食品以及用于烘焙的方法和设备的制作方法
专利名称：食品以及用于烘焙的方法和设备的制作方法
食品以及用于烘焙的方法和设备
背景技术：
炉和在炉中制作的食品已经公知了几千年。烘焙包括面包在内的食品已经存在几千年。存在许多不同种类的用于烹饪和烘焙的炉。家用炉包括传统炉和对流炉和较小的器具例如多士煽炉等。商用炉包括在餐馆中使用的那些炉和在广泛的商业食品生产中使用的那些炉。用于餐馆的炉包括转炉、搁架式炉、对流炉、多层柜式炉、披萨炉、蒸汽管炉等。用于商业食品生产的炉包括直接燃烧式隧道炉、钢带炉、钢板炉、皮塔饼炉、直接燃烧托盘式炉、间接燃烧式隧道炉和冲击式炉等。所有这些炉在本领域中是众所周知的，且对于它们的特殊的用户或商业场合具有许多优点。炉直接地或间接地被加热。热源可以是气体、油、电或其他可燃材料。炉中的热量可通过电的方式或通过使用可燃流体产生。商用烹饪炉壁的壁通常是金属的，但也可被涂覆或以分层的方式设有反射或折射材料，包括不粘层和瓷料。在所有情况下，令人满意的多士煽炉难以制造。遍布大部分炉(不管是消费的还是商用的)的内部烹饪区域产生“热点”和“冷点”，这使得热量非均匀地施加到被烘焙的食品，且降低了产量。已经做出多种努力试图通过提供相对于加热元件连续地移动正在烹饪的食品的转动支撑件、带和辊子来消除商用中的这种问题。而且，已经做出多种努力试图通过改变炉的壁中使用的材料以及通过利用被设计用于主动地调节炉内的热特性的控制器针对地监测温度来消除消费炉中的与预热麻烦和炉清洁相关的非均匀加热问题。类似的主动控制器也可用在商用场合中。然而，商用和消费家用的传统炉的烹饪区域内的非均匀热量的问题依然存在。在大部分的炉中生产的烘焙食品中的一些不可避免地被非均匀地烹饪，且在商用场合，这可产生非均匀烹饪的食品和/或由于欠烹饪或过烹饪而大致食品损失。期望获得在整个内部烹饪区域或烹饪区均提供一致的热量的炉。期望提供均匀加热的烹饪区域来最少化必须丢弃的已被制作的食品的量。过去已经做出多种努力来试图解决这种问题。已经获知炉内表面的辐射效应影响烹饪过程。美国专利申请N0.2010/006, 559公开了一种消费炉，其具有设有不同的涂层的元件，所述不同的涂层具有变化的辐射特性，可选地包括陶瓷涂层，其被设计成便于在一侧烘焙、在另一侧烧炙。在现有技术中已知具有期望的辐射特性的烹饪盘、尤其是包括微波烹饪容器的使用。通常，这种发明已经涉及简单的暗漆、表面碳化、瓷料或陶瓷表面。作为一个例子，1963年2月19日授权的美国专利N0.3，078，006公开了一种被涂覆有硅树脂的金属烘焙模架，其具有不粘特性和改善的辐射热吸收特性，其中，少量的碳被包含在硅树脂涂层中。尽管进行了商业努力，但在该炉中烘焙的饼干片根据它们在烹饪区域内的位置通常导致一些饼干相对于其他饼干被更多地烹饪，不管使用的盘如何。已知控制在烘焙过程中炉内的热环境的努力和具有期望的热特性的盘。还已知提供了部分地通过具有多个烹饪区操作的炉。一些炉的壁已被覆盖有陶瓷、瓷料、铝、暗漆等，以在烹饪区域内产生期望的温度或便于清洁炉的侧面。其他炉简单地具有暴露的金属表面。类似地，烹饪盘已被修改，以产生期望的热特性和便于清洁盘的烹饪区域。简单的金属搁架、金属辊子和金属输送带通常用于配备有相应的搁架、辊子、带的商用炉中。2004年11月16日授权的美国专利N0.6，818，869公开了一种多面板或多层柜式炉，其采用单独控制来组合传导和辐射加热面板，且提供了在各种面板之间具有1-5个不同的烹饪区的选项。2001年5月8日授权的美国专利N0.6，229，117公开了一种面包返鲜炉，其具有内衬，该内衬是回弹的熔融氧化硅泡沫，且成非多孔陶瓷的形式的熔融氧化硅制成的托盘与该炉一起使用。1979年8月14日授权的美国专利N0.4，164，643公开了一种能量高效的双辐射炉系统，其中，公开了具有E=0.79的辐射率的黑色涂覆的铝盘；然而，在该系统中使用的炉具有炉衬，该炉衬具有高反射性金属和E=0.05水平上的辐射率值。迫切期望获得具有均匀的热分布的能量高效的炉。仍存在由于非均匀和不可预测的炉性能而导致食物损失的问题。期望具有这样一种炉，该炉将在烹饪区内均匀地加热，以可靠地和一致地产生大批量的相同的被烹饪的食品。
发明内容
本设计涉及食品和一种用于烹饪、尤其是烘焙食品的方法和设备。具体地讲，本设计涉及一种用于在这样的炉中烹饪食品的方法或过程和由此生产的食品，所述炉具有高辐射热保护层，所述高辐射热保护层设置在炉的金属和陶瓷内表面上，所述炉具有设置在其金属内表面上的高辐射热保护层。根据本设计的炉具有壳体，所述壳体包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区。传统加热装置被提供用于加热所述区，且可包括气体燃烧器或油燃烧器、电阻线圈、蒸汽管等。在炉内邻近加热区处设置至少一个衬底表面，包括顶部、底部、壁、加热装置、面板、门等，具有设置在其上的高辐射热保护层。用于金属表面的高辐射热保护层具有大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。用于陶瓷表面的高辐射热保护层具有大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的填料，和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。根据本设计的在用于制作被烹饪的食品的过程中使用的炉烹饪配件包括盘、烹饪片、搁架等。烹饪配件具有用于与食物接触的烹饪表面、和与烹饪表面相反的外侧表面，在烹饪配件的外侧表面上设置有高辐射热保护层。替代性实施例允许高辐射热保护层设置在其整个外表面上，包括外侧表面和烹饪表面。现有技术中众所周知的不粘层或其他层可设置在烹饪表面上。热保护层可设置在烹饪表面与不粘层或其他层之间。本设计涵盖一种用于制作食品的过程和由此制作的食品。所述用于制作食品的过程与炉内的衬底表面上没有设置高辐射热层的传统过程相比花费更少的时间，需要更少的能量。在本设计的炉中制作的以及通过本设计的过程制作的食品在相继的批次中更均匀，在炉的不同部分内的食品也更均匀。本设计的一个方面是具有至少一个均匀加热区域或加热区的炉，以均匀地烹饪其中的食品。本设计的替代性实施例可提供多个加热区。具有多个加热区的商用炉的例子包括隧道炉，所述隧道炉直接或间接地燃烧，且提供了食品行进通过的多个区。另一示例可为一些搁架式炉、柜式炉、托盘炉、转炉或披萨炉，它们可提供作为搁物架的分离的加热区，直接加热每个搁物架。本设计的另一方面是提供一种在炉中烹饪的已被制作好的食品，所述炉具有根据本设计的高辐射涂层，所述高辐射涂层设置在炉的内金属表面上，以提供遍布每个加热区域和加热区的一致均匀的加热。通过本设计最终生产的食品在尺寸、形状和烹饪程度方面均更均匀。多个批次也更为均匀。根据本设计的炉比缺少热保护层的其他炉提供了明显更均匀的烹饪环境，这产生基本均匀的烘焙食品。本设计的又一方面是提供一种具有根据本设计的高辐射热保护层的烹饪盘，所述高辐射热保护层设置在本是传统的烹饪盘的外侧上。在这种盘中制作的食品与在传统的盘中制作的食品相比具有明显更均匀的尺寸、形状和烹饪程度。高辐射热保护层用于均匀化温度和热效应，从而增大了本设计的炉内的热量的均匀性。本设计的另一方面是提供一种食品，所述食品的尺寸和形状均匀，这是因为炉内具有均匀的热环境。在这种盘和炉中制作的食品比在传统的炉和盘中制作的食品在它们的尺寸、形状和烹饪程度方面明显更均匀。本设计提高了红外烹饪/烘焙波长的波长分布。本设计的一个方面是提供一种设置在炉的内表面上的高辐射热保护层，以提供使炉内的被烹饪或烘焙的食品在最佳的温度下均匀地被加热的烹饪环境。辐射层使得烘焙时间降低，这提高了烘焙能力和/或降低了烘焙基于谷粒的食品所需的能量。本设计的另一方面是提供一种用于烘焙食品的方法和设备以及由此烘焙的食品，其中，由相同体积的配料制作的基本上所有食品具有均匀的尺寸和形状，且在长的时段上在不同的制作过程上是一致的。这对大致均匀的批量食品生产至关重要。本设计有利于该目标。通过进一步参看以下的附图和说明，本设计的这些和其他方面将变得易于明白。
所描述的实施例的新颖特征具体地记载在权利要求中；然而，与实现本设计的结构和过程相关的实施例可参看以下的描述和附图被最好地理解。图1是直接燃烧式隧道炉的截取的透视图，示出了隧道炉的内侧和炉配件，其上设有根据本设计的一个替代性实施例的高辐射热保护层。图2A是直接燃烧式隧道炉的图解视图，该直接燃烧式隧道炉使用输送带系统，且其上设有根据本设计的替代性实施例的高辐射热保护层。图2B是根据本设计的一个替代性实施例的使用了输送带系统的间接燃烧式隧道炉的图解视图，该间接燃烧式隧道炉中具有高辐射热保护层。图3是根据本设计的另一个替代性实施例的搁架式炉的图解视图，该搁架式炉中具有高辐射热保护层。图4是根据本设计的一个替代性实施例的对流炉的图解视图，该对流炉中具有高辐射热保护层。图5是根据本设计的一个替代性实施例的直接燃烧式托盘炉的图解视图，该直接燃烧式托盘炉中具有高辐射热保护层。图6是根据本设计的一个替代性实施例的转炉的透视图，该转炉中具有高辐射热保护层。图7是根据本设计的一个替代性实施例的冲击式炉的图解视图，该冲击式炉中具有高辐射热保护层。图8是根据本设计的一个实施例的多层柜式炉的图解视图，该多层柜式炉中具有高辐射热保护层。图9是根据本设计的一个实施例的传统消费炉的侧透视图，该传统消费炉中具有高辐射热保护层。图10是根据本设计的一个替代性实施例的消费多士煽炉的图解视图，该消费多士煽炉中具有高辐射热保护层。图1lA是根据本设计的一个替代性实施例的燃烧器屏蔽件的侧视图，该燃烧器屏蔽件上具有高辐射热保护层。图1lB是根据本设计的一个实施例的燃烧器屏蔽件的顶视图，该燃烧器屏蔽件上具有高辐射热保护层。图1lC是根据本设计的燃烧器屏蔽件和燃烧器组件的侧视图，该燃烧器屏蔽件和燃烧器组件上具有高辐射热保护层。图12是根据本设计的一个替代性实施例的蛋糕盘的侧剖切图，该蛋糕盘具有高辐射热保护层。图13是根据本设计的一个替代性实施例的饼干片的局部侧剖切图，该饼干片具有高辐射热保护层。图14是根据本设计的一个实施例的长方形烤盘的高处透视图，该长方形烤盘具有高辐射热保护层。图15是根据本设计的搁架的剖切视图，示出了设置在搁架的外表面上的高辐射热保护层。图16是烹饪配件的侧视图，该烹饪配件具有设置在烹饪表面上和外侧表面上的闻福射热保护涂层。图17是根据本设计的烹饪配件的侧视图，该烹饪配件具有设置在烹饪表面与不粘表面层之间的高辐射热保护层。图18是根据一个替代性设计的面板的视图。图19是根据另一个替代性设计的嵌入件的透视图。在所有附图中，相同的附图标记始终表示相应的特征。
具体实施例方式根据本设计的炉12如图1-10所示地具有壳体14，该壳体包括顶部16、底部20、两个相对的侧壁15和17以及借以形成至少一个内部加热区34的开口 21。传统加热装置38可包括传统气体燃烧器、线圈、蒸汽管等，所述加热装置38可具有设置在其上的高辐射热保护层18。提供了至少一个衬底表面，包括顶部16、底部20、壁15和17、加热装置38、面板40、门42等，它们具有设置在其上的高辐射热保护层18。面板40可以放置在炉中，以保护壁15和17、后壁23、顶部16或底部20，且可以是陶瓷的或金属的。加热装置38可以是直接燃烧式燃烧器、间接燃烧式燃烧器、或者直接或间接加热式电元件。图18和19示出了可用于传统炉中的烹饪配件，其包括可独自使用的面板40或一个以上的面板40。示出了另一个替代例，其具有嵌入件140，该嵌入件140的内侧表面或外侧表面上具有高辐射热保护层18，根据另一替代性设计，其中包括加热区34。用于金属表面的高辐射热保护层18具有大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。用于陶瓷表面的高辐射热保护层18具有大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。根据本设计的替代性实施例，本设计涵盖具有高辐射热保护层18的任何烹饪炉。图1示出了直接燃烧式隧道炉，其是一种具有多个加热区34以及输送系统22、24和26的炉12。输送系统22、24和26包括辊子22或带24，以将包含烹饪盘30的搁架28移动通过每个加热区34。高辐射热保护层可至少部分地设置在输送系统22、24和26、辊子22、带24或搁架28或它们的组合上。图2A示出了直接燃烧式隧道炉12，其使用了输送带系统22、24和26，且具有设置在其中的高辐射热保护层18。图2B示出了间接燃烧式隧道炉12，其使用了输送带系统22、24和26，与直接燃烧式隧道炉12类似，具有设置在其中的高辐射热保护层18。间接和直接燃烧式隧道炉12可具有多个加热区34，以便于以最佳的方式烹饪食品。每个加热区34可具有不同的合适温度。图3示出了搁架式炉，其可在每个搁架之间具有分离的加热区34，且可具有设置在搁架以及壁、顶部和底部上的高辐射热保护层18。图4示出了对流式炉，其具有设置在其中以及门42上的高辐射热保护层18。图5示出了直接燃烧托盘式炉，其可以以与隧道炉相同的方式在其中具有多个加热区34。间接燃烧托盘式炉也是公知的。图6示出了转炉，其具有带有高辐射热保护层18的门42和转动搁架系统50。图7示出了冲击式炉，其中也可具有多个加热区34。