加工室，加工隧道
12室空间
13入口门
14出口门15室盖子
16室底面
17(一个或多个)室(侧)壁
18电磁辐射源
20a形成减小的室空间的装置，加工盒
20b形成减小的室空间的装置，加工罩 21加工空间
22覆盖元件
23底面元件
24(一个或多个)侧壁元件
25运载元件，传送器28a布置，多层体布置28b布置，多层体布置28c布置，多层体布置28d布置，多层体布置28e布置，多层体布置28f布置，多层体布置28g布置，多层体布置30a用于定位的设备30b用于定位的设备30c用于定位的设备30d用于定位的设备30e用于定位的设备30f用于定位的设备30g用于定位的设备131第一置放元件131a框架板条元件
131b置放区域
131c框架板条元件
131d置放区域
231第一置放元件
231a框架板条元件
231b置放区域
231c框架板条元件
231d置放区域
331第一置放元件
331a框架板条元件
331b置放区域
331c框架板条元件331d置放区域431 第一置放元件
431a框架板条元件
431b置放区域431c 框架板条元件
431d置放区域
631第一置放元件631a框架板条元件631b置放区域
·631c框架板条元件
631d置放区域
731第一置放元件731a框架板条元件731b置放区域
731c框架板条元件
731d置放区域
632第二置放元件632a框架板条元件632b置放区域
632c框架板条元件
632d置放区域
732第二置放元件732a框架板条元件732b置放区域
732c框架板条元件
732d置放区域
33横向连接元件
34横向连接元件
35支承元件35’ 支承元件
36支承元件36’ 支承元件
37中间元件
37a中间元件的板条元件
37b中间元件的板条元件
38间隔元件
38a间隔元件的板条元件
38b间隔元件的板条元件
40下多层体,基材41(一个或多个)边缘区域
44待加工表面
45(前体-)涂层
50上多层体，基材
51(一个或多个)边缘区域
54待加工表面
55(前体_)涂层60布置的开口区域 B 入口门，出口门的移动方向。
权利要求
1.用于形成减小的室空间的装置(20a，20b)，例如加工盒(20a)或者加工罩(20b)，其具有用于定位至少两个各自具有至少一个待加工表面(44，54)的多层体(40，50)的设备(30a，30b，30c，30d，30e，30f，30g)，其中该设备(30a_30g)如此配置使得所述多层体(40，.50)彼此相对，其中所述待加工表面(44，54)彼此背对背，以使得该多层体(40，50)能够作为多层体布置(28a，28b，28c，28d，28e，28f，28g)在加工系统(10)中加工。
2.根据权利要求I的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，50)的设备(30a-30g)的至少一部分形成了该装置的至少一部分。
3.根据权利要求I或者2之一的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，.50)的设备(30a-30g)如此配置使得该多层体(40，50)在使用时彼此夹层状叠置，和以此方式形成所述多层体布置(28a-28g)的下多层体(40)和上多层体(50)。
4.根据权利要求3的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，50)的设备(30a-30g)具有至少一个第一置放元件(131，231，331，431，631，731)，其能够或者已经布置在加工盒(20a)的底面元件(23)上和/或侧壁元件(24)上，其中所述第一置放元件(131，231，331，431，631，731)如此配置使得下多层体(40)能够至少部分地置放在第一置放元件(131，231，331，431，631，731)上。
5.根据权利要求4的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，50)的设备(30a-30g)具有至少一个第二置放元件￠32,732)，其能够或者已经布置在加工盒(20a)的底面元件(23)上和/或侧壁元件(24)上和/或在第一置放元件(131，231，331，431，631，.731)上或者邻接该第一置放元件，其中所述第二置放元件(632，732)如此配置使得上多层体(50)能够至少部分地置放在该第二置放元件(632，732)上。
