光学设备用遮光部件的制作方法

xiaoxiao2020-7-2  2

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专利名称:光学设备用遮光部件的制作方法
技术领域
本发明涉及能够在各种光学设备的快门及光圈部件使用的光学设备用遮光部件。
背景技术
近年来,基于对高性能单反相机,袖珍相机,摄像机等各种光学设备的小型化,轻量化的要求,由金属材料形成的光学设备的快门及光圈部件逐渐转换为塑料材料。作为这种塑料材料的光圈,公知有在薄膜基材上形成含有碳黑、润滑剂、微粒子及粘合剂树脂的遮光膜的遮光性薄膜(专利文献1、2)。专利文献1 日本特开平9-274218号公报专利文献2 :W02006/016555号公报在上述按现有的方法形成的遮光性薄膜中,为了提高滑动性,不得不在遮光膜中含有大量的润滑剂。其结果是,第一、由于大量的润滑剂而存在使遮光膜的耐磨性下降的倾向。第二、尽管不会降低遮光膜中的微粒子的含有率,遮光性好,但是不能充分表现消光泽性。近年来,在手机的照相机等中搭载透镜的情况下,备受关注的是将透镜安装在基板上时使用回流焊接的安装。所谓回流焊接是指,将膏状的焊料涂覆在基板上后通过高温的回流炉,使焊料熔化粘接的安装方法。根据基于该回流焊接的透镜的安装方法,与现有的安装方法相比较,能够显著提高带照相机的手机的生产率。当在手机的照相机中搭载遮光性薄膜时,要求遮光性薄膜具备的高耐热性能够承受基于上述回流焊接的透镜安装条件。但是,如上所述,在由现有方法形成的遮光性薄膜中,由于必须在遮光膜中含有大量的润滑剂,因此遮光膜中的粘合剂树脂的含有率降低,在遮光膜和薄膜基材之间粘接性不充分。

发明内容
本发明的一方面提供一种具有高滑动性且保持遮光性、消光泽性等遮光膜的物性,并且改善耐磨性及粘接性的光学设备用遮光部件。本发明的另一方面提供一种具有高滑动性且保持遮光性、消光泽性等遮光膜的物性,并且改善耐热性及粘接性的光学设备用遮光部件。本申请发明人着眼于微粒子和粒子状的润滑剂的密度,发现通过使用密度比微粒子密度大的润滑剂(特定的润滑剂),可以减少遮光膜表面的润滑剂量,其结果是遮光膜的耐磨性提高。另外,发现通过使用特定的润滑剂,用少量的配合就能表现出高滑动性。如果使用本申请发明人发现的特定的润滑剂,则用少量的配合就能得到较高的滑动性,因此可以减少遮光膜中的润滑剂配合量,作为其相对的效果,也能增加遮光膜中的粘合剂树脂量。 其结果是,能够期待提高遮光膜相对于薄膜基材的粘接性。即,根据本发明的第一方面,提供一种光学设备用遮光部件(1),具有薄膜基材 (2)和形成于该基材的至少单面的遮光膜(3),遮光膜C3)含有粘合剂树脂、碳黑(31)、粒子状的润滑剂(32)、及微粒子(3 。在该情况中,粘合剂树脂及粒子状的润滑剂(3 的含有率分别为65重量%以上、5 15重量%。作为粒子状的润滑剂(32),使用密度比微粒子 (33)的密度大的润滑剂。另一方面,本申请发明人发现,通过使用特定的粒子状的润滑剂,即使少量的配合也可表现较高的滑动性。理由虽未能确定,但可以发现,通过从一定数量的粒子状润滑剂中选用氟树脂粒子,用少量的配合就能得到较高的滑动性,其结果是,能够增加遮光膜中的碳黑及微粒子的含有率,能够保持遮光性、消光泽性等遮光膜的物性。另外,作为可减少润滑剂的配合量的相对效果,成功增加遮光膜中的粘合剂树脂量。