图8示出了多层柜式炉，其每层内可具有加热区34。图9示出了传统消费炉，图10示出了消费多士煽炉。图11A-11C中示出了传统燃烧器和燃烧器屏蔽件的替代例。图1lA和IlB示出了燃烧器屏蔽件16，其在热辐射从燃烧器38发出时引导该热辐射。燃烧器38和/或燃烧器屏蔽件16可具有设置在其上的高辐射热保护层18。其上具有高辐射热保护层18的燃烧器屏蔽件16功能上优于其上不具有层18的相同的燃烧器屏蔽件16。应当理解，层18可以设置在表面的任一侧，且将期望的特性赋予给被涂覆的材料。图12-17中示出的炉烹饪配件，包括盘30、烹饪片30、搁架28等具有用于与食物接触的烹饪表面42和与内侧表面42相反的外侧表面44，外侧表面44上设置有高辐射热保护层18。替代性实施例允许高辐射热保护层18设置在包括外侧表面44和烹饪表面42的整个外表面42和44上。如图17所示的不粘层46或现有技术中众所周知的其他层可设置在烹饪表面42上。热保护层可设置在烹饪表面42与不粘层46之间。所述烹饪配件可由金属、纤维或硅橡胶构成，且可以具有或不具有设置在其上或设置在其层中的辐射屏蔽件。本设计涵盖制作食品的过程和由此制作的食品。所述用于制作食品的过程比炉内的衬底表面上没有设置高辐射热层的传统的产品花费更少的时间和需要更少的能量。在本设计的炉中和通过本设计的过程制作的食品在相继的批次中和炉的不同部分中的食品方面更一致。衬底表面包括炉壁、顶部、底部、门、搁架、辐射管、蒸汽管、管屏蔽件、反射器、加热元件、燃烧器、燃烧器屏蔽件、面板、嵌入件、辊子、输送带、炉框架等，包括炉内的所有暴露的金属表面。衬底表面还包括在炉内使用但可从炉移除的器件，包括搁架、烹饪盘、烘焙片和承载搁架盘的任何表面。本设计涵盖的商用炉包括但不限于:直接和间接加热式隧道炉、多层柜式炉、蒸汽管炉、冲击式炉、混合炉和消费炉。本设计涵盖的消费炉包括但不限于:传统炉(不管是气体燃烧式的还是电式的)、对流炉、多士煽炉、面包机、多士炉等。本设计涵盖的多层柜式炉(不管是电式的或气体燃烧式的、传统的还是对流的)包括披萨炉、蒸汽管炉、搁架、转动搁架、柜式炉、模块化炉等。面板和嵌入件是可放置在炉中代替用高辐射热保护层涂覆炉的金属或陶瓷配件。面板可以是扁平的而具有两侧:内侧和外侧。替代性地，也可使用盖状的嵌入件，其内部具有形成热区的开口。嵌入件可像炉那样具有顶部和侧部，并且其中具有用于形成热区的开口。待烹饪的物品要么通过一侧放置在开口内，要么通过使嵌入件放置在待烹饪的食物的顶部上。与食物直接接触的烹饪配件还可具有根据本设计的高辐射热保护层18，其设置在烹饪配件的表面上，或集成在多层内。最期望的是，高辐射层设置在盘的、片的和搁架的底表面上。一个替代例还允许高辐射层设置在顶侧和底侧。在本设计的一些替代性实施例中，炉和烹饪配件可具有不粘层或其他分层结构，其中，高辐射层设置在不粘层之下或顶部上。替代性地，其上设置有高辐射层的面板可放置在炉内。替代性地，炉可具有直接放置被烹饪的物品的炉底，包括金属丝网带、钢板、铰链板、石板、陶瓷板和人造复合水泥板。金属和合金衬底表面发现于大部分炉中，且包括大部分表面，包括壁、顶部、底部、门、搁架、蒸汽管、管屏蔽件、管道、热交换器、催化剂板、反射器、燃烧器、燃烧器屏蔽件、面板、辊子、输送带等。陶瓷材料可在炉中用于加热元件、屏蔽件、反射器、辐射管、蒸汽管等，且还可用于炉壁、顶部、底部等以及它们的一部分。本设计所覆盖的炉可通过气体(包括天燃气、丙烷、LPG、丁烷和城市煤气)、油(包括N0.2燃油、船用燃料、柴油、煤油和石脑油)、煤、木材、植物燃料、燃料电池、乙醇和电被提供燃料。食品包括:面包、小圆面包、卷制品、百吉饼、蛋糕和类似物。面包包括白面包、全谷粒面包、特制面包、高度发酵面包、炉火面包、和吐司面包。特制面包包括拖鞋面包、口袋面包和扁平面包。小圆面包包括:白小圆面包、全谷粒小圆面包、特制小圆面包、高度发酵小圆面包、炉火小圆面包和吐司小圆面包。卷制品包括特制卷制品、全谷粒卷制品、蔷薇花状卷制品、顶部裂开卷制品、父叉卷制品、水卷制品、大块卷制品、子卷制品、夹焰卷制品、鱼雷卷制品和类似物(包括盘烘焙和炉火烘焙)。百吉饼、洋葱卷包和百吉螺旋饼也被包括在内。甜心包括蛋糕、馅饼、油酥面团、饼干、脆饼、和甜食物。包括麸质和无麸质的食品在内的所有谷粒食品被包括在内。用于金属衬底的热保护层18包括:大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料、和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或用于陶瓷衬底的热保护层18包括大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的填料，和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。高辐射热保护层18可以作为高辐射多功能热保护涂层施加。替代性的合适涂层和施加方法描述于美国专利US7105047和6921431中，它们的内容整体包括在本申请中。本设计的适合于形成金属/合金衬底表面上的热保护层的高辐射涂层可在干混合物中包含大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。优选地,干混合物还包含大约1%至大约5%的稳定剂。根据本设计的替代性实施例，适合于形成烹饪炉内的陶瓷表面上的热保护层的一种替代性的高辐射涂层可包含大约5%至大约35%的胶体氧化硅、大约23%至大约79%的至少一种填料、大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。优选地，本设计的热保护层还包含大约1.5%至大约5.0%的稳定剂。如在此所使用的，所有百分比(%)是重量百分比，也被解释为重量/重量％、% (w/w) ,w/w,w/w%或简单的％，除非另外指出。此外，在此所使用的术语“湿混合物”对应于热保护涂层的组分在溶液中的相对百分比，“干混合物”对应于在添加水之前的干的热保护涂层混合物的组分的相对百分比。换言之，干混合物百分比是没有考虑水的百分比。湿混合物是指溶液中的混合物(具有水)。“湿重量百分比”是湿混合物中的重量，“干重量百分比”是干混合物中的重量，不遵守湿重量百分比。在此所使用的术语“总固体”是指氧化硅/氧化铝和碱或氨(NH3)总和加上包括杂质在内的所有固体部分。固体组分的重量除以整个溶液的质量再乘以100得到“总固体”的百分比。制备涂层的方法涉及将涂层的湿混合物施加到待涂覆的表面上。替代性方法可包括将湿混合物喷到表面上或雾化干混合物并相应地涂覆表面。在根据本设计的涂层溶液中，要施加在烹饪炉内的金属/合金衬底表面上的热保护涂层的湿混合物包含大约6%至大约40%的无机粘合剂、大约23%至大约46%的填料、大约0.5%至大约10%的一种或多种辐射剂和大约18%至大约50%的水。为了延长涂层溶液的保存期限，大约0.5%至大约2.5%的稳定剂优选地添加至湿混合物。湿混合物涂层溶液包含在大约40%-大约60%之间的总固体。在根据本设计的涂层溶液中，要施加至陶瓷衬底表面的替代性热保护涂层的湿混合物包含大约15%至大约45%的胶体氧化硅、大约23%至大约55%的至少一种填料、大约
0.5%至大约15%的一种或多种辐射剂、大约0.5%至大约2.5%的稳定剂和大约18%至大约40%的水。湿混合物涂层溶液包含在大约40%-大约70%之间的总固体。无机粘合剂优选是从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙、硅酸镁构成的组中选择的碱金属/碱土金属硅酸盐和聚硅酸盐。胶体氧化硅优选是单分散分布的胶体氧化硅，因此，具有非常窄的范围的颗粒尺寸。填料优选是从以下组中选择的金属氧化物:二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼。辐射剂优选地从以下组中选择:六硼化硅，四硼化碳，四硼化硅，碳化硅，二硅化钥，二硅化钨，二硼化锆，亚铬酸铜和金属氧化物例如氧化铁、氧化镁、氧化锰、铜铬氧化物和氧化铬、氧化铈、氧化铽和它们的衍生物。本设计中所使用的铜铬氧化物是亚铬酸铜和氧化铜的混合物。稳定剂可从以下组中选择:膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆。稳定剂优选是膨润土。其他球粘土稳定剂可在此替代作为稳定剂。胶体氧化铝(附加于或替代胶体氧化硅)还可被包括在本设计的混合物中。当胶体氧化铝和胶体氧化硅混合在一起时，其中一种或另一种需要表面改性，以便于混合，如现有技术中所公知的那样。着色剂可以被添加到本设计的保护涂层，以将着色剂赋予给炉或炉配件。食用安全色素可被添加到保护涂层，而不会产生有毒气体。通常，食用安全色素分为子类:彩色(盐和氧化物)、黑色、白色和金属的。本设计的一个优选实施例包含大约10%至大约25%的硅酸钠、大约50%至大约79%的二氧化硅粉末和大约4%至大约15%的一种或多种辐射剂的干混合物，所述辐射剂从以下组中选择:氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆。热涂层的优选实施例可在干混合物中包含大约1.0%至大约5.0%的膨润土粉末。对于该实施例来说，相应的涂层在溶液(湿混合物)中包含大约10.0%至大约35.0%的硅酸钠、大约25.0%至大约50.0%的二氧化硅、大约18.0%至大约39.0%的水和大约1.0%至大约8.5%的一种或多种辐射剂。该湿混合物必须立即使用。为了提供可储存和随后使用的涂层溶液混合物(湿混合物)，热涂层的优选实施例包含大约0.25%至大约2.50%的膨润土粉末。优选地，使用无离子水。湿混合物的优选实施例具有大约45%至大约55%的总固体含量。本设计的优选的热保护涂层包含大约15.0%至大约20.0%的硅酸钠、大约69.0%至大约79.0%的二氧化硅粉末、大约1.00%膨润土粉末和大约5.00%至大约15.0%的辐射剂的干混合物。辐射剂选自以下组中的一种或多种:氧化铁、硼化硅、二硅化钥、二硅化钨和碳化硼。最优选的湿混合物包含大约20.0%的硅酸钠、大约34.5%至大约39.5%的二氧化硅粉末、大约0.500%的膨润土粉末和大约2.50%至大约7.5%的辐射剂，其中，平衡物是水，娃酸钠基于大约37.45%的娃酸钠固体含量。福射剂最优选地从以下组中选择:氧化铁、硼化硅和碳化硼(也称作四硼化碳)。优选实施例包括这些实施例:辐射剂包括大约2.50%的氧化铁、大约2.50%至大约7.5%的硼化硅或大约2.50%至大约7.50%的碳化硼。根据本设计的最优选的湿混合物的PH为大约11.2±1.0,比重为大约1.45±0.05，总固体含量为大约 50±0.3%ο本设计的一个优选实施例包含以下干混合物:大约10.0%至大约30.0%的胶体氧化硅、大约50%至大约79%的二氧化硅粉末、大约2%至大约15%的一种或多种辐射剂以及大约1.5%至大约5.0%的膨润土粉末，所述辐射剂从以下组中选择:氧化铈、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆。对于该实施例，相应的涂层在溶液(湿混合物)中包含大约20.0%至大约35.0%的胶体氧化硅、大约25.0%至大约55.0%的二氧化硅、大约18.0%至大约35.0%的水、大约2.0%至大约7.5%的一种或多种辐射剂以及大约0.50%至大约2.50%的膨润土粉末。优选地，使用无离子水。湿混合物的优选实施例具有大约50%至大约65%的总固体含量。本设计的最优选的热保护涂层包含以下干混合物:大约15.0%至大约25.0%的胶体氧化硅、大约68.0%至大约78.0%的二氧化硅粉末、大约2.00%至大约4.00%的膨润土粉末和大约4.00%至大约6.00%的辐射剂。辐射剂选自以下中的一种或多种:硼化锆、硼化硅、和碳化硼。最优选的湿混合物包含大约27.0%的胶体氧化硅、大约25%至大约50%的二氧化硅粉末、大约1.50%的膨润土粉末和大约2.50%至大约5.50%的辐射剂，其中，平衡物为水，所述胶体氧化硅基于大约40%的胶体氧化硅固体含量。所述辐射剂最优选地从以下组中选择:硼化锆、硼化硅、二硅化钥、二硅化钨和碳化硼。优选实施例包括这些实施例:辐射剂包括大约2.50%的二硼化锆、大约2.50%的硼化硅或大约2.50%至大约7.50%的碳化硼。最优选的湿混合物的比重为大约1.40至1.50,总固体含量为大约50%至60%。