6.根据权利要求4或者5之一的装置(20a，20b)，其中一方面，所述第一置放元件(131，231，331，431，631，731)和/或所述第二置放元件(632，732)在每种情况中是作为框架元件来提供的，以使得该多层体(40，50)能够至少部分地布置在各自的框架元件上，和/或另一方面，将该第一置放元件(131，231，331，431，631，731)和/或该第二置放元件(632，.732)设计成在每一情况下在多层体(40，50)的延伸平面中在使用中彼此相对的两个框架板条兀件(131a, 131c, 23Ia, 23Ic, 33Ia, 33Ic,43Ia,43Ic,63Ia,63lc,731a,731c,632a,.632c，732a，732c)，以使得该多层体(40，50)能够至少部分地布置在该框架板条元件上。
7.根据权利要求5或者6之一的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，.50)的设备(30a-30g)包括中间元件(37)，该中间元件能够布置在第一置放元件(131，231，.331,431,631,731)和第二置放元件(632,732)之间，以使得该第二置放元件(632,732)能够安放在该第一置放元件(131，231，331，431，631，731)上。
8.根据权利要求4-7之一的装置(20a，20b)，其中所述第一置放元件(131，231，331，.431，631，731)和/或所述第二置放元件(632，732)各自具有至少一个横向连接元件(33，.34)，该横向连接元件(33，34)用于连接各框架元件的在该多层体(40，50)的延伸平面中彼此相对的区域或者在使用中彼此相对的框架板条元件(131a，131c，231a，231c，331a，331c，.431a, 431c, 631a, 631c, 731a, 731c, 632a, 632c, 732a, 732c)，以使得一个或多个所述多层体(40,50)能够得到另外支承以防止弯曲。
9.根据权利要求8的装置(20a，20b)，其中所述横向连接元件(33，34)具有至少一个第一支承元件(35，35’)，以使得该多层体(40，50)能够经由所述支承元件(35，35’)置放到所述横向连接元件(33,34)上或者邻接于所述横向连接元件(33,34),其中所述支承元件(35，35’)如此配置它具有与各自的至少一个框架元件和/或所述框架板条元件(131a，131c, 23la, 231c, 33la, 331c, 43la, 431c, 63la, 631c, 731a, 731c, 632a, 632c, 732a, 732c)相同的高度。
10.根据权利要求1-9之一的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体的设备(30a，30b, 30c, 30d, 30e, 30f，30g)具有至少一个第二支承元件(36，36’)，该支承元件提供在加工盒(20a)的底面元件(23)上，以支承所述多层体布置(28a-28g)。
11.根据权利要求6-10之一的装置(20a，20b)，其中各个框架元件和/或框架板条兀件(131a, 131c, 23Ia, 23Ic, 33Ia, 33Ic,43Ia,43Ic,63Ia,63lc,731a,731c,632a,632c,732a, 732c)具有至少两个支承元件(35，35’)，以使得该多层体(40，50)能够置放到该支承元件(35，35，)上或者邻接于该支承元件(35，35’)。
12.根据权利要求1-11之一的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，50)的设备(30a-30g)具有至少一个间隔元件(38)，其中所述间隔元件(38)能够如此至少部分地布置在所述两个多层体(40，50)之间，以使得它们能够彼此间隔地定位。
13.用于加工至少两个各自具有至少一个待加工表面(44，54)的多层体(40，50)的系统(10)，该系统包含至少一个具有室空间(12)的加工室(11)和至少一个根据权利要求1-12之一的用于形成减小的室空间的装置(20a，20b)，该装置(20a，20b)具有用于定位所述至少两个多层体的设备(30a-30g)。
14.根据权利要求13的系统(10)，其具有用于将加工气体供给到所述室空间中和/或从其中排出的气体供给元件和/或气体排出元件。
15.用于定位至少两个各自具有至少一个待加工表面(44，54)的多层体(40，50)的方法，其中所述两个多层体(40，50)如此布置在用于形成减小的室空间的装置例如加工盒(20a)或者加工罩(20b)中，以使得多层体(40，50)彼此相对，其中待加工表面(44，54)彼此背对背，以使得所述至少两个物体能够作为多层体布置(28a-28g)在加工系统(10)中加工。