结果发现,能够期待提高遮光膜的耐热性及粘接性,并且有助于提高遮光膜的耐磨性。S卩,根据本发明的第二方面,提供一种光学设备用遮光部件(1),其具有薄膜基材 (2)和形成于该基材的至少单面的遮光膜(3),遮光膜C3)含有粘合剂树脂、碳黑(31)、氟树脂粒子(3 及微粒子(3 。在该情况中,粘合剂树脂及氟树脂粒子(3 的含有率分别为65重量%以上、5 15重量%。氟树脂粒子(3 和微粒子(3 的重量比以氟树脂粒子 (32)/微粒子(33)计为5以下。在第一方面的发明中,可以将遮光膜(3)中的润滑剂(32)的含有率设为10重量%以下。另外,可以将润滑剂的密度设为2.0(g/cm3)以上。另外,作为润滑剂(32),可以使用平均粒径为5 10 μ m的润滑剂。另外,作为润滑剂可以使用氟树脂粒子。在第二方面的发明中,可以将遮光膜(3)中的氟树脂粒子(3 的含有率设为10 重量%以下。另外,可以将遮光膜(3)中的氟树脂粒子(3 和微粒子(3 的重量比以氟树脂粒子(3 /微粒子(3 计设为3以下。另外,作为氟树脂粒子(32),可以使用平均粒径为5 10 μ m的粒子。在两方面的发明中,可以将遮光膜C3)中的碳黑及微粒子(3 的含有率分别设为 5 20重量%、1 10重量%。另外,粘合剂树脂可以由热硬化性树脂构成。另外,薄膜基材(2)可以由聚酰亚胺薄膜构成。另外,作为微粒子(33)可以使用吸油量250(g/100g)以上的微粒子。需要说明的是,在上述构成中,标注与示出发明实施方式的附图相对应的符号并进行说明,但该符号只是为了更容易理解发明而不是限定发明。根据第一方面的发明,作为遮光膜中含有的润滑剂,使用特定的粒子状的润滑剂、 即比微粒子的密度大的粒子状的润滑剂,由此能够降低遮光膜表面的润滑剂存在量,其结果是,能够得到遮光膜的耐磨性提高了的光学设备用遮光部件。另外,通过使用这种特定的润滑剂,用少量的配合就能使遮光膜表现较高的滑动性,因此,可以减少遮光膜中的润滑剂配合量。作为可减少遮光膜中的润滑剂配合量的相对效果,可以增加遮光膜中的碳黑及微粒子的含有率,因此,能够得到保持了遮光性、消光泽性等遮光膜的物性的光学设备用遮光部件。作为可减少遮光膜中的润滑剂配合量的另一相对效果,可以增加遮光膜中的粘合剂树脂(特别是热硬化性树脂)的含量,因此,能够期待也提高遮光膜对薄膜基材的粘接性。根据第二方面的发明,通过使用特定的粒子状的润滑剂、即氟树脂粒子来作为遮光膜中含有的润滑剂,用少量的配合就能使遮光膜表现较高的滑动性,因此可以减少遮光膜中的润滑剂配合量。作为可减少遮光膜中的润滑剂配合量的相对效果,可以增加遮光膜中的粘合剂树脂(特别是热硬化性树脂)的含量,因此,能够得到提高了遮光膜的耐热性的光学设备用遮光部件。另外,作为可减少遮光膜中的润滑剂配合量的另一相对效果,能够增加遮光膜中的碳黑及微粒子的含有率,因此,能够得到保持了遮光性、消光泽性等遮光膜的物性的光学设备用遮光部件。需要说明的是,通过可以增加遮光膜中的粘合剂树脂的含量,除了提高耐热性,也能期待提高遮光膜对薄膜基材的粘接性及耐磨性。由于两方面的发明都能期待提高遮光膜的粘接性及耐磨性,因此基于两方面发明的光学设备用遮光部件可以适用于高性能单反相机、袖珍相机、摄像机、手机、投影仪等。特别是近年来,可以适用于要求基于回流焊接进行透镜安装的带照相机的手机。


图1是表示本实施方式的光学设备用遮光部件的剖面图。