可用于本设计中的无机粘合剂包括N(商标)型硅酸钠，其可从PQ公司(福吉谷，费城)获得。硅酸钠(Na20*XSi02)是硅的金属氧化物。所有可溶解的硅酸盐可通过被定义为氧化硅与碱的重量比(Si02/Na20)的它们的比率区别。比率决定涂层的物理和化学性能。硅酸盐的玻璃特性给被干燥的膜或涂层赋予了强和刚性的物理特性。根据环境温度和相对湿度，硅酸盐空气干燥到特定的水分水平。需要加热使这些膜完全干燥一硅酸盐变得几乎不可溶解的条件。与其他材料例如铝或钙化合物的反应将使得膜涂层完全不可溶解。以下的例子中使用的N(商标)型硅酸钠具有3.22的重量比的Si02/Na20、8.9%的Na20、28.7%的SiO2，密度(在 20°C 的室温下)为 41.0。Be’、11.61b/gal*1.38g/cm3。pH 为 11.3，粘度为180厘泊。N型硅酸钠处于浆状液体的状态下。术语“总固体”是指氧化硅和碱的总和。重量比值是最重要的硅酸盐变量。比值决定产品溶解性、反应性和物理性能。比值是氧化硅与碱的重量比或摩尔比。密度是总固体的表示，且通常通过使用比重计或密度计确定。Ludox (商标)TM50胶体氧化娃和Ludox (商标)AS40胶体氧化娃可从GraceDavidson(哥伦比亚,马里兰州)获得。Ludox(商标)胶体氧化娃中的颗粒是由氧化娃构成的分离的均匀球，其不具有内表面区域或可探测的结晶度。大部分分散在碱性介质中，碱性介质与氧化娃表面反应，以产生负电荷。由于负电荷，颗粒彼此排斥而形成稳定的产品。尽管大部分粒级在PH8.5-11.0之间是稳定的，但一些粒级在中性pH范围中是稳定的。Ludox (商标)胶体氧化硅的非常小的氧化硅颗粒的含水的胶体分散物。它们是乳色到乳白色液体。由于它们的胶体特性，Ludox(商标)胶体氧化娃的颗粒具有大的比表面积,这使得具有新的性能和宽种类的使用。Ludox(商标)胶体氧化硅可以两个主类获得:单分散，Ludox (商标)胶体氧化硅的非常窄的颗粒尺寸分布；和多分散，Ludox (商标)P的宽的颗粒尺寸分布。Ludox (商标)胶体氧化硅通常通过凝胶化而转变为干固体。胶体氧化硅可通过
(I)去除水，(2)改变pH，或(3)添加盐或水溶性有机溶剂而被凝胶化。在干燥过程中，颗粒的表面上的羟基通过裂解水形成产生并合和交织砌合的硅氧烷键(S1-O-Si)而冷凝。Ludox(商标)胶体氧化硅的被干燥的颗粒是化学惰性的且耐热的。颗粒产生强的粘合和凝聚结合，且对于所有类型的粒状和纤维材料均是有效的粘合剂，尤其是当需要在高温下使用时。胶体氧化铝可以通过Nyacol (商标)胶体氧化铝获得，具体地讲，可以是从NyacolNano Technologies公司(阿什兰，马萨诸塞州)获得的Nyacol (商标)AL20,且在无离子水中可用于将钠和氯水平降低到小于lOppm。它包含大约20%的重量百分比的Al2O3, 50nm的颗粒尺寸，正颗粒电荷，PH4.0, 1.19的比重，IOcP的粘度。填料可以是二氧化硅粉末、例如可从美国Silica(柏克莱泉，西弗吉尼亚州)获得的Min-U-Sil (商标)5 二氧化硅。该二氧化硅是细研磨的氧化硅。对Min-U-Sil (商标)二氧化硅的化学分析表明以下含量:98.5%的二氧化硅，0.060%的氧化铁，1.1%的氧化铝，
0.02%的二氧化钛，0.04%的氧化钙，0.03%的氧化镁，0.03%的过氧化钠，0.03%的氧化钾和0.4%的燃烧损失。常规物理性能是411bs/ft3的压实密度，361bs/ft3的松散密度，7Moh的硬度，7.5的细度，1.7微米的平均直径，44的吸油量(D-1483)，6.2的pH，97%_5微米，
0.005%+325目，92%的反射比，4.2的黄度指数和2.65的比重。辐射剂可从多个渠道获得。辐射率是表面吸收和发出辐射的相对功率，由一表面发出的辐射能与相同温度下的黑体发出的辐射能之比。辐射度是由物体的表面的每单位面积再辐射的能量。可用作本设计中的辐射剂的还称作四硼化碳的碳化硼作为1000W碳化硼售卖且可从Electro Abrasives (布法罗，纽约州)获得。碳化硼是可获得的人造最硬的材料。在1300°C以上，它甚至比金刚石和立方氮化硼还要硬。根据密度，它具有50000至70000psi的四点挠曲强度和414000psi的耐压强度。碳化硼还具有低的热传导率(29至67W/mK)和具有从0.1至lOohm-cm的电阻率。常规的化学分析显示:77.5%的硼，21.5%的碳，0.2%的铁，硼与碳总计98%。硬度为2800努氏硬度和9.6Moh，熔点为4262° F.(2350°C )，氧化温度为 932。F.(5000C )，比重为 2.52g/cc。1000W绿碳化娃(SiC),可选的福射剂，也可从Electro Abrasives获得。绿碳化硅是极其硬(努氏硬度2600或Moh9.4)的人造矿物，其具有高的热传导率(100W/m-K)。它还在高温下具有高的强度(在1100°C下，绿SiC的强度为Al2O3的7.5倍)。绿SiC具有41OGPa的弹性模量，高达1600°C强度也没有降低，且它在常压下不融化，而是在2815.5°C下离解。绿碳化硅是由氧化硅砂和和焦炭制成的配料组成，且极其纯。对于绿碳化硅，物理性能如下:硬度为2600努氏硬度和9.4Moh，熔点为4712° F.(2600°C )，比重为3.2g/cc。常规化学分析是:99.5%的SiC,0.2%的SiO2,0.03%的总Si，0.04%的总Fe，和0.1%的总C。商用碳化硅和二硅化钥可能需要清洁，如现有技术中众所周知，以消除在制造过程中产生的可燃气体。硼化硅(B6Si)可从Cerac (密尔沃基，威斯康星州)获得。可从Cerac获得的还称作六硼化硅的硼化硅具有-200目和大约98%的典型纯度。硼化锆(ZrB2)也可从Cerac获得，其具有10微米或更小的(-325目)的典型平均尺寸和大约99.5%的典型纯度。可从Hoover Color (海沃西，弗吉尼亚州)获得的氧化铁是合成黑色氧化铁(Fe2O3)，其具有60%的氧化铁含量，4.8gm/cc的比重，1.3gm/cc的振实密度的(还称作，堆密度)，151bs/1001bs的吸油量，0.005的325目残留，7至10的pH。优选地，本设计的混合物包括:膨润土粉末、片状氧化铝或镁铝硅酸盐粘土。膨润土粉末允许本设计在较晚的日期制备和使用。必须在没有膨润土粉末的情况下立即使用本设计的制备物。为本设计提供的例子包括PolarGel膨润土粉末,其可从Mineral andPigment Solutions公司(南普莱恩菲尔德,新泽西州)获得。技术级膨润土通常用于悬浮、乳化和粘合剂的目的，且作为神奇改性剂。常规化学分析:59.00%至61.00%的二氧化硅(SiO2) ,20.00% 至 22.00% 的氧化铝(Al2O3)、2.00% 至 3.00% 的氧化钙(CaO)、3.50% 至 4.30%的氧化镁(MgO)、0.60% 至 0.70% 的氧化铁(Fe2O3)、3.50% 至 4.00% 的氧化钠(Na2O)、0.02%至0.03%的氧化钾(K2O)和0.10%至0.20%的二氧化钛和最大8.0%的水分。pH值的范围从9.5至10.5。典型的物理性能是83.0至87.0的干亮度，2.50至2.60的比重，20.82磅/固体加仑，一磅散料0.0480加仑,24ml的最小膨胀力，最大2ml的凝聚形成，100。00%通过200目。片状氧化铝(氧化铝表T64条目635)和镁铝硅酸盐粘土(镁铝硅技术条目105)也可从 Mineral and Pigment Solutions 公司获得。可以被添加到本设计的着色剂包括但不限于无机颜料。合适的无机颜料例如黄色氧化铁、氧化铬绿、红色氧化铁、黑色氧化铁、二氧化钛可从Hoover Color公司获得。另外合适的无机颜料，例如铜铬黑、铬绿黑、钛镍黄、钛锰棕和钴铬蓝可从The Shepherd Color公司(辛辛那提市，俄亥俄州)获得。表面活性剂和/或分散剂可以在将热保护层施加到支撑层上之前被添加到湿混合物。表面活性剂是可从Air Products and Chemicals公司(阿伦敦,美国宾夕法尼亚州)获得的Surfyonol (商标)465表面活性剂。Surfyonol (商标)具有乙氧基2，4，7，9-四甲基5癸炔-4，7- 二醇的化学结构。也可使用其他表面活性剂，例如STANDAPOL(商标)T、具有十二烧基硫酸三乙醇胺的化学结构的INC1、可从Cognis-Care Chemicals (辛辛那提市，美国俄亥俄州)获得的液体温和型主表面活性剂。表面活性剂在湿混合物中的重量百分比为大约0.05%至大约0.2%ο热保护涂层施加到所述表面上，以形成热保护层。衬底表面可以是金属衬底，例如铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢等，或它可以是如现有技术中众所周知的陶瓷表面。所述涂层典型地湿施加，且允许空气干燥或热干燥。对于金属、合金或陶瓷表面，衬底表面的准备稍有不同。本设计可与需要有限的表面准备的新炉一起使用，或可用于翻新旧炉。在任一种情况下，衬底表面应被清除掉所有灰尘、松散材料、表面活性剂、油、任何杂质等。如果需要，新炉或用过的炉中的金属表面可被喷砂处理。喷砂处理可期望用于去除氧化、其他污染物，且仅提高了金属表面的特性。砂介质应是锋利颗粒。根据切割类型、金属条件和期望的特性，喷枪压力将会变化。旧金属将需要较高的psi，例如高达70-80psi。需要无油和无水的压缩空气。需要合适的过滤器去除油和水。也可利用其他碱性金属清洁剂。已被清洁和处理好的陶瓷表面通过轻刷丝刷拭和抽真空处理而被清洁。在喷砂处理之后，表面应利用洁净的无油和无水的空气喷射被彻底地清洁，以去除所有松散颗粒。避免手印污染表面。丙酮可用在(当用丙酮工作时，应处于合适的通风条件下且采取所有必要的预防措施)洁净的布上来擦拭金属表面使其干净。在某些不锈钢上可使用清洁化合物来代替喷砂处理。许多碱金属清洁剂(粉末或液体)在本领域中是公知的且可使用，只要所述表面被彻底地清洁而没有残留物和颗粒物保留即可。陶瓷表面不需要进一步清洁，但在油或类似物已经溅到表面上时，也可使用丙酮清洁。当使用湿混合物时，固体可能在运输或储存过程中沉降。在使用之前，所有之前混合的涂层必须被彻底地再混合，以确保所有沉降的固体和结块可完全被再次分散开。当未使用稳定剂时，涂层不可储存太长。在任何情况下，涂层应在混合之后立即使用，以最小化沉降。对于I加仑和5加仑的容器，混合指令如下。对于I加仑的容器直径为5’ ’的、对于5加仑的容器直径为7’ ’的高速/高剪切锯齿分散刀片可附连到具有足够功率的手钻上，该手钻无负载时具有最小2000rpm的剪切速度。分散刀片可从多个供应商购买。最少持续30分钟高速混合，以确保完全再分散。产品应在清洁金属表面之后立即施加，以最小化表面氧化的发生。产品应在良好的通风和照明区域施加，或应使用适合于环境的保护设备，例如在火箱内。混合的产品应不被过滤或稀释。高容积低压力(HVLP)喷枪应使用20-40psi的清洁的无油和无水的空气工作。需要合适的过滤器来去除油和水。替代性地，也可使用无空气喷枪。其他类型的喷射设备也是合适的。施加者应在喷射实际部件之前在金属废料上喷射，以确保合适的覆盖密度。对于在陶瓷表面例如难熔材料上的施加，无空气喷射系统是优选的。对于金属施加，高速罐式搅动器系统可能是有利的。可选择合适的喷枪嘴来在没有过多的实验的情况下提供合适的厚度。控制覆盖密度对涂层性能可能至关重要。根据衬底的类型、尺寸和条件，热层厚度应为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ)。1密耳等于25.4 μ。合适的厚度可变化。如果可能，至少转动部件90度一次，以保持均匀的覆盖。根据湿度和温度，在部件被操纵之前允许1至4小时的干燥时间。示例I包含15.0%干重量和20.0%湿重量(基于37.45%的硅酸钠固体含量)的N级硅酸钠、79.0%干重量和39.5%湿重量的Min-U-Sil5Si02粉末、5.00%干重量和2.50%湿重量的1000W B4CU.00%干重量和0.500%湿重量的PolarGel膨润土粉末(条目#354)和37.5%的水(基于37.45%的硅酸钠固体含量)。示例I的pH为11.2±1.0，比重为
1.45±0.05，总固体含量为50±0.3%。示例I通过将液体成分放置在洁净的相对较干的混合容器中制备。在混合时，其余的成分缓慢地添加到混合物，以防止粉末成块和附着在混合容器的侧面。然后，根据混合器的配置，混合物以高的功率混合至少20分钟。混合在高剪切混合器中执行，该混合器具有2.5英寸的Cowles高剪力叶片，使用0.5马力的电机在没有负载下产生7500rpm。示例2包含15.0%干重量和20.0%湿重量的N级硅酸钠(基于37.45%的硅酸钠固体含量)、69.0%干重量和34.5%湿重量的min-U-Sil5Si02粉末、15.0%干重量和7.5%湿重量的IOOOff B4C' 1.00%干重量和0.500%湿重量的PolarGel膨润土粉末(条目#354)和37.5%的水(基于37.45%的硅酸钠固体含量。示例2的pH为11.2± 1.0，比重为1.45±0.05，总固体含量为50±0.3%。不例2以与不例I相同的方式制备。示例3包含15.0%干重量和20.0%湿重量的N级硅酸钠(基于37.45%的硅酸钠固体含量)、79.0%干重量和39.5%湿重量的min-U-Sil5Si02粉末、5.00%干重量和2.50%湿重量的硼化硅、1.00%干重量和0.500%湿重量的PolarGel膨润土粉末(条目#354)和37.5%的水(基于37.45%的硅酸钠固体含量)。示例3的pH为11.2± 1.0，比重为1.45±0.05，总固体含量为50±0.3%。不例3以与不例I相同的方式制备。示例4包含15.0%干重量和20.0%湿重量的N级硅酸钠(基于37.45%的硅酸钠固体含量)、79.0%干重量和39.5%湿重量的min-U-Sil5Si02粉末、5.00%干重量和2.50%湿重量的氧化铁、1.00%干重量和0.500%湿重量的PolarGel膨润土粉末(条目#354)和37.5%的水(基于37.45%的硅酸钠固体含量)。示例4的pH为11.2 ± 1.0，比重为1.45 ±0.05，总固体含量为50±0.3%。不例4以与不例I相同的方式制备。本设计的示例涉及将高辐射涂覆面板添加到直接燃烧式行进托盘(隧道)炉的整个内侧上。最终产生的炉降低了烘焙时间，且使产量增大5%。期待预期的烘焙时间的降低和高达20%的产量提高。实现了 20%以上的能效。另外，通过使辐射面板遍布炉的整个内侧设置，使得具有更一致的产品高度。过量空气被降低2.7倍。直接燃烧式行进托盘(隧道)炉的燃烧效率增加了 27%。总体上，对烘焙的改进预期使烘焙时间降低高达50%，这使得炉的产率提高，为烘焙单位质量的产品所需的能量降低高达50%。应当理解，本设计并不局限于上述实施例，而是涵盖以下权利要求的范围内的任何和所有实施例。