16.根据权利要求1-12之一的用于形成减小的室空间的装置，以及根据权利要求15的方法用于生产薄膜太阳能电池或者薄膜太阳能电池模块，特别是CIS(CIGSSe)-薄膜太阳能电池或者CIS(CIGSSe)-薄膜太阳能电池模块的用途，其中特别地，每个多层体设计为玻璃板的形式，并且至少涂覆有元素Cu、In或者Cu、In、Ga或者Cu、In、Ga、硒,用于硒化和/或硫化黄铜矿薄膜半导体。
全文摘要
本发明涉及一种形成减小的室空间的装置，例如加工盒或者加工罩，其具有用于定位至少两个各自具有至少一个待加工表面的多层体的装置，其中该设备如此配置使得该多层体彼此相对，其中该待加工表面彼此背对背，以使得该多层体能够作为多层体布置在加工系统中加工。另外涉及一种定位至少两个每个具有至少一个待加工表面的多层体的方法，其中所述两个多层体布置在这样的形成减小的室空间的装置中，以使得多层体彼此相对，其中该待加工表面彼此背对背，以使得该至少两个物体能够作为多层体布置在加工系统中加工。
文档编号H01L21/673GK102763208SQ201180010715
公开日2012年10月31日 申请日期2011年2月22日 优先权日2010年2月23日
发明者J.哈特维希, J.帕尔姆, M.菲尔方格, S.约斯特 申请人:法国圣戈班玻璃厂
技术领域：
本发明涉及一种设备，该设备用于定位至少两个物体，特别是至少两个多层体(各自具有至少一个待加工表面)，其中该用于容纳至少两个物体(特别是多层体)的设备是这样配 置的，即，使得该物体特别是多层体彼此相对，其中待加工表面彼此背对背，以使得该至少两个物体能够作为多层体布置在加工系统中加工，特别是硒化。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备是这样配置的，即，它可以布置或者被布置在具有室空间的加工系统的加工室或者加工隧道中和/或用于形成减小的室空间的装置中，优选布置在加工盒中(该加工盒具有底面元件，覆盖元件，和优选具有侧壁元件)或者布置在加工罩中(该加工罩特别被配置用于固定保持在加工系统中)，和/或在运载元件之上或者与之相接(该运载元件用于依靠传输设备将多层体布置传输到加工系统中和从其中传输出来)。根据一种实施方案中，该用于定位至少两个物体的设备是这样配置的，即，至少一部分的该设备形成了加工盒的至少一部分，特别至少部分构成了加工盒的侧壁元件。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备是这样配置的，即，该多层体在使用时彼此夹层状叠置，并因此形成该多层体布置的下多层体和上多层体。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备是这样配置的，即，该具有彼此背对背的待加工表面的多层体可以彼此叠置来定位。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备具有至少一个间隔元件，其中该间隔元件可以如此至少部分地置于两个多层体之间，以使得它们能够彼此间隔开定位。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备具有至少一个第一置放元件，其可以或者已经位于加工室的室底面和/或室侧壁上和/或加工盒的底面元件和/或侧壁元件上和/或位于运载元件上或者与之邻接(该运载元件用于依靠传输设备将多层体布置传输到加工系统中和从中传输出来)，并且该第一置放元件配置成这样，即，使得下多层体能够优选在它的边缘区域至少部分布置于该第一置放元件上，特别可以置放在置放元件上。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备具有至少一个第二置放元件，其可以或者已经位于加工室的室底面和/或室侧壁上和/或加工盒的底面元件和/或侧壁元件上和/或位于第一置放元件上或者与之邻接和/或位于运载元件上或者与之邻接(该运载元件用于依靠传输设备将多层体布置传输到加工系统中和从其中传输出来)，其中该第二置放元件配置成这样，即，使得上多层体能够优选在它的边缘区域至少部分布置在该第二置放元件上，特别可以置放于置放元件上。