具体实施例方式以下,对上述发明的一实施方式的光学设备用遮光部件进行说明。《光学设备用遮光部件》如图1所示,本实施方式的光学设备用遮光部件1具有基材2。在基材2的至少单面上形成有遮光膜3。《基材》作为可以使用的基材2,列举聚酯薄膜、聚酰亚胺薄膜,聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等合成树脂薄膜。其中适宜使用聚酯薄膜,在经过延伸加工、特别是经过双轴延伸加工的聚酯薄膜的机械强度、尺寸稳定性优异这一点上特别优选。另外,在耐热用途中使用时, 适宜使用聚酰亚胺薄膜。如上述,近年来,在手机的照相机等上搭载透镜的情况下,将该透镜安装于基板上时使用回流焊接进行安装备受关注。作为基材2,当然为透明的基材,也可以使用发泡聚酯薄膜、含有碳黑等黑色颜料或其他颜料的合成树脂薄膜。该情况下,上述基材2可根据各自的用途而选择适当的材料。 例如,当作为遮光部件1使用时,在部件截面的合成树脂薄膜部分,由透镜等聚光的光线反射,会带来不好的影响,因此,在需要高遮光性的情况下,可以使用含有碳黑等黑色颜料的合成树脂薄膜,在其他的情况中,可以使用透明或者经过发泡的合成树脂薄膜。在本实施方式中,通过遮光膜3本身即获得作为遮光部件1的充分的遮光性,因此,在合成树脂薄膜中含有黑色颜料的情况下,只要合成树脂薄膜在目视下看上去为黑色、 即光学浓度为3即可。因此,不会如以往那样合成树脂薄膜中含有的黑色颜料达到了损伤作为基材2的物性的限界,因此,可以在不使合成树脂薄膜的物性改变的情况下廉价地得到。基材2的厚度虽因使用用途而不同,但是从作为轻量的遮光部件1的强度及刚性等观点而言,通常优选设为25 μ m 250 μ m。另外,从提高与遮光膜3的粘接性的观点考虑,可以根据需要对基材2进行锚定处理或电晕处理。《遮光膜》形成于基材2的至少单面的遮光膜3含有粘合剂树脂、碳黑、粒子状润滑剂32及消光泽剂33。需要说明的是,图1中,综合粘合剂树脂及碳黑,用符号“31”表示。《粘合剂树脂》作为遮光膜3含有的粘合剂树脂,可以举出聚(甲基)丙烯酸树脂、聚酯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛树脂、纤维素系树脂、聚苯乙烯/聚丁二烯树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、丙烯酸树脂、不饱和聚酯树脂、环氧酯树脂、环氧树脂、环氧丙烯酸酯系树脂、聚氨酯丙烯酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚醚丙烯酸酯系树脂、酚醛系树脂、密胺系树脂、尿素系树脂、邻苯二甲酸二丙烯酯系树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、 聚酰胺酰亚胺树脂、多元醇聚酯树脂、多元醇丙烯酸树脂、多元醇环氧树脂等热塑性树脂或热硬化性树脂,也可以将其中的1种或2种以上加以混合来使用。特别是在耐热用途中使用的情况下,适合使用热硬化性树脂。粘合剂树脂的含有率,在遮光膜3中优选设为50重量%以上,更优选设为60重量%以上,特别优选设为65重量%以上,最优选设为70重量%以上。在遮光膜3中通过将粘合剂树脂的含有率设为50重量%以上,可以防止基材2与遮光膜3的粘接性降低。另一方面,粘合剂树脂的含有率,在遮光膜3中优选设为85重量%以下,更优选设为80重量% 以下,特别优选设为75重量%以下。