权利要求
1.一种制作食品的过程，所述过程包括: 提供炉，所述炉具有: 壳体，其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区，以在加热区中接收炉烹饪配件； 用于向加热区提供热量的加热装置； 设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层，其中， 衬底表面包括设置在炉壳体内的金属或陶瓷表面；和 所述高辐射热保护层包括: 大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂； 提供用于在加热过程中保持混合的配料或准备的面团的烹饪配件； 在烹饪配件中保持所述混合的配料或准备的面团；和 在至少一个加热区中加热烹饪配件，直到制作好食品。
2.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ )厚；或 它们的组合。
3.如权利要求1所述的过程，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料 ’大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约.5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定 性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约.2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
4.如权利要求1所述的过程，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个衬底表面；和 所述至少一个衬底包括面板、嵌入件、壁、底部、烹饪配件、盘、片、搁架、门、后壁、元件、燃烧器、燃烧器屏蔽件、输送器、带、辊子和它们的组合。
5.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中: 烹饪配件包括:用于与食物接触的烹饪表面； 与烹饪表面相反的外侧表面；和 设置在烹饪配件的表面上的高辐射热保护层。
6.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中:烹饪配件从由盘、片、模壳、搁架和它们的组合构成的组中选择。
7.如权利要求1所述的制作食品的过程，还包括: 移动烹饪配件，以便于在至少两个加热区中加热。
8.如权利要求7所述的制作食品的过程，其中: 烹饪配件设置在带或辊式输送系统上，高辐射热保护层至少部分地设置在所述带或辊式输送系统上。
9.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中: 高辐射热保护层设置在至少一个被涂覆的面板或被涂覆的嵌入件上；分布在炉内的面板或嵌入件覆盖至少一个壁、底部、顶部或它们的组合。
10.一种食品,包括: 由一个过程制作的至少一个食品，所述过程包括: 提供炉，所述炉具有: 壳体，其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区，以在加热区中接收炉烹饪配件； 用于向加热区提供热量的加热装置； 设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层，其中， 衬底表面包括金属或陶瓷表面；和 所述高辐射热保护层包括: 大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂； 提供用于在加热过程中保持混合的配料或准备的面团的烹饪配件； 在烹饪配件中保持所述混合的配料或准备的面团；和 在至少一个加热区中加热烹饪配件，直到制作好食品。
11.如权利要求10所述的食品，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂和分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ )厚；或 它们的组合。
12.如权利要求10所述的食品，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属 氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
13.如权利要求10所述的食品，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个衬底表面；和 所述至少一个衬底包括面板、嵌入件、壁、底部、烹饪配件、盘、片、搁架、门、后壁、元件、燃烧器、燃烧器屏蔽件、输送器、带、辊子和它们的组合。
14.如权利要求10所述的食品，其中: 烹饪配件包括:用于与食物接触的烹饪表面； 与烹饪表面相反的外侧表面；和 设置在烹饪配件的外侧表面上的高辐射热保护层。
15.如权利要求10所述的食品，其中: 烹饪配件从由盘、片、模壳、搁架和它们的组合构成的组中选择。
16.如权利要求10所述的食品,还包括: 移动烹饪配件，以便于在至少两个加热区中加热。
17.如 权利要求16所述的食品，其中: 烹饪配件设置在带或辊式输送系统上，热保护层至少部分地设置在所述带或辊式输送系统上。
18.如权利要求10所述的食品，其中: 高辐射热保护层设置在至少一个被涂覆的面板或嵌入件上；分布在炉内的面板或嵌入件覆盖至少一个壁、底部、顶部或它们的组合。
19.一种炉，包括: 壳体，其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区，以在加热区中接收炉烹饪配件； 用于向加热区提供热量的加热装置； 设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层，其中， 衬底表面包括金属或陶瓷表面；和 所述高辐射热保护层包括: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。
20.如权利要求19所述的炉，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种 辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约ΙΟΟμ )厚；或 它们的组合。
21.如权利要求19所述的炉，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁、聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少 一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约.5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约.2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
22.如权利要求19所述的炉，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个衬底表面。
23.如权利要求19所述的炉，其中: 衬底表面是顶部、底部、两个相对的侧壁、或炉框架、或它们的组合。
24.如权利要求19所述的炉，还包括: 后壁和与后壁相对设置的门；和 后壁、门、或它们的组合上设置有高辐射热保护层。
25.如权利要求19所述的炉,还包括: 多个加热区；和输送系统，其中 输送系统包括辊子或带，以将包含烹饪配件的搁架移动通过每个加热区；和 输送系统、棍子 、带、或搁架、或它们的组合。
26.炉烹饪配件，包括: 用于与食物接触的烹饪表面； 与烹饪表面相反的外侧表面，其中，高辐射热保护层设置在烹饪配件的外侧表面上；和 闻福射热保护层包括: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。
27.如权利要求26所述的炉烹饪配件，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100 μ )厚；或 它们的组合。
28.如权利要求26所述的炉烹饪配件，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；· c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱 土金属娃酸盐·从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁、聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、 二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约·5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约·2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
29.如权利要求26所述的炉烹饪配件，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个表面。
30.如权利要求26所述的炉烹饪配件，还包括: 设置在烹饪表面上的用于与食物接触的一层不粘表面；其中 高辐射热保护层设置在不粘表面与烹饪表面之间。
31.如权利要求26所述的炉烹饪配件，其中: 高辐射层设置在包括烹饪表面和与烹饪表面相反的外侧表面在内的暴露表面上。
32.一种炉配件，包括: 相反的第一和第二表面，其中，高辐射热保护层设置在烹饪配件的任一表面或所述两个表面上；和 闻福射热保护层包括: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。
33.如权利要求32所述的炉烹饪配件，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙、硅酸镁和聚硅酸盐构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ )厚；或 它们的组合。
33.如权利要求26所述的炉配件，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的 组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约.5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至 大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约.2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
34.如权利要求32所述的炉配件，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个面板或嵌入件的至少一个表面。
35.如权利要求32所述的炉烹饪配件，其中: 嵌入件形成盖，所述盖中具有用于烹饪食品的加热区。
36.如权利要求35所述的炉烹饪配件，其中: 嵌入件具有顶部和至少两个壁，所述顶部和至少两个壁绕着加热区形成。
全文摘要
提供了一种炉和可选的烹饪配件，其在包括金属或陶瓷的基底表面上具有高辐射热保护层。所述层包括大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。
文档编号A21B1/42GK103220912SQ201180056412
公开日2013年7月24日 申请日期2011年9月23日 优先权日2010年9月24日
发明者J·W·奥尔弗, P·J·多梅尼库奇, J·埃梅里 申请人:埃米希尔德股份有限公司, Amf自动化技术有限责任公司