根据一种实施方案，一方面，提供该第一置放元件和/或第二置放元件，在每种情况中作为框架元件，优选作为复制了该多层体的轮廓的矩形或者正方形框架元件，以使得该多层体能够优选在它们的边缘区域至少部分布置于各自的框架元件上，特别是可以置放于该框架元件上，和/或另一方面，该第一置放元件和/或该第二置放元件每个配置为在使用中，在该多层体的延伸平面上彼此相对的两个框架板条元件，以使得该多层体，优选在它们的边缘区域上，优选在它们的纵向侧，能够至少部分地布置于该框架板条元件上，特别能够置放于该框架板条元件上。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备包括中间元件，其可以位于第一置放元件和第二置放元件之间，以使得第二置放元件能够位于第一置放元件上。根据一种实施方案，第一置放元件和/或第二置放元件各自具有至少一个横向连接元件，其用来连接在该多层体的延伸平面上彼此相对的各自的框架元件的区域或者在使用中彼此相对的框架板条元件的区域，使得能够另外支承该多层体以防止弯曲。根据一种实施方案，该横向连接元件具有至少一个第一支承元件，优选点支承元件，特别优选球形元件，以使得该多层体可以经由支承元件置于横向连接元件上或者与之邻接，其中该支承元件是这样配置的，即，它具有与各自的至少一个框架元件和/或框架板条元件相同的高度。根据一种实施方案，该用于定位至少两个物体的设备具有至少一个第二支承元件，优选点支承元件，特别优选球形元件，其提供在加工室的室底面上和/或加工盒的底面元件上，来支承该多层体布置。根据一种实施方案，各自的框架元件和/或框架板条元件具有至少两个支承元件，以使得该多层体可以置于该支承元件上或者邻接于该支承元件。
本发明涉及一种多层体布置，其包含至少两个各自具有至少一个待加工表面的多层体，和至少一个用于定位该至少两个多层体的设备，如上所述。本发明涉及一种多层体布置，其包含至少两个各自具有至少一个待加工表面的多层体，其中该至少两个多层体设计成使得它们彼此相对，并且待加工表面彼此背对背。本发明涉及一种用于加工，特别是硒化至少两个物体，特别是至少两个多层体的系统，每个多层体具有至少一个待加工表面，该系统包含至少一个具有室空间的加工室，和用于定位该至少两个物体的设备，如上所述。有利地，该系统具有用于将加工气体供给到室空间和/或加工空间中和/或从其中排出的气体供给元件和/或气体排出元件。本发明涉及一种用于定位至少两个物体，特别是至少两个多层体(各自具有至少一个待加工表面)的方法，该方法依靠用于定位至少两个物体，特别是多层体的设备来进行，该设备经配置来容纳该至少两个物体，特别是该多层体，其中该方法包含下面的步骤将该设备布置在为其提供的位置上；将两个物体，特别是多层体布置到该设备上，以使得该物体，特别是多层体彼此相对，其中待加工表面彼此背对背，以使得该至少两个物体能够作为多层体布置在加工系统中进行加工，特别是硒化。本发明涉及一种用于定位至少两个物体，特别是至少两个多层体(各自具有至少一个待加工表面)的方法，其中该方法包含下面的步骤如此布置两个物体，特别是多层体，以使得该物体，特别是多层体彼此相对，并且待加工表面彼此背对背，以使得该至少两个物体能够作为多层体布置在加工系统中进行加工，特别是硒化。附图
标记列表
10加工系统
11加工室，加工隧道
12室空间
13入口门
14出口门15室盖子
16室底面
17(一个或多个)室(侧)壁
18电磁辐射源
20a形成减小的室空间的装置，加工盒
20b形成减小的室空间的装置，加工罩 21加工空间
22覆盖元件
23底面元件
24(一个或多个)侧壁元件
25运载元件，传送器28a布置，多层体布置28b布置，多层体布置28c布置，多层体布置28d布置，多层体布置28e布置，多层体布置28f布置，多层体布置28g布置，多层体布置30a用于定位的设备30b用于定位的设备30c用于定位的设备30d用于定位的设备30e用于定位的设备30f用于定位的设备30g用于定位的设备131第一置放元件131a框架板条元件
131b置放区域
131c框架板条元件
131d置放区域
231第一置放元件
231a框架板条元件
231b置放区域
231c框架板条元件
231d置放区域
331第一置放元件
331a框架板条元件
331b置放区域
331c框架板条元件331d置放区域431 第一置放元件
431a框架板条元件
431b置放区域431c 框架板条元件
431d置放区域
631第一置放元件631a框架板条元件631b置放区域
·631c框架板条元件
631d置放区域
731第一置放元件731a框架板条元件731b置放区域
731c框架板条元件
731d置放区域
632第二置放元件632a框架板条元件632b置放区域
632c框架板条元件
632d置放区域
732第二置放元件732a框架板条元件732b置放区域
732c框架板条元件