在遮光膜3中通过将粘合剂树脂的含有率设为85重量%以下,可以防止遮光性、滑动性、消光泽性等遮光膜的物性的降低。特别是,如后述,通过在第一方面中作为润滑剂32选择特定的润滑剂(后述),并在第二方面中作为润滑剂33 选择氟树脂粒子,即使将遮光膜3中的润滑剂32的含量抑制地低,也能确保高的滑动性,作为该相对效果,也可以比现有技术增加(例如65重量%以上)粘合剂树脂的含量。其结果也能够有助于提高遮光膜3的粘接性及耐磨性。《碳黑》遮光膜3中含有的碳黑,是使粘合剂树脂着色为黑色而赋予遮光性,并赋予导电性以防止由静电所致的带电的材料。为了得到充分的遮光性,碳黑的平均粒径优选设为Iym以下,更优选设为0.5 μπι 以下。需要说明的是,本说明书中的平均粒径是指,通过激光衍射式粒度分布测定装置(例如岛津制作所SALD-7000等)测定的中间粒径(D50)。润滑剂、微粒子等也一样。碳黑的含有率在遮光膜3中优选设为5 20重量%,更优选设为10 20重量%。 在遮光膜3中通过设为5重量%以上,可以防止遮光性及导电性降低,通过设为20重量% 以下,可以提高粘接性及耐擦伤性(或者耐磨性),并可以防止涂膜强度的下降及成本变尚ο《微粒子》遮光膜3中含有的微粒子33,是通过在表面形成微细的凹凸以减少入射光的反射而降低表面的光泽度(镜面光泽度),提高作为遮光部件1时的消光泽性的材料。微粒子33虽是为了赋予作为遮光部件1时的表面消光泽性而不可缺少的,但在遮光膜3中可以含有的比例受到如下限制。首先,在不改变树脂与其以外的成分的比例而使微粒子33的含有率增加的情况下,碳黑31、润滑剂32等的含有率相应降低,由此带来作为遮光部件1的遮光性、滑动性等物性的降低。另外,在为了保持遮光性等物性而维持遮光膜中的碳黑、润滑剂的含有率,同时使粘合剂树脂的含有率降低且使微粒子33的含有率增加的情况下,基材2和遮光膜3的粘接性不足,耐擦伤性或者耐磨性恶化。S卩,当在遮光膜3中含有给予充分消光泽性的量的微粒子33时,不仅不能保持遮光性、滑动性等物性,耐擦伤性或者耐磨性也恶化。在本实施方式中,可以使用吸油量多的微粒子。具体而言,可以使用吸油量优选设为250(g/100g)以上,更优选设为300(g/100g)以上的微粒子33。如果使用吸油量多的微粒子33,则用少量就能得到表面的消光泽性,能够增加遮光膜3中的碳黑31、润滑剂32等的含有率。其结果是,遮光膜3具有消光泽性,并且能够充分发挥基于遮光膜3的遮光性、 滑动性等物性。需要说明的是,上述吸油量是以IS0787/V-1968为基准,为在IOOg的微粒子33中湿润混合亚麻油使其变为较硬的糊状所需要的油量(g)。作为这种微粒子33,可以使用交联丙烯酸树脂珠(1. 19)等有机系、或二氧化硅 (1.9)、硅酸铝镁(乂夕> 4酸7 > S >酸7夕'^ ν ^ Λ ) O 2. 2)、氧化钛、镁(1.7)等无机系的任一种,但优选为无机系的材料,其中,从微粒子的分散性、低成本等观点考虑,优选使用二氧化硅。另外,也可以将其中的1种或2种以上加以混合使用。需要说明的是,括号内的数字表示该物质的密度(单位为“g/cm3”)。微粒子33的一次粒径或二次粒径优选设为1 10 μ m,更优选设为1 6 μ m。通过设为这样的范围,可以在遮光部件1的表面形成微细的凹凸而得到消光泽性。