食品以及用于烘焙的方法和设备
背景技术：
炉和在炉中制作的食品已经公知了几千年。烘焙包括面包在内的食品已经存在几千年。存在许多不同种类的用于烹饪和烘焙的炉。家用炉包括传统炉和对流炉和较小的器具例如多士煽炉等。商用炉包括在餐馆中使用的那些炉和在广泛的商业食品生产中使用的那些炉。用于餐馆的炉包括转炉、搁架式炉、对流炉、多层柜式炉、披萨炉、蒸汽管炉等。用于商业食品生产的炉包括直接燃烧式隧道炉、钢带炉、钢板炉、皮塔饼炉、直接燃烧托盘式炉、间接燃烧式隧道炉和冲击式炉等。所有这些炉在本领域中是众所周知的，且对于它们的特殊的用户或商业场合具有许多优点。炉直接地或间接地被加热。热源可以是气体、油、电或其他可燃材料。炉中的热量可通过电的方式或通过使用可燃流体产生。商用烹饪炉壁的壁通常是金属的，但也可被涂覆或以分层的方式设有反射或折射材料，包括不粘层和瓷料。在所有情况下，令人满意的多士煽炉难以制造。遍布大部分炉(不管是消费的还是商用的)的内部烹饪区域产生“热点”和“冷点”，这使得热量非均匀地施加到被烘焙的食品，且降低了产量。已经做出多种努力试图通过提供相对于加热元件连续地移动正在烹饪的食品的转动支撑件、带和辊子来消除商用中的这种问题。而且，已经做出多种努力试图通过改变炉的壁中使用的材料以及通过利用被设计用于主动地调节炉内的热特性的控制器针对地监测温度来消除消费炉中的与预热麻烦和炉清洁相关的非均匀加热问题。类似的主动控制器也可用在商用场合中。然而，商用和消费家用的传统炉的烹饪区域内的非均匀热量的问题依然存在。在大部分的炉中生产的烘焙食品中的一些不可避免地被非均匀地烹饪，且在商用场合，这可产生非均匀烹饪的食品和/或由于欠烹饪或过烹饪而大致食品损失。期望获得在整个内部烹饪区域或烹饪区均提供一致的热量的炉。期望提供均匀加热的烹饪区域来最少化必须丢弃的已被制作的食品的量。过去已经做出多种努力来试图解决这种问题。已经获知炉内表面的辐射效应影响烹饪过程。美国专利申请N0.2010/006, 559公开了一种消费炉，其具有设有不同的涂层的元件，所述不同的涂层具有变化的辐射特性，可选地包括陶瓷涂层，其被设计成便于在一侧烘焙、在另一侧烧炙。在现有技术中已知具有期望的辐射特性的烹饪盘、尤其是包括微波烹饪容器的使用。通常，这种发明已经涉及简单的暗漆、表面碳化、瓷料或陶瓷表面。作为一个例子，1963年2月19日授权的美国专利N0.3，078，006公开了一种被涂覆有硅树脂的金属烘焙模架，其具有不粘特性和改善的辐射热吸收特性，其中，少量的碳被包含在硅树脂涂层中。尽管进行了商业努力，但在该炉中烘焙的饼干片根据它们在烹饪区域内的位置通常导致一些饼干相对于其他饼干被更多地烹饪，不管使用的盘如何。已知控制在烘焙过程中炉内的热环境的努力和具有期望的热特性的盘。还已知提供了部分地通过具有多个烹饪区操作的炉。一些炉的壁已被覆盖有陶瓷、瓷料、铝、暗漆等，以在烹饪区域内产生期望的温度或便于清洁炉的侧面。其他炉简单地具有暴露的金属表面。类似地，烹饪盘已被修改，以产生期望的热特性和便于清洁盘的烹饪区域。简单的金属搁架、金属辊子和金属输送带通常用于配备有相应的搁架、辊子、带的商用炉中。2004年11月16日授权的美国专利N0.6，818，869公开了一种多面板或多层柜式炉，其采用单独控制来组合传导和辐射加热面板，且提供了在各种面板之间具有1-5个不同的烹饪区的选项。2001年5月8日授权的美国专利N0.6，229，117公开了一种面包返鲜炉，其具有内衬，该内衬是回弹的熔融氧化硅泡沫，且成非多孔陶瓷的形式的熔融氧化硅制成的托盘与该炉一起使用。1979年8月14日授权的美国专利N0.4，164，643公开了一种能量高效的双辐射炉系统，其中，公开了具有E=0.79的辐射率的黑色涂覆的铝盘；然而，在该系统中使用的炉具有炉衬，该炉衬具有高反射性金属和E=0.05水平上的辐射率值。迫切期望获得具有均匀的热分布的能量高效的炉。仍存在由于非均匀和不可预测的炉性能而导致食物损失的问题。期望具有这样一种炉，该炉将在烹饪区内均匀地加热，以可靠地和一致地产生大批量的相同的被烹饪的食品。
发明内容
本设计涉及食品和一种用于烹饪、尤其是烘焙食品的方法和设备。具体地讲，本设计涉及一种用于在这样的炉中烹饪食品的方法或过程和由此生产的食品，所述炉具有高辐射热保护层，所述高辐射热保护层设置在炉的金属和陶瓷内表面上，所述炉具有设置在其金属内表面上的高辐射热保护层。根据本设计的炉具有壳体，所述壳体包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区。传统加热装置被提供用于加热所述区，且可包括气体燃烧器或油燃烧器、电阻线圈、蒸汽管等。在炉内邻近加热区处设置至少一个衬底表面，包括顶部、底部、壁、加热装置、面板、门等，具有设置在其上的高辐射热保护层。用于金属表面的高辐射热保护层具有大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。用于陶瓷表面的高辐射热保护层具有大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的填料，和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。根据本设计的在用于制作被烹饪的食品的过程中使用的炉烹饪配件包括盘、烹饪片、搁架等。烹饪配件具有用于与食物接触的烹饪表面、和与烹饪表面相反的外侧表面，在烹饪配件的外侧表面上设置有高辐射热保护层。替代性实施例允许高辐射热保护层设置在其整个外表面上，包括外侧表面和烹饪表面。现有技术中众所周知的不粘层或其他层可设置在烹饪表面上。热保护层可设置在烹饪表面与不粘层或其他层之间。本设计涵盖一种用于制作食品的过程和由此制作的食品。所述用于制作食品的过程与炉内的衬底表面上没有设置高辐射热层的传统过程相比花费更少的时间，需要更少的能量。在本设计的炉中制作的以及通过本设计的过程制作的食品在相继的批次中更均匀，在炉的不同部分内的食品也更均匀。本设计的一个方面是具有至少一个均匀加热区域或加热区的炉，以均匀地烹饪其中的食品。本设计的替代性实施例可提供多个加热区。具有多个加热区的商用炉的例子包括隧道炉，所述隧道炉直接或间接地燃烧，且提供了食品行进通过的多个区。另一示例可为一些搁架式炉、柜式炉、托盘炉、转炉或披萨炉，它们可提供作为搁物架的分离的加热区，直接加热每个搁物架。本设计的另一方面是提供一种在炉中烹饪的已被制作好的食品，所述炉具有根据本设计的高辐射涂层，所述高辐射涂层设置在炉的内金属表面上，以提供遍布每个加热区域和加热区的一致均匀的加热。通过本设计最终生产的食品在尺寸、形状和烹饪程度方面均更均匀。多个批次也更为均匀。根据本设计的炉比缺少热保护层的其他炉提供了明显更均匀的烹饪环境，这产生基本均匀的烘焙食品。本设计的又一方面是提供一种具有根据本设计的高辐射热保护层的烹饪盘，所述高辐射热保护层设置在本是传统的烹饪盘的外侧上。在这种盘中制作的食品与在传统的盘中制作的食品相比具有明显更均匀的尺寸、形状和烹饪程度。高辐射热保护层用于均匀化温度和热效应，从而增大了本设计的炉内的热量的均匀性。本设计的另一方面是提供一种食品，所述食品的尺寸和形状均匀，这是因为炉内具有均匀的热环境。在这种盘和炉中制作的食品比在传统的炉和盘中制作的食品在它们的尺寸、形状和烹饪程度方面明显更均匀。本设计提高了红外烹饪/烘焙波长的波长分布。本设计的一个方面是提供一种设置在炉的内表面上的高辐射热保护层，以提供使炉内的被烹饪或烘焙的食品在最佳的温度下均匀地被加热的烹饪环境。辐射层使得烘焙时间降低，这提高了烘焙能力和/或降低了烘焙基于谷粒的食品所需的能量。本设计的另一方面是提供一种用于烘焙食品的方法和设备以及由此烘焙的食品，其中，由相同体积的配料制作的基本上所有食品具有均匀的尺寸和形状，且在长的时段上在不同的制作过程上是一致的。这对大致均匀的批量食品生产至关重要。本设计有利于该目标。通过进一步参看以下的附图和说明，本设计的这些和其他方面将变得易于明白。
所描述的实施例的新颖特征具体地记载在权利要求中；然而，与实现本设计的结构和过程相关的实施例可参看以下的描述和附图被最好地理解。图1是直接燃烧式隧道炉的截取的透视图，示出了隧道炉的内侧和炉配件，其上设有根据本设计的一个替代性实施例的高辐射热保护层。图2A是直接燃烧式隧道炉的图解视图，该直接燃烧式隧道炉使用输送带系统，且其上设有根据本设计的替代性实施例的高辐射热保护层。图2B是根据本设计的一个替代性实施例的使用了输送带系统的间接燃烧式隧道炉的图解视图，该间接燃烧式隧道炉中具有高辐射热保护层。图3是根据本设计的另一个替代性实施例的搁架式炉的图解视图，该搁架式炉中具有高辐射热保护层。图4是根据本设计的一个替代性实施例的对流炉的图解视图，该对流炉中具有高辐射热保护层。图5是根据本设计的一个替代性实施例的直接燃烧式托盘炉的图解视图，该直接燃烧式托盘炉中具有高辐射热保护层。图6是根据本设计的一个替代性实施例的转炉的透视图，该转炉中具有高辐射热保护层。图7是根据本设计的一个替代性实施例的冲击式炉的图解视图，该冲击式炉中具有高辐射热保护层。图8是根据本设计的一个实施例的多层柜式炉的图解视图，该多层柜式炉中具有高辐射热保护层。图9是根据本设计的一个实施例的传统消费炉的侧透视图，该传统消费炉中具有高辐射热保护层。图10是根据本设计的一个替代性实施例的消费多士煽炉的图解视图，该消费多士煽炉中具有高辐射热保护层。图1lA是根据本设计的一个替代性实施例的燃烧器屏蔽件的侧视图，该燃烧器屏蔽件上具有高辐射热保护层。图1lB是根据本设计的一个实施例的燃烧器屏蔽件的顶视图，该燃烧器屏蔽件上具有高辐射热保护层。图1lC是根据本设计的燃烧器屏蔽件和燃烧器组件的侧视图，该燃烧器屏蔽件和燃烧器组件上具有高辐射热保护层。图12是根据本设计的一个替代性实施例的蛋糕盘的侧剖切图，该蛋糕盘具有高辐射热保护层。图13是根据本设计的一个替代性实施例的饼干片的局部侧剖切图，该饼干片具有高辐射热保护层。图14是根据本设计的一个实施例的长方形烤盘的高处透视图，该长方形烤盘具有高辐射热保护层。图15是根据本设计的搁架的剖切视图，示出了设置在搁架的外表面上的高辐射热保护层。图16是烹饪配件的侧视图，该烹饪配件具有设置在烹饪表面上和外侧表面上的闻福射热保护涂层。图17是根据本设计的烹饪配件的侧视图，该烹饪配件具有设置在烹饪表面与不粘表面层之间的高辐射热保护层。图18是根据一个替代性设计的面板的视图。图19是根据另一个替代性设计的嵌入件的透视图。在所有附图中，相同的附图标记始终表示相应的特征。
具体实施例方式根据本设计的炉12如图1-10所示地具有壳体14，该壳体包括顶部16、底部20、两个相对的侧壁15和17以及借以形成至少一个内部加热区34的开口 21。传统加热装置38可包括传统气体燃烧器、线圈、蒸汽管等，所述加热装置38可具有设置在其上的高辐射热保护层18。提供了至少一个衬底表面，包括顶部16、底部20、壁15和17、加热装置38、面板40、门42等，它们具有设置在其上的高辐射热保护层18。面板40可以放置在炉中，以保护壁15和17、后壁23、顶部16或底部20，且可以是陶瓷的或金属的。加热装置38可以是直接燃烧式燃烧器、间接燃烧式燃烧器、或者直接或间接加热式电元件。图18和19示出了可用于传统炉中的烹饪配件，其包括可独自使用的面板40或一个以上的面板40。示出了另一个替代例，其具有嵌入件140，该嵌入件140的内侧表面或外侧表面上具有高辐射热保护层18，根据另一替代性设计，其中包括加热区34。用于金属表面的高辐射热保护层18具有大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。用于陶瓷表面的高辐射热保护层18具有大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。根据本设计的替代性实施例，本设计涵盖具有高辐射热保护层18的任何烹饪炉。图1示出了直接燃烧式隧道炉，其是一种具有多个加热区34以及输送系统22、24和26的炉12。输送系统22、24和26包括辊子22或带24，以将包含烹饪盘30的搁架28移动通过每个加热区34。高辐射热保护层可至少部分地设置在输送系统22、24和26、辊子22、带24或搁架28或它们的组合上。图2A示出了直接燃烧式隧道炉12，其使用了输送带系统22、24和26，且具有设置在其中的高辐射热保护层18。图2B示出了间接燃烧式隧道炉12，其使用了输送带系统22、24和26，与直接燃烧式隧道炉12类似，具有设置在其中的高辐射热保护层18。间接和直接燃烧式隧道炉12可具有多个加热区34，以便于以最佳的方式烹饪食品。每个加热区34可具有不同的合适温度。图3示出了搁架式炉，其可在每个搁架之间具有分离的加热区34，且可具有设置在搁架以及壁、顶部和底部上的高辐射热保护层18。图4示出了对流式炉，其具有设置在其中以及门42上的高辐射热保护层18。图5示出了直接燃烧托盘式炉，其可以以与隧道炉相同的方式在其中具有多个加热区34。间接燃烧托盘式炉也是公知的。图6示出了转炉，其具有带有高辐射热保护层18的门42和转动搁架系统50。图7示出了冲击式炉，其中也可具有多个加热区34。图8示出了多层柜式炉，其每层内可具有加热区34。图9示出了传统消费炉，图10示出了消费多士煽炉。