732d置放区域
33横向连接元件
34横向连接元件
35支承元件35’ 支承元件
36支承元件36’ 支承元件
37中间元件
37a中间元件的板条元件
37b中间元件的板条元件
38间隔元件
38a间隔元件的板条元件
38b间隔元件的板条元件
40下多层体,基材41(一个或多个)边缘区域
44待加工表面
45(前体-)涂层
50上多层体，基材
51(一个或多个)边缘区域
54待加工表面
55(前体_)涂层60布置的开口区域 B 入口门，出口门的移动方向。
权利要求
1.用于形成减小的室空间的装置(20a，20b)，例如加工盒(20a)或者加工罩(20b)，其具有用于定位至少两个各自具有至少一个待加工表面(44，54)的多层体(40，50)的设备(30a，30b，30c，30d，30e，30f，30g)，其中该设备(30a_30g)如此配置使得所述多层体(40，.50)彼此相对，其中所述待加工表面(44，54)彼此背对背，以使得该多层体(40，50)能够作为多层体布置(28a，28b，28c，28d，28e，28f，28g)在加工系统(10)中加工。
2.根据权利要求I的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，50)的设备(30a-30g)的至少一部分形成了该装置的至少一部分。
3.根据权利要求I或者2之一的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，.50)的设备(30a-30g)如此配置使得该多层体(40，50)在使用时彼此夹层状叠置，和以此方式形成所述多层体布置(28a-28g)的下多层体(40)和上多层体(50)。
4.根据权利要求3的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，50)的设备(30a-30g)具有至少一个第一置放元件(131，231，331，431，631，731)，其能够或者已经布置在加工盒(20a)的底面元件(23)上和/或侧壁元件(24)上，其中所述第一置放元件(131，231，331，431，631，731)如此配置使得下多层体(40)能够至少部分地置放在第一置放元件(131，231，331，431，631，731)上。
5.根据权利要求4的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，50)的设备(30a-30g)具有至少一个第二置放元件￠32,732)，其能够或者已经布置在加工盒(20a)的底面元件(23)上和/或侧壁元件(24)上和/或在第一置放元件(131，231，331，431，631，.731)上或者邻接该第一置放元件，其中所述第二置放元件(632，732)如此配置使得上多层体(50)能够至少部分地置放在该第二置放元件(632，732)上。
6.根据权利要求4或者5之一的装置(20a，20b)，其中一方面，所述第一置放元件(131，231，331，431，631，731)和/或所述第二置放元件(632，732)在每种情况中是作为框架元件来提供的，以使得该多层体(40，50)能够至少部分地布置在各自的框架元件上，和/或另一方面，将该第一置放元件(131，231，331，431，631，731)和/或该第二置放元件(632，.732)设计成在每一情况下在多层体(40，50)的延伸平面中在使用中彼此相对的两个框架板条兀件(131a, 131c, 23Ia, 23Ic, 33Ia, 33Ic,43Ia,43Ic,63Ia,63lc,731a,731c,632a,.632c，732a，732c)，以使得该多层体(40，50)能够至少部分地布置在该框架板条元件上。
7.根据权利要求5或者6之一的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，.50)的设备(30a-30g)包括中间元件(37)，该中间元件能够布置在第一置放元件(131，231，.331,431,631,731)和第二置放元件(632,732)之间，以使得该第二置放元件(632,732)能够安放在该第一置放元件(131，231，331，431，631，731)上。