需要说明的是,二次粒子是指一次粒子聚集而形成的粒子,一次粒径或二次粒径可以通过由透射电子显微镜进行的照片摄影来求得,但简单而言,可以使用激光散射粒度分布仪(例如,HORIBA社制的商品名“LA300”)等,作为个数中间粒径进行测定。微粒子33的含有率,在遮光膜3中优选设为1 10重量%,更优选设为1 5重量%。在遮光膜3中通过设为1重量%以上,可以防止表面的光泽度(镜面光泽度)增加而使消光泽性降低的情况。通过设为10重量%以下,可以防止产生因遮光部件1的滑动所致的微粒子33的脱落,或能够防止引起滑动性的降低。特别是在要求高遮光性及滑动性的情况下,微粒子33的含有率在遮光膜3中从上述的范围中特别优选设为3重量%以下。本实施方式中使用的微粒子33,如前所述即使少量也能得到高消光泽性,通过设为3重量%以下,可以得到充分的消光泽性,而且也可以使碳黑31、润滑剂32的含有率相对增加,可以使遮光性、滑动性等物性提高。《润滑剂》遮光膜3中含有的粒子状的润滑剂32,是使遮光部件1的表面的滑动性提高,在加工为光圈部件等时,使动作时的摩擦阻力变小,并且提高表面的耐擦伤性或者耐磨性的材料。在第一方面中,作为粒子状的润滑剂32,使用其密度比上述微粒子的密度大的润滑剂(特定密度的润滑剂)。本申请发明人发现,作为遮光膜3中含有的粒子状的润滑剂 32,通过选用特定密度的润滑剂,可以减少遮光膜3表面的润滑剂32的量,其结果是,遮光膜3的耐磨性提高。需要说明的是,如果使用特定密度的润滑剂,则由于微粒子相对到达涂膜表面,因此,即使少量的微粒子含量也能容易得到良好的消光泽性。S卩,密度大的润滑剂32,其大部分不是停留在遮光膜3的表面附近而是存在于膜内部,结果,原以为滑动性可能会显著下降,但通过实验确认,发现可以表现比较高的滑动性。其理由未必明了,但推测是由于配合的少量的润滑剂不是全部都存在于遮光膜3的内部,其一部分没有被微粒子33覆盖而是停留在遮光膜3的表面引起的。
作为第一方面中可以使用的特定密度的润滑剂,优选使用密度2.0以上的材料。 作为这样的润滑剂,可以举出聚四氟乙烯(PTFE、2. 2)、聚三氟氯乙烯(PCTFE、2. 15)、氟化乙烯丙烯共聚物(FEP、2. 15)等。需要说明的是,同微粒子项一样,括号内的数字表示该物质的密度(单位为“g/cm3”)。在第二方面中,作为粒子状的润滑剂32,使用氟树脂粒子。氟树脂粒子中含有包含氟树脂的粒子。本申请发明人发现,作为遮光膜3中含有的粒子状的润滑剂32,通过从一定数量的粒子状润滑剂中选用氟树脂粒子,即使减少遮光膜3中的润滑剂32的含量(与现有相比减少约40%左右),也能表现出高滑动性。作为氟树脂粒子,例如可以举出聚四氟乙烯(PTFE)、聚三氟氯乙烯(PCTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚氟乙烯(PVF)、乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)、氟化乙烯丙烯共聚物 (FEP)等。作为聚四氟乙烯,例如,可以使用从三叶公司乂 Λ 口y々歹々7 口夕一社) (美国)或赫斯特日本有限公司( * 7卜7 ~ 〃 >社)等购入的树脂蜡。具体而言,例如,有三叶公司的市售品“三叶蜡粉”的SST系列,赫斯特日本有限公司的市售品“三氟代氯乙烯树脂(才、7夕7 口 > ) ”的TF系列。作为SST系列,例如,可以举出"SST-IMG"(粒径约 1 2 μ m)、“ SST-2,,(粒径约 12. 