图11A-11C中示出了传统燃烧器和燃烧器屏蔽件的替代例。图1lA和IlB示出了燃烧器屏蔽件16，其在热辐射从燃烧器38发出时引导该热辐射。燃烧器38和/或燃烧器屏蔽件16可具有设置在其上的高辐射热保护层18。其上具有高辐射热保护层18的燃烧器屏蔽件16功能上优于其上不具有层18的相同的燃烧器屏蔽件16。应当理解，层18可以设置在表面的任一侧，且将期望的特性赋予给被涂覆的材料。图12-17中示出的炉烹饪配件，包括盘30、烹饪片30、搁架28等具有用于与食物接触的烹饪表面42和与内侧表面42相反的外侧表面44，外侧表面44上设置有高辐射热保护层18。替代性实施例允许高辐射热保护层18设置在包括外侧表面44和烹饪表面42的整个外表面42和44上。如图17所示的不粘层46或现有技术中众所周知的其他层可设置在烹饪表面42上。热保护层可设置在烹饪表面42与不粘层46之间。所述烹饪配件可由金属、纤维或硅橡胶构成，且可以具有或不具有设置在其上或设置在其层中的辐射屏蔽件。本设计涵盖制作食品的过程和由此制作的食品。所述用于制作食品的过程比炉内的衬底表面上没有设置高辐射热层的传统的产品花费更少的时间和需要更少的能量。在本设计的炉中和通过本设计的过程制作的食品在相继的批次中和炉的不同部分中的食品方面更一致。衬底表面包括炉壁、顶部、底部、门、搁架、辐射管、蒸汽管、管屏蔽件、反射器、加热元件、燃烧器、燃烧器屏蔽件、面板、嵌入件、辊子、输送带、炉框架等，包括炉内的所有暴露的金属表面。衬底表面还包括在炉内使用但可从炉移除的器件，包括搁架、烹饪盘、烘焙片和承载搁架盘的任何表面。本设计涵盖的商用炉包括但不限于:直接和间接加热式隧道炉、多层柜式炉、蒸汽管炉、冲击式炉、混合炉和消费炉。本设计涵盖的消费炉包括但不限于:传统炉(不管是气体燃烧式的还是电式的)、对流炉、多士煽炉、面包机、多士炉等。本设计涵盖的多层柜式炉(不管是电式的或气体燃烧式的、传统的还是对流的)包括披萨炉、蒸汽管炉、搁架、转动搁架、柜式炉、模块化炉等。面板和嵌入件是可放置在炉中代替用高辐射热保护层涂覆炉的金属或陶瓷配件。面板可以是扁平的而具有两侧:内侧和外侧。替代性地，也可使用盖状的嵌入件，其内部具有形成热区的开口。嵌入件可像炉那样具有顶部和侧部，并且其中具有用于形成热区的开口。待烹饪的物品要么通过一侧放置在开口内，要么通过使嵌入件放置在待烹饪的食物的顶部上。与食物直接接触的烹饪配件还可具有根据本设计的高辐射热保护层18，其设置在烹饪配件的表面上，或集成在多层内。最期望的是，高辐射层设置在盘的、片的和搁架的底表面上。一个替代例还允许高辐射层设置在顶侧和底侧。在本设计的一些替代性实施例中，炉和烹饪配件可具有不粘层或其他分层结构，其中，高辐射层设置在不粘层之下或顶部上。替代性地，其上设置有高辐射层的面板可放置在炉内。替代性地，炉可具有直接放置被烹饪的物品的炉底，包括金属丝网带、钢板、铰链板、石板、陶瓷板和人造复合水泥板。金属和合金衬底表面发现于大部分炉中，且包括大部分表面，包括壁、顶部、底部、门、搁架、蒸汽管、管屏蔽件、管道、热交换器、催化剂板、反射器、燃烧器、燃烧器屏蔽件、面板、辊子、输送带等。陶瓷材料可在炉中用于加热元件、屏蔽件、反射器、辐射管、蒸汽管等，且还可用于炉壁、顶部、底部等以及它们的一部分。本设计所覆盖的炉可通过气体(包括天燃气、丙烷、LPG、丁烷和城市煤气)、油(包括N0.2燃油、船用燃料、柴油、煤油和石脑油)、煤、木材、植物燃料、燃料电池、乙醇和电被提供燃料。食品包括:面包、小圆面包、卷制品、百吉饼、蛋糕和类似物。面包包括白面包、全谷粒面包、特制面包、高度发酵面包、炉火面包、和吐司面包。特制面包包括拖鞋面包、口袋面包和扁平面包。小圆面包包括:白小圆面包、全谷粒小圆面包、特制小圆面包、高度发酵小圆面包、炉火小圆面包和吐司小圆面包。卷制品包括特制卷制品、全谷粒卷制品、蔷薇花状卷制品、顶部裂开卷制品、父叉卷制品、水卷制品、大块卷制品、子卷制品、夹焰卷制品、鱼雷卷制品和类似物(包括盘烘焙和炉火烘焙)。百吉饼、洋葱卷包和百吉螺旋饼也被包括在内。甜心包括蛋糕、馅饼、油酥面团、饼干、脆饼、和甜食物。包括麸质和无麸质的食品在内的所有谷粒食品被包括在内。用于金属衬底的热保护层18包括:大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料、和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或用于陶瓷衬底的热保护层18包括大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的填料，和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。高辐射热保护层18可以作为高辐射多功能热保护涂层施加。替代性的合适涂层和施加方法描述于美国专利US7105047和6921431中，它们的内容整体包括在本申请中。本设计的适合于形成金属/合金衬底表面上的热保护层的高辐射涂层可在干混合物中包含大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。优选地,干混合物还包含大约1%至大约5%的稳定剂。根据本设计的替代性实施例，适合于形成烹饪炉内的陶瓷表面上的热保护层的一种替代性的高辐射涂层可包含大约5%至大约35%的胶体氧化硅、大约23%至大约79%的至少一种填料、大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。优选地，本设计的热保护层还包含大约1.5%至大约5.0%的稳定剂。如在此所使用的，所有百分比(%)是重量百分比，也被解释为重量/重量％、% (w/w) ,w/w,w/w%或简单的％，除非另外指出。此外，在此所使用的术语“湿混合物”对应于热保护涂层的组分在溶液中的相对百分比，“干混合物”对应于在添加水之前的干的热保护涂层混合物的组分的相对百分比。换言之，干混合物百分比是没有考虑水的百分比。湿混合物是指溶液中的混合物(具有水)。“湿重量百分比”是湿混合物中的重量，“干重量百分比”是干混合物中的重量，不遵守湿重量百分比。在此所使用的术语“总固体”是指氧化硅/氧化铝和碱或氨(NH3)总和加上包括杂质在内的所有固体部分。固体组分的重量除以整个溶液的质量再乘以100得到“总固体”的百分比。制备涂层的方法涉及将涂层的湿混合物施加到待涂覆的表面上。替代性方法可包括将湿混合物喷到表面上或雾化干混合物并相应地涂覆表面。在根据本设计的涂层溶液中，要施加在烹饪炉内的金属/合金衬底表面上的热保护涂层的湿混合物包含大约6%至大约40%的无机粘合剂、大约23%至大约46%的填料、大约0.5%至大约10%的一种或多种辐射剂和大约18%至大约50%的水。为了延长涂层溶液的保存期限，大约0.5%至大约2.5%的稳定剂优选地添加至湿混合物。湿混合物涂层溶液包含在大约40%-大约60%之间的总固体。在根据本设计的涂层溶液中，要施加至陶瓷衬底表面的替代性热保护涂层的湿混合物包含大约15%至大约45%的胶体氧化硅、大约23%至大约55%的至少一种填料、大约
0.5%至大约15%的一种或多种辐射剂、大约0.5%至大约2.5%的稳定剂和大约18%至大约40%的水。湿混合物涂层溶液包含在大约40%-大约70%之间的总固体。无机粘合剂优选是从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙、硅酸镁构成的组中选择的碱金属/碱土金属硅酸盐和聚硅酸盐。胶体氧化硅优选是单分散分布的胶体氧化硅，因此，具有非常窄的范围的颗粒尺寸。填料优选是从以下组中选择的金属氧化物:二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼。辐射剂优选地从以下组中选择:六硼化硅，四硼化碳，四硼化硅，碳化硅，二硅化钥，二硅化钨，二硼化锆，亚铬酸铜和金属氧化物例如氧化铁、氧化镁、氧化锰、铜铬氧化物和氧化铬、氧化铈、氧化铽和它们的衍生物。本设计中所使用的铜铬氧化物是亚铬酸铜和氧化铜的混合物。稳定剂可从以下组中选择:膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆。稳定剂优选是膨润土。其他球粘土稳定剂可在此替代作为稳定剂。胶体氧化铝(附加于或替代胶体氧化硅)还可被包括在本设计的混合物中。当胶体氧化铝和胶体氧化硅混合在一起时，其中一种或另一种需要表面改性，以便于混合，如现有技术中所公知的那样。着色剂可以被添加到本设计的保护涂层，以将着色剂赋予给炉或炉配件。食用安全色素可被添加到保护涂层，而不会产生有毒气体。通常，食用安全色素分为子类:彩色(盐和氧化物)、黑色、白色和金属的。本设计的一个优选实施例包含大约10%至大约25%的硅酸钠、大约50%至大约79%的二氧化硅粉末和大约4%至大约15%的一种或多种辐射剂的干混合物，所述辐射剂从以下组中选择:氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆。热涂层的优选实施例可在干混合物中包含大约1.0%至大约5.0%的膨润土粉末。对于该实施例来说，相应的涂层在溶液(湿混合物)中包含大约10.0%至大约35.0%的硅酸钠、大约25.0%至大约50.0%的二氧化硅、大约18.0%至大约39.0%的水和大约1.0%至大约8.5%的一种或多种辐射剂。该湿混合物必须立即使用。为了提供可储存和随后使用的涂层溶液混合物(湿混合物)，热涂层的优选实施例包含大约0.25%至大约2.50%的膨润土粉末。优选地，使用无离子水。湿混合物的优选实施例具有大约45%至大约55%的总固体含量。本设计的优选的热保护涂层包含大约15.0%至大约20.0%的硅酸钠、大约69.0%至大约79.0%的二氧化硅粉末、大约1.00%膨润土粉末和大约5.00%至大约15.0%的辐射剂的干混合物。辐射剂选自以下组中的一种或多种:氧化铁、硼化硅、二硅化钥、二硅化钨和碳化硼。最优选的湿混合物包含大约20.0%的硅酸钠、大约34.5%至大约39.5%的二氧化硅粉末、大约0.500%的膨润土粉末和大约2.50%至大约7.5%的辐射剂，其中，平衡物是水，娃酸钠基于大约37.45%的娃酸钠固体含量。福射剂最优选地从以下组中选择:氧化铁、硼化硅和碳化硼(也称作四硼化碳)。优选实施例包括这些实施例:辐射剂包括大约2.50%的氧化铁、大约2.50%至大约7.5%的硼化硅或大约2.50%至大约7.50%的碳化硼。根据本设计的最优选的湿混合物的PH为大约11.2±1.0,比重为大约1.45±0.05，总固体含量为大约 50±0.3%ο本设计的一个优选实施例包含以下干混合物:大约10.0%至大约30.0%的胶体氧化硅、大约50%至大约79%的二氧化硅粉末、大约2%至大约15%的一种或多种辐射剂以及大约1.5%至大约5.0%的膨润土粉末，所述辐射剂从以下组中选择:氧化铈、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆。对于该实施例，相应的涂层在溶液(湿混合物)中包含大约20.0%至大约35.0%的胶体氧化硅、大约25.0%至大约55.0%的二氧化硅、大约18.0%至大约35.0%的水、大约2.0%至大约7.5%的一种或多种辐射剂以及大约0.50%至大约2.50%的膨润土粉末。优选地，使用无离子水。湿混合物的优选实施例具有大约50%至大约65%的总固体含量。本设计的最优选的热保护涂层包含以下干混合物:大约15.0%至大约25.0%的胶体氧化硅、大约68.0%至大约78.0%的二氧化硅粉末、大约2.00%至大约4.00%的膨润土粉末和大约4.00%至大约6.00%的辐射剂。辐射剂选自以下中的一种或多种:硼化锆、硼化硅、和碳化硼。最优选的湿混合物包含大约27.0%的胶体氧化硅、大约25%至大约50%的二氧化硅粉末、大约1.50%的膨润土粉末和大约2.50%至大约5.50%的辐射剂，其中，平衡物为水，所述胶体氧化硅基于大约40%的胶体氧化硅固体含量。所述辐射剂最优选地从以下组中选择:硼化锆、硼化硅、二硅化钥、二硅化钨和碳化硼。优选实施例包括这些实施例:辐射剂包括大约2.50%的二硼化锆、大约2.50%的硼化硅或大约2.50%至大约7.50%的碳化硼。最优选的湿混合物的比重为大约1.40至1.50,总固体含量为大约50%至60%。