8.根据权利要求4-7之一的装置(20a，20b)，其中所述第一置放元件(131，231，331，.431，631，731)和/或所述第二置放元件(632，732)各自具有至少一个横向连接元件(33，.34)，该横向连接元件(33，34)用于连接各框架元件的在该多层体(40，50)的延伸平面中彼此相对的区域或者在使用中彼此相对的框架板条元件(131a，131c，231a，231c，331a，331c，.431a, 431c, 631a, 631c, 731a, 731c, 632a, 632c, 732a, 732c)，以使得一个或多个所述多层体(40,50)能够得到另外支承以防止弯曲。
9.根据权利要求8的装置(20a，20b)，其中所述横向连接元件(33，34)具有至少一个第一支承元件(35，35’)，以使得该多层体(40，50)能够经由所述支承元件(35，35’)置放到所述横向连接元件(33,34)上或者邻接于所述横向连接元件(33,34),其中所述支承元件(35，35’)如此配置它具有与各自的至少一个框架元件和/或所述框架板条元件(131a，131c, 23la, 231c, 33la, 331c, 43la, 431c, 63la, 631c, 731a, 731c, 632a, 632c, 732a, 732c)相同的高度。
10.根据权利要求1-9之一的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体的设备(30a，30b, 30c, 30d, 30e, 30f，30g)具有至少一个第二支承元件(36，36’)，该支承元件提供在加工盒(20a)的底面元件(23)上，以支承所述多层体布置(28a-28g)。
11.根据权利要求6-10之一的装置(20a，20b)，其中各个框架元件和/或框架板条兀件(131a, 131c, 23Ia, 23Ic, 33Ia, 33Ic,43Ia,43Ic,63Ia,63lc,731a,731c,632a,632c,732a, 732c)具有至少两个支承元件(35，35’)，以使得该多层体(40，50)能够置放到该支承元件(35，35，)上或者邻接于该支承元件(35，35’)。
12.根据权利要求1-11之一的装置(20a，20b)，其中用于定位至少两个多层体(40，50)的设备(30a-30g)具有至少一个间隔元件(38)，其中所述间隔元件(38)能够如此至少部分地布置在所述两个多层体(40，50)之间，以使得它们能够彼此间隔地定位。
13.用于加工至少两个各自具有至少一个待加工表面(44，54)的多层体(40，50)的系统(10)，该系统包含至少一个具有室空间(12)的加工室(11)和至少一个根据权利要求1-12之一的用于形成减小的室空间的装置(20a，20b)，该装置(20a，20b)具有用于定位所述至少两个多层体的设备(30a-30g)。
14.根据权利要求13的系统(10)，其具有用于将加工气体供给到所述室空间中和/或从其中排出的气体供给元件和/或气体排出元件。
15.用于定位至少两个各自具有至少一个待加工表面(44，54)的多层体(40，50)的方法，其中所述两个多层体(40，50)如此布置在用于形成减小的室空间的装置例如加工盒(20a)或者加工罩(20b)中，以使得多层体(40，50)彼此相对，其中待加工表面(44，54)彼此背对背，以使得所述至少两个物体能够作为多层体布置(28a-28g)在加工系统(10)中加工。
16.根据权利要求1-12之一的用于形成减小的室空间的装置，以及根据权利要求15的方法用于生产薄膜太阳能电池或者薄膜太阳能电池模块，特别是CIS(CIGSSe)-薄膜太阳能电池或者CIS(CIGSSe)-薄膜太阳能电池模块的用途，其中特别地，每个多层体设计为玻璃板的形式，并且至少涂覆有元素Cu、In或者Cu、In、Ga或者Cu、In、Ga、硒,用于硒化和/或硫化黄铜矿薄膜半导体。
全文摘要
本发明涉及一种形成减小的室空间的装置，例如加工盒或者加工罩，其具有用于定位至少两个各自具有至少一个待加工表面的多层体的装置，其中该设备如此配置使得该多层体彼此相对，其中该待加工表面彼此背对背，以使得该多层体能够作为多层体布置在加工系统中加工。另外涉及一种定位至少两个每个具有至少一个待加工表面的多层体的方法，其中所述两个多层体布置在这样的形成减小的室空间的装置中，以使得多层体彼此相对，其中该待加工表面彼此背对背，以使得该至少两个物体能够作为多层体布置在加工系统中加工。
文档编号H01L21/673GK102763208SQ201180010715
公开日2012年10月31日 申请日期2011年2月22日 优先权日2010年2月23日
发明者J.哈特维希, J.帕尔姆, M.菲尔方格, S.约斯特 申请人:法国圣戈班玻璃厂
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