5 μ m)、“ SST-2P,,(粒径约 12. 5 μ m)、“ SST-2D,,(粒径约 9 μ m)、“ SST-3,,(粒径约 5 μ m)、“ SST-3D,,(粒径约 5 μ m)、“ SST-3P,,(粒径约 5 μ m)、 “SST-3H” (粒径约 5 μ m)、“SST-4” (粒径约 4 μ m)、“SST-4MG” (粒径约 2 4 μ m)等。作为TF系列,例如,可以举出“TF9202” (粒径约2. 5 μ m)、“TF9205” (粒径约5 μ m)等。作为包含聚四氟乙烯的商品,例如有上述“三叶蜡粉”的FLU0R0SLIP系列等,具体而言可以举出该系列的“225 (PTFE/PE、粒径约12. 5 μ m) ”、“231 (PTFE/PE、粒径约6 μ m) ”、 “245(PTFE/PE、粒径约 12. 5ym) ”、“沘5 (PTFE/PE、粒径约 12. 5ym),,、“42IT (PTFE/PE、粒径约 6 μ m),,、“425 (PTFE/PE、粒径约 12. 5 μ m),,、“511 (PTFE/PE、粒径约 6 μ m),,、“722MG (PTFE/ PE、粒径约5 μ m) ”、“73IMG (PTFE/PE、粒径约3 4 μ m) ”等。上述各粒径表示平均粒径。需要说明的是,也可以将上述特定的润滑剂(第一方面中特定密度的润滑剂、第二方面中氟树脂粒子。以下相同。)以外的作为公知的粒子状润滑剂而已知的有机系润滑剂或无机系润滑剂与上述特定的润滑剂进行适量配合使用。在该情况下,相对于特定的润滑剂100份,以重量比计,可以配合为100份以下左右。如果特定的润滑剂以外的其他润滑剂成分的配合量变多,则可能损伤本实施方式中使用特定的润滑剂时的效果。特定的润滑剂粒子的平均粒径优选为1 20 μ m,更优选为3 15 μ m,特别优选为5 ΙΟμπι。通过使用具有该范围的平均粒径的特定的润滑剂,在表面形成适当的凹凸, 滑动性能进一步提高(例如滑动摩擦系数进一步降低)。第一方面中,特别优选使用具有比微粒子33的平均粒径大的平均粒径的特定的润滑剂。通过使润滑剂的平均粒径比微粒子33的平均粒径大,在遮光膜3中润滑剂不易被微粒子33覆盖,其结果是,很容易存在于遮光膜3的表面,滑动性提高,另外,也有助于遮光膜3表面的消光泽性的提高。特定的润滑剂的含有率在遮光膜3中优选设为5重量%以上,更优选设为8重量%以上。在遮光膜3中通过设为5重量%以上,可以在表面形成适当的凹凸而得到滑动性。本实施方式中,即使将特定的润滑剂的含有率在遮光膜3中优选设为15重量%以下,更优选设为13重量%以下,特别优选设为10重量%以下,也能得到高滑动性。在本实施方式中作为润滑剂32而使用的特定的润滑剂,由于如前所述即使少量也能得到高滑动性,因此,通过设为15重量%以下,可以得到充分的滑动性,而且,可以相对增加碳黑、微粒子33、 粘合剂树脂的含有率,除了遮光性、消光泽性等,也有助于遮光膜3的耐磨性及粘接性的提高(第一方面),或者耐热性的提高(第二方面)。第一方面中,可以将遮光膜3中的润滑剂32与碳黑31的重量比(润滑剂32/碳黑31)优选调整为0. 90以下(0除外),更优选调整为0. 85以下(0除外),特别优选调整为0. 80以下(0除外),最优选调整为0. 75以下(0除外)这样比现有技术(例如1. 