可用于本设计中的无机粘合剂包括N(商标)型硅酸钠，其可从PQ公司(福吉谷，费城)获得。硅酸钠(Na20*XSi02)是硅的金属氧化物。所有可溶解的硅酸盐可通过被定义为氧化硅与碱的重量比(Si02/Na20)的它们的比率区别。比率决定涂层的物理和化学性能。硅酸盐的玻璃特性给被干燥的膜或涂层赋予了强和刚性的物理特性。根据环境温度和相对湿度，硅酸盐空气干燥到特定的水分水平。需要加热使这些膜完全干燥一硅酸盐变得几乎不可溶解的条件。与其他材料例如铝或钙化合物的反应将使得膜涂层完全不可溶解。以下的例子中使用的N(商标)型硅酸钠具有3.22的重量比的Si02/Na20、8.9%的Na20、28.7%的SiO2，密度(在 20°C 的室温下)为 41.0。Be’、11.61b/gal*1.38g/cm3。pH 为 11.3，粘度为180厘泊。N型硅酸钠处于浆状液体的状态下。术语“总固体”是指氧化硅和碱的总和。重量比值是最重要的硅酸盐变量。比值决定产品溶解性、反应性和物理性能。比值是氧化硅与碱的重量比或摩尔比。密度是总固体的表示，且通常通过使用比重计或密度计确定。Ludox (商标)TM50胶体氧化娃和Ludox (商标)AS40胶体氧化娃可从GraceDavidson(哥伦比亚,马里兰州)获得。Ludox(商标)胶体氧化娃中的颗粒是由氧化娃构成的分离的均匀球，其不具有内表面区域或可探测的结晶度。大部分分散在碱性介质中，碱性介质与氧化娃表面反应，以产生负电荷。由于负电荷，颗粒彼此排斥而形成稳定的产品。尽管大部分粒级在PH8.5-11.0之间是稳定的，但一些粒级在中性pH范围中是稳定的。Ludox (商标)胶体氧化硅的非常小的氧化硅颗粒的含水的胶体分散物。它们是乳色到乳白色液体。由于它们的胶体特性，Ludox(商标)胶体氧化娃的颗粒具有大的比表面积,这使得具有新的性能和宽种类的使用。Ludox(商标)胶体氧化硅可以两个主类获得:单分散，Ludox (商标)胶体氧化硅的非常窄的颗粒尺寸分布；和多分散，Ludox (商标)P的宽的颗粒尺寸分布。Ludox (商标)胶体氧化硅通常通过凝胶化而转变为干固体。胶体氧化硅可通过
(I)去除水，(2)改变pH，或(3)添加盐或水溶性有机溶剂而被凝胶化。在干燥过程中，颗粒的表面上的羟基通过裂解水形成产生并合和交织砌合的硅氧烷键(S1-O-Si)而冷凝。Ludox(商标)胶体氧化硅的被干燥的颗粒是化学惰性的且耐热的。颗粒产生强的粘合和凝聚结合，且对于所有类型的粒状和纤维材料均是有效的粘合剂，尤其是当需要在高温下使用时。胶体氧化铝可以通过Nyacol (商标)胶体氧化铝获得，具体地讲，可以是从NyacolNano Technologies公司(阿什兰，马萨诸塞州)获得的Nyacol (商标)AL20,且在无离子水中可用于将钠和氯水平降低到小于lOppm。它包含大约20%的重量百分比的Al2O3, 50nm的颗粒尺寸，正颗粒电荷，PH4.0, 1.19的比重，IOcP的粘度。填料可以是二氧化硅粉末、例如可从美国Silica(柏克莱泉，西弗吉尼亚州)获得的Min-U-Sil (商标)5 二氧化硅。该二氧化硅是细研磨的氧化硅。对Min-U-Sil (商标)二氧化硅的化学分析表明以下含量:98.5%的二氧化硅，0.060%的氧化铁，1.1%的氧化铝，
0.02%的二氧化钛，0.04%的氧化钙，0.03%的氧化镁，0.03%的过氧化钠，0.03%的氧化钾和0.4%的燃烧损失。常规物理性能是411bs/ft3的压实密度，361bs/ft3的松散密度，7Moh的硬度，7.5的细度，1.7微米的平均直径，44的吸油量(D-1483)，6.2的pH，97%_5微米，
0.005%+325目，92%的反射比，4.2的黄度指数和2.65的比重。辐射剂可从多个渠道获得。辐射率是表面吸收和发出辐射的相对功率，由一表面发出的辐射能与相同温度下的黑体发出的辐射能之比。辐射度是由物体的表面的每单位面积再辐射的能量。可用作本设计中的辐射剂的还称作四硼化碳的碳化硼作为1000W碳化硼售卖且可从Electro Abrasives (布法罗，纽约州)获得。碳化硼是可获得的人造最硬的材料。在1300°C以上，它甚至比金刚石和立方氮化硼还要硬。根据密度，它具有50000至70000psi的四点挠曲强度和414000psi的耐压强度。碳化硼还具有低的热传导率(29至67W/mK)和具有从0.1至lOohm-cm的电阻率。常规的化学分析显示:77.5%的硼，21.5%的碳，0.2%的铁，硼与碳总计98%。硬度为2800努氏硬度和9.6Moh，熔点为4262° F.(2350°C )，氧化温度为 932。F.(5000C )，比重为 2.52g/cc。1000W绿碳化娃(SiC),可选的福射剂，也可从Electro Abrasives获得。绿碳化硅是极其硬(努氏硬度2600或Moh9.4)的人造矿物，其具有高的热传导率(100W/m-K)。它还在高温下具有高的强度(在1100°C下，绿SiC的强度为Al2O3的7.5倍)。绿SiC具有41OGPa的弹性模量，高达1600°C强度也没有降低，且它在常压下不融化，而是在2815.5°C下离解。绿碳化硅是由氧化硅砂和和焦炭制成的配料组成，且极其纯。对于绿碳化硅，物理性能如下:硬度为2600努氏硬度和9.4Moh，熔点为4712° F.(2600°C )，比重为3.2g/cc。常规化学分析是:99.5%的SiC,0.2%的SiO2,0.03%的总Si，0.04%的总Fe，和0.1%的总C。商用碳化硅和二硅化钥可能需要清洁，如现有技术中众所周知，以消除在制造过程中产生的可燃气体。硼化硅(B6Si)可从Cerac (密尔沃基，威斯康星州)获得。可从Cerac获得的还称作六硼化硅的硼化硅具有-200目和大约98%的典型纯度。硼化锆(ZrB2)也可从Cerac获得，其具有10微米或更小的(-325目)的典型平均尺寸和大约99.5%的典型纯度。可从Hoover Color (海沃西，弗吉尼亚州)获得的氧化铁是合成黑色氧化铁(Fe2O3)，其具有60%的氧化铁含量，4.8gm/cc的比重，1.3gm/cc的振实密度的(还称作，堆密度)，151bs/1001bs的吸油量，0.005的325目残留，7至10的pH。优选地，本设计的混合物包括:膨润土粉末、片状氧化铝或镁铝硅酸盐粘土。膨润土粉末允许本设计在较晚的日期制备和使用。必须在没有膨润土粉末的情况下立即使用本设计的制备物。为本设计提供的例子包括PolarGel膨润土粉末,其可从Mineral andPigment Solutions公司(南普莱恩菲尔德,新泽西州)获得。技术级膨润土通常用于悬浮、乳化和粘合剂的目的，且作为神奇改性剂。常规化学分析:59.00%至61.00%的二氧化硅(SiO2) ,20.00% 至 22.00% 的氧化铝(Al2O3)、2.00% 至 3.00% 的氧化钙(CaO)、3.50% 至 4.30%的氧化镁(MgO)、0.60% 至 0.70% 的氧化铁(Fe2O3)、3.50% 至 4.00% 的氧化钠(Na2O)、0.02%至0.03%的氧化钾(K2O)和0.10%至0.20%的二氧化钛和最大8.0%的水分。pH值的范围从9.5至10.5。典型的物理性能是83.0至87.0的干亮度，2.50至2.60的比重，20.82磅/固体加仑，一磅散料0.0480加仑,24ml的最小膨胀力，最大2ml的凝聚形成，100。00%通过200目。片状氧化铝(氧化铝表T64条目635)和镁铝硅酸盐粘土(镁铝硅技术条目105)也可从 Mineral and Pigment Solutions 公司获得。可以被添加到本设计的着色剂包括但不限于无机颜料。合适的无机颜料例如黄色氧化铁、氧化铬绿、红色氧化铁、黑色氧化铁、二氧化钛可从Hoover Color公司获得。另外合适的无机颜料，例如铜铬黑、铬绿黑、钛镍黄、钛锰棕和钴铬蓝可从The Shepherd Color公司(辛辛那提市，俄亥俄州)获得。表面活性剂和/或分散剂可以在将热保护层施加到支撑层上之前被添加到湿混合物。表面活性剂是可从Air Products and Chemicals公司(阿伦敦,美国宾夕法尼亚州)获得的Surfyonol (商标)465表面活性剂。Surfyonol (商标)具有乙氧基2，4，7，9-四甲基5癸炔-4，7- 二醇的化学结构。也可使用其他表面活性剂，例如STANDAPOL(商标)T、具有十二烧基硫酸三乙醇胺的化学结构的INC1、可从Cognis-Care Chemicals (辛辛那提市，美国俄亥俄州)获得的液体温和型主表面活性剂。表面活性剂在湿混合物中的重量百分比为大约0.05%至大约0.2%ο热保护涂层施加到所述表面上，以形成热保护层。衬底表面可以是金属衬底，例如铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢等，或它可以是如现有技术中众所周知的陶瓷表面。所述涂层典型地湿施加，且允许空气干燥或热干燥。对于金属、合金或陶瓷表面，衬底表面的准备稍有不同。本设计可与需要有限的表面准备的新炉一起使用，或可用于翻新旧炉。在任一种情况下，衬底表面应被清除掉所有灰尘、松散材料、表面活性剂、油、任何杂质等。如果需要，新炉或用过的炉中的金属表面可被喷砂处理。喷砂处理可期望用于去除氧化、其他污染物，且仅提高了金属表面的特性。砂介质应是锋利颗粒。根据切割类型、金属条件和期望的特性，喷枪压力将会变化。旧金属将需要较高的psi，例如高达70-80psi。需要无油和无水的压缩空气。需要合适的过滤器去除油和水。也可利用其他碱性金属清洁剂。已被清洁和处理好的陶瓷表面通过轻刷丝刷拭和抽真空处理而被清洁。在喷砂处理之后，表面应利用洁净的无油和无水的空气喷射被彻底地清洁，以去除所有松散颗粒。避免手印污染表面。丙酮可用在(当用丙酮工作时，应处于合适的通风条件下且采取所有必要的预防措施)洁净的布上来擦拭金属表面使其干净。在某些不锈钢上可使用清洁化合物来代替喷砂处理。许多碱金属清洁剂(粉末或液体)在本领域中是公知的且可使用，只要所述表面被彻底地清洁而没有残留物和颗粒物保留即可。陶瓷表面不需要进一步清洁，但在油或类似物已经溅到表面上时，也可使用丙酮清洁。当使用湿混合物时，固体可能在运输或储存过程中沉降。在使用之前，所有之前混合的涂层必须被彻底地再混合，以确保所有沉降的固体和结块可完全被再次分散开。当未使用稳定剂时，涂层不可储存太长。在任何情况下，涂层应在混合之后立即使用，以最小化沉降。对于I加仑和5加仑的容器，混合指令如下。对于I加仑的容器直径为5’ ’的、对于5加仑的容器直径为7’ ’的高速/高剪切锯齿分散刀片可附连到具有足够功率的手钻上，该手钻无负载时具有最小2000rpm的剪切速度。分散刀片可从多个供应商购买。最少持续30分钟高速混合，以确保完全再分散。产品应在清洁金属表面之后立即施加，以最小化表面氧化的发生。产品应在良好的通风和照明区域施加，或应使用适合于环境的保护设备，例如在火箱内。混合的产品应不被过滤或稀释。高容积低压力(HVLP)喷枪应使用20-40psi的清洁的无油和无水的空气工作。需要合适的过滤器来去除油和水。替代性地，也可使用无空气喷枪。其他类型的喷射设备也是合适的。施加者应在喷射实际部件之前在金属废料上喷射，以确保合适的覆盖密度。对于在陶瓷表面例如难熔材料上的施加，无空气喷射系统是优选的。对于金属施加，高速罐式搅动器系统可能是有利的。可选择合适的喷枪嘴来在没有过多的实验的情况下提供合适的厚度。控制覆盖密度对涂层性能可能至关重要。根据衬底的类型、尺寸和条件，热层厚度应为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ)。1密耳等于25.4 μ。合适的厚度可变化。如果可能，至少转动部件90度一次，以保持均匀的覆盖。根据湿度和温度，在部件被操纵之前允许1至4小时的干燥时间。示例I包含15.0%干重量和20.0%湿重量(基于37.45%的硅酸钠固体含量)的N级硅酸钠、79.0%干重量和39.5%湿重量的Min-U-Sil5Si02粉末、5.00%干重量和2.50%湿重量的1000W B4CU.00%干重量和0.500%湿重量的PolarGel膨润土粉末(条目#354)和37.5%的水(基于37.45%的硅酸钠固体含量)。示例I的pH为11.2±1.0，比重为
1.45±0.05，总固体含量为50±0.3%。示例I通过将液体成分放置在洁净的相对较干的混合容器中制备。在混合时，其余的成分缓慢地添加到混合物，以防止粉末成块和附着在混合容器的侧面。然后，根据混合器的配置，混合物以高的功率混合至少20分钟。混合在高剪切混合器中执行，该混合器具有2.5英寸的Cowles高剪力叶片，使用0.5马力的电机在没有负载下产生7500rpm。示例2包含15.0%干重量和20.0%湿重量的N级硅酸钠(基于37.45%的硅酸钠固体含量)、69.0%干重量和34.5%湿重量的min-U-Sil5Si02粉末、15.0%干重量和7.5%湿重量的IOOOff B4C' 1.00%干重量和0.500%湿重量的PolarGel膨润土粉末(条目#354)和37.5%的水(基于37.45%的硅酸钠固体含量。示例2的pH为11.2± 1.0，比重为1.45±0.05，总固体含量为50±0.3%。不例2以与不例I相同的方式制备。示例3包含15.0%干重量和20.0%湿重量的N级硅酸钠(基于37.45%的硅酸钠固体含量)、79.0%干重量和39.5%湿重量的min-U-Sil5Si02粉末、5.00%干重量和2.50%湿重量的硼化硅、1.00%干重量和0.500%湿重量的PolarGel膨润土粉末(条目#354)和37.5%的水(基于37.45%的硅酸钠固体含量)。示例3的pH为11.2± 1.0，比重为1.45±0.05，总固体含量为50±0.3%。不例3以与不例I相同的方式制备。示例4包含15.0%干重量和20.0%湿重量的N级硅酸钠(基于37.45%的硅酸钠固体含量)、79.0%干重量和39.5%湿重量的min-U-Sil5Si02粉末、5.00%干重量和2.50%湿重量的氧化铁、1.00%干重量和0.500%湿重量的PolarGel膨润土粉末(条目#354)和37.5%的水(基于37.45%的硅酸钠固体含量)。示例4的pH为11.2 ± 1.0，比重为1.45 ±0.05，总固体含量为50±0.3%。不例4以与不例I相同的方式制备。本设计的示例涉及将高辐射涂覆面板添加到直接燃烧式行进托盘(隧道)炉的整个内侧上。最终产生的炉降低了烘焙时间，且使产量增大5%。期待预期的烘焙时间的降低和高达20%的产量提高。实现了 20%以上的能效。另外，通过使辐射面板遍布炉的整个内侧设置，使得具有更一致的产品高度。过量空气被降低2.7倍。直接燃烧式行进托盘(隧道)炉的燃烧效率增加了 27%。总体上，对烘焙的改进预期使烘焙时间降低高达50%，这使得炉的产率提高，为烘焙单位质量的产品所需的能量降低高达50%。应当理解，本设计并不局限于上述实施例，而是涵盖以下权利要求的范围内的任何和所有实施例。