00以上)小的值。通过将遮光膜3中的润滑剂32与碳黑31的重量比以润滑剂32/碳黑31计调整为上述的规定范围,可以期待将遮光性、滑动性及消光泽性维持在高水平,且提高遮光膜3 的耐磨性及粘接性。之所以能够期待这样的提高是因为,作为遮光膜3中包含的润滑剂32 选择特定的润滑剂,且减少其在该遮光膜3中的含量,作为其相对效果,可以增加遮光膜3 中的粘合剂树脂的含量。通过增加遮光膜3中的粘合剂树脂的含量,遮光膜3对基材2的粘接性提高,由此,认为遮光膜3的耐磨性进一步提高。特别是,作为粘合剂树脂通过使用热硬化性树脂,遮光膜3的耐磨性及耐热性提高。第二方面中,遮光膜3中的氟树脂粒子与微粒子33的重量比(氟树脂粒子/微粒子)优选调整为5以下(0除外),更优选调整为4以下(0除外),特别优选调整为3以下(0除外)这样比现有技术(例如6以上)小的值(其中,优选为1以上,更优选为2以上。)通过将遮光膜3中的氟树脂粒子与微粒子33的重量比以氟树脂粒子/微粒子计调整为上述的规定范围,可以将遮光性、滑动性及消光泽性维持在高水平,且提高遮光膜3的耐热性及耐磨性。之所以能够表现这样的效果是因为,如上所述作为遮光膜3包含的润滑剂 32选择氟树脂粒子,且减少其在该遮光膜3的含量,作为其相对效果,可以增加遮光膜3中的粘合剂树脂的含量。通过增加遮光膜3中的粘合剂树脂的含量,遮光膜3对基材2的粘接性进一步提高,由此,认为遮光膜3的耐磨性提高。特别是,作为粘合剂树脂使用热硬化性树脂,由此,遮光膜3的耐热性提高。需要说明的是,通过将遮光膜3中的氟树脂粒子与微粒子33的重量比优选设为1 以上,可以将遮光性、滑动性及消光泽性维持在高水平,且提高遮光膜3的耐热性、耐磨性及粘接性。《其他成分》在不损伤本发明的功能的情况下,可以使形成于基材2的至少单面的遮光膜3中含有阻燃剂、抗菌剂、防霉剂、抗氧化剂、可塑剂、均涂剂、流动调节剂、消泡剂、分散剂等各种添加剂。遮光膜3的厚度优选设为5 30 μ m,更优选设为5 20 μ m。通过设为5 μ m以上,可以防止遮光膜3产生针孔等,可以得到充分的遮光性。通过设为30μπι以下,可以防止遮光膜3产生裂纹。本实施方式的光学设备用遮光部件1可以通过如下方式得到,即,在基材2的单面或双面,通过浸渍涂布、辊涂、棒涂、压铸模涂布、刮刀式涂布、气刀式涂布等目前公知的涂布方法来涂布含有如上所述的粘合剂树脂、碳黑31、粒子状润滑剂32及微粒子33的遮光膜用涂布液,使其干燥后,根据需要予以加热、加压等而获得。涂布液的溶剂可以使用水、有机溶剂、水和有机溶剂的混合物等。如上,本实施方式的光学设备用遮光部件1由于在基材2的至少单面具有特定的遮光膜3,因此,具有消光泽性,并且保持遮光性、滑动性等遮光膜的物性。因此,可以适当地作为高性能单反相机、袖珍相机、摄像机、手机、投影仪等光学设备的快门、光圈部件使用。 特别是,当在遮光膜3中作为润滑剂32含有即使少量也能表现高滑动性的氟树脂粒子时, 可以使遮光膜3中的粘合剂树脂的含有率增加,结果可以形成耐磨性及粘接性(第一方面) 优异的遮光膜,或者形成耐热性及耐磨性(第二方面)优异的遮光膜。其结果是,适合用于近年来要求基于回流焊接进行透镜安装的带照相机的手机的快门、光圈部件等。
实施例下面,通过实施例进一步说明本发明。另外,“份”、“ %,,如无特别表示,则为重量基准。1.光学设备用遮光部件的制作[实验例1 19]作为基材,使用厚度50 μ m的聚酰亚胺薄膜(Kapton 200H 东丽杜邦公司),通过棒涂法在其两面以干燥时厚度为10 μ m的方式分别涂布下述配方的遮光膜用涂布液a S, 进行干燥而形成遮光膜A S,制作各实验例的光学设备用遮光部件。需要说明的是,下述配方的遮光膜用涂布液的丙烯酸多元醇等的含量(份)示于表1、2。另外,形成的遮光膜的丙烯酸多元醇等的含有率(% )示于表3、4。<遮光膜用涂布液a s的配方>·丙烯酸多元醇(固态成分50% ) (表1所述的份)(Acrydic A804 =DIC 公司) 异氰酸酯(固态成分75%) (表1所述的份)(Burnock DN980 =DIC 公司) 碳黑 (表1所述的份)(Vulcan XC-72R 卡博特公司)·表1所述的润滑剂 (表1所述的份)·表1所述的微粒子 (表1所述的份)·甲基乙基酮 60份 甲苯 40份[表 1]
权利要求
1.一种光学设备用遮光部件,具有薄膜基材和形成于所述基材的至少单面的遮光膜, 其特征在于,所述遮光膜含有粘合剂树脂、碳黑、粒子状的润滑剂及微粒子,所述粘合剂树脂及所述润滑剂的含有率分别为65重量%以上、5 15重量%,所述润滑剂的密度比所述微粒子大。
2.如权利要求1所述的光学设备用遮光部件,其特征在于, 所述润滑剂的含有率为10重量%以下。
3.如权利要求1或2所述的光学设备用遮光部件,其特征在于, 所述润滑剂的密度为2. 0(g/cm3)以上。
4.如权利要求1 3中任一项所述的光学设备用遮光部件,其特征在于, 所述润滑剂的平均粒径为5 10 μ m。
5.如权利要求1 4中任一项所述的光学设备用遮光部件,其特征在于, 所述润滑剂为氟树脂粒子。
6.如权利要求5所述的光学设备用遮光部件,其特征在于,所述氟树脂粒子和所述微粒子的重量比以氟树脂粒子/微粒子计为5以下。
7.如权利要求5所述的光学设备用遮光部件,其特征在于,所述氟树脂粒子和所述微粒子的重量比以氟树脂粒子/微粒子计为3以下。
8.如权利要求1 7中任一项所述的光学设备用遮光部件,其特征在于, 所述碳黑及微粒子的含有率分别为5 20重量%、1 10重量%。
9.如权利要求1 8中任一项所述的光学设备用遮光部件,其特征在于, 所述粘合剂树脂为热硬化性树脂。
10.如权利要求1 9中任一项所述的光学设备用遮光部件,其特征在于, 所述薄膜基材为聚酰亚胺薄膜。
11.如权利要求1 10中任一项所述的光学设备用遮光部件,其特征在于, 所述微粒子的吸油量为250(g/100g)以上。
全文摘要
本发明提供一种具有高滑动性,且在保持遮光性、消光泽性等遮光膜的物性的同时改善了耐磨性及粘接性的光学设备用遮光部件。光学设备用遮光部件(1)具有薄膜基材(2)和形成于该基材的至少单面的遮光膜(3)。遮光膜(3)含有粘合剂树脂、碳黑(31)、粒子状的润滑剂(32)及微粒子(33)。粘合剂树脂及粒子状的润滑剂的含有率分别为65重量%以上、5~15重量%。作为粒子状的润滑剂(32),使用其密度比微粒子(33)的密度大的润滑剂。
文档编号G03B9/10GK102576181SQ201080047789
公开日2012年7月11日 申请日期2010年9月15日 优先权日2009年10月29日
发明者原田正裕, 高桥顺子 申请人:木本股份有限公司

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