权利要求
1.一种制作食品的过程，所述过程包括: 提供炉，所述炉具有: 壳体，其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区，以在加热区中接收炉烹饪配件； 用于向加热区提供热量的加热装置； 设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层，其中， 衬底表面包括设置在炉壳体内的金属或陶瓷表面；和 所述高辐射热保护层包括: 大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂； 提供用于在加热过程中保持混合的配料或准备的面团的烹饪配件； 在烹饪配件中保持所述混合的配料或准备的面团；和 在至少一个加热区中加热烹饪配件，直到制作好食品。
2.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ )厚；或 它们的组合。
3.如权利要求1所述的过程，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料 ’大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约.5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定 性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约.2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
4.如权利要求1所述的过程，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个衬底表面；和 所述至少一个衬底包括面板、嵌入件、壁、底部、烹饪配件、盘、片、搁架、门、后壁、元件、燃烧器、燃烧器屏蔽件、输送器、带、辊子和它们的组合。
5.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中: 烹饪配件包括:用于与食物接触的烹饪表面； 与烹饪表面相反的外侧表面；和 设置在烹饪配件的表面上的高辐射热保护层。
6.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中:烹饪配件从由盘、片、模壳、搁架和它们的组合构成的组中选择。
7.如权利要求1所述的制作食品的过程，还包括: 移动烹饪配件，以便于在至少两个加热区中加热。
8.如权利要求7所述的制作食品的过程，其中: 烹饪配件设置在带或辊式输送系统上，高辐射热保护层至少部分地设置在所述带或辊式输送系统上。
9.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中: 高辐射热保护层设置在至少一个被涂覆的面板或被涂覆的嵌入件上；分布在炉内的面板或嵌入件覆盖至少一个壁、底部、顶部或它们的组合。
10.一种食品,包括: 由一个过程制作的至少一个食品，所述过程包括: 提供炉，所述炉具有: 壳体，其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区，以在加热区中接收炉烹饪配件； 用于向加热区提供热量的加热装置； 设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层，其中， 衬底表面包括金属或陶瓷表面；和 所述高辐射热保护层包括: 大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂； 提供用于在加热过程中保持混合的配料或准备的面团的烹饪配件； 在烹饪配件中保持所述混合的配料或准备的面团；和 在至少一个加热区中加热烹饪配件，直到制作好食品。
11.如权利要求10所述的食品，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂和分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ )厚；或 它们的组合。
12.如权利要求10所述的食品，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属 氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
13.如权利要求10所述的食品，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个衬底表面；和 所述至少一个衬底包括面板、嵌入件、壁、底部、烹饪配件、盘、片、搁架、门、后壁、元件、燃烧器、燃烧器屏蔽件、输送器、带、辊子和它们的组合。
14.如权利要求10所述的食品，其中: 烹饪配件包括:用于与食物接触的烹饪表面； 与烹饪表面相反的外侧表面；和 设置在烹饪配件的外侧表面上的高辐射热保护层。
15.如权利要求10所述的食品，其中: 烹饪配件从由盘、片、模壳、搁架和它们的组合构成的组中选择。
16.如权利要求10所述的食品,还包括: 移动烹饪配件，以便于在至少两个加热区中加热。
17.如 权利要求16所述的食品，其中: 烹饪配件设置在带或辊式输送系统上，热保护层至少部分地设置在所述带或辊式输送系统上。
18.如权利要求10所述的食品，其中: 高辐射热保护层设置在至少一个被涂覆的面板或嵌入件上；分布在炉内的面板或嵌入件覆盖至少一个壁、底部、顶部或它们的组合。
19.一种炉，包括: 壳体，其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区，以在加热区中接收炉烹饪配件； 用于向加热区提供热量的加热装置； 设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层，其中， 衬底表面包括金属或陶瓷表面；和 所述高辐射热保护层包括: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。
20.如权利要求19所述的炉，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种 辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约ΙΟΟμ )厚；或 它们的组合。
21.如权利要求19所述的炉，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁、聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少 一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约.5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约.2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
22.如权利要求19所述的炉，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个衬底表面。
23.如权利要求19所述的炉，其中: 衬底表面是顶部、底部、两个相对的侧壁、或炉框架、或它们的组合。
24.如权利要求19所述的炉，还包括: 后壁和与后壁相对设置的门；和 后壁、门、或它们的组合上设置有高辐射热保护层。
25.如权利要求19所述的炉,还包括: 多个加热区；和输送系统，其中 输送系统包括辊子或带，以将包含烹饪配件的搁架移动通过每个加热区；和 输送系统、棍子 、带、或搁架、或它们的组合。
26.炉烹饪配件，包括: 用于与食物接触的烹饪表面； 与烹饪表面相反的外侧表面，其中，高辐射热保护层设置在烹饪配件的外侧表面上；和 闻福射热保护层包括: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。
27.如权利要求26所述的炉烹饪配件，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100 μ )厚；或 它们的组合。
28.如权利要求26所述的炉烹饪配件，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；· c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱 土金属娃酸盐·从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁、聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、 二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约·5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约·2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
29.如权利要求26所述的炉烹饪配件，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个表面。
30.如权利要求26所述的炉烹饪配件，还包括: 设置在烹饪表面上的用于与食物接触的一层不粘表面；其中 高辐射热保护层设置在不粘表面与烹饪表面之间。
31.如权利要求26所述的炉烹饪配件，其中: 高辐射层设置在包括烹饪表面和与烹饪表面相反的外侧表面在内的暴露表面上。
32.一种炉配件，包括: 相反的第一和第二表面，其中，高辐射热保护层设置在烹饪配件的任一表面或所述两个表面上；和 闻福射热保护层包括: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。
33.如权利要求32所述的炉烹饪配件，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙、硅酸镁和聚硅酸盐构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ )厚；或 它们的组合。
33.如权利要求26所述的炉配件，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的 组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约.5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至 大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约.2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
34.如权利要求32所述的炉配件，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个面板或嵌入件的至少一个表面。
35.如权利要求32所述的炉烹饪配件，其中: 嵌入件形成盖，所述盖中具有用于烹饪食品的加热区。
36.如权利要求35所述的炉烹饪配件，其中: 嵌入件具有顶部和至少两个壁，所述顶部和至少两个壁绕着加热区形成。
全文摘要
提供了一种炉和可选的烹饪配件，其在包括金属或陶瓷的基底表面上具有高辐射热保护层。所述层包括大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。
文档编号A21B1/42GK103220912SQ201180056412
公开日2013年7月24日 申请日期2011年9月23日 优先权日2010年9月24日
发明者J·W·奥尔弗, P·J·多梅尼库奇, J·埃梅里 申请人:埃米希尔德股份有限公司, Amf自动化技术有限责任公司
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