一种彩膜修复的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种彩膜修复机,属于液晶显示【技术领域】,其可解决现有的彩膜修复机研磨带旋转研磨突起异物时,造成的研磨位置偏移、研磨形状不规则以及过研磨等问题。本实用新型的彩膜修复机包括研磨带、研磨杆,研磨杆的下端部设有研磨头,所述研磨头用于压紧研磨带,其中,所述研磨装置还包括润滑装置,其用于向所述研磨带提供润滑剂。本实用新型可用于提升彩膜修复机研磨异物的研磨效果。
【专利说明】一种彩膜修复机
【技术领域】
[0001]本实用新型属于液晶显示【技术领域】,具体涉及一种彩膜修复机。
【背景技术】
[0002]在薄膜晶体管液晶显示器生产过程中,需要对彩膜基板上存在的突起异物利用彩膜修复机进行研磨修复。具体地,如图1所示,通过彩膜修复机研磨带2表面的细微颗粒将彩膜基板7上的突起异物8研磨掉,从而提升产品良率。在研磨带2旋转研磨的过程中,为保证研磨效果,研磨带2需要保持较强的张力。通过研磨杆I下方端部的研磨头11压紧研磨带2从而使得研磨带2具有较强的张力。在较强张力的作用下,研磨带2旋转研磨时,研磨带2上的杂质以及研磨带2自身材质在研磨头11巨大的摩擦力下所产生的碎屑9会堆积在研磨头11 一侧或下部。
[0003]发明人发现现有技术中至少存在如下问题:研磨带旋转研磨时,堆积在研磨头一侧或下部的碎屑或杂质会造成研磨位置偏移、研磨形状不规则、过研磨等问题。
实用新型内容
[0004]本实用新型所要解决的技术问题包括,针对现有技术中彩膜修复机研磨带旋转研磨突起异物时,造成研磨位置偏移、研磨形状不规则、过研磨等问题,提供一种彩膜修复机,其能够保证研磨带旋转研磨突起异物时研磨位置不发生偏移,研磨形状规则且不会发生过研磨,从而具有良好的研磨效果。
[0005]解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种彩膜修复机,包括研磨带、研磨杆,研磨杆的下端部设有研磨头,所述研磨头用于压紧研磨带,其中,所述彩膜修复机还包括润滑装置,其用于向所述研磨带提供润滑剂。
[0006]优选的是,所述润滑装置设置在所述彩膜修复机的研磨杆上。
[0007]优选的是,所述润滑装置设置在所述彩膜修复机的研磨杆上迎着研磨带运动方向的一侧。
[0008]优选的是,所述润滑装置包括腔体和润滑布条,所述腔体设置有开口,腔体内部设有润滑剂,所述润滑布条一端穿过所述开口与润滑剂接触,另一端与彩膜修复机研磨带接触。
[0009]优选的是,所述开口设置在腔体的下端面,所述研磨头与腔体的下端面的垂直距离为10?20mm。
[0010]优选的是,所述腔体内设有固体泡沫,所述润滑剂浸润在固体泡沫中,固体泡沫压住润滑布条,从所述开口引出所述润滑布条并与研磨带接触。
[0011]优选的是,所述润滑装置还包括湿度感应器,其用于检测所述润滑布条的湿度。
[0012]优选的是,所述润滑装置还包括湿度调节单元,其用于根据所述湿度感应器检测的结果自动调节润滑布条的湿度。
[0013]优选的是,所述润滑装置还包括报警装置,其用于根据所述湿度感应器检测的结果进行报警。
[0014]优选的是,所述润滑布条为无尘布条。
[0015]本实用新型彩膜修复机包括研磨带润滑装置,减小了研磨带通过研磨头时的摩擦阻力,从而避免了研磨带上的杂质及研磨带自身材质形成碎屑堆积于研磨头处,进而解决了研磨位置偏移、过研磨等问题,保证了较好的研磨效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1为现有技术中彩膜修复机研磨带研磨突起异物的示意图;
[0017]图2为本实用新型的实施例1的彩膜修复机的结构示意图。
[0018]其中附图标记为:1、研磨杆;2、研磨带;3、腔体;4、固体泡沫;5、润滑布;6、湿度感应器;7、彩膜基板;8、突起异物;9、碎屑;10、滚轮。
【具体实施方式】
[0019]为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细描述。
[0020]实施例1:
[0021]如图2所示,本实施例提供一种彩膜修复机,包括研磨杆1、研磨带2,研磨杆I的下端部设有研磨头11,研磨头11用于压紧研磨带2,研磨带2可缠绕在两个滚轮10上,并在两滚轮的驱动从研磨头11下方通过,从而磨掉彩膜基板7上的突起异物8,其中,彩膜修复机还包括润滑装置,其用于向研磨带2提供润滑剂。
[0022]本实施例的彩膜修复机包括研磨带2润滑装置,减小了研磨带2通过研磨头11时的摩擦阻力,从而避免了研磨带2上的杂质及研磨带2自身材质形成碎屑堆积于研磨头11处,进而解决了研磨头11在对彩膜基板7上的突起异物8进行研磨时研磨位置偏移、过研磨等问题,保证了较好的研磨效果。
[0023]优选的,润滑装置设置在彩膜修复机的研磨杆I上,如此以方便安装润滑装置。
[0024]进一步优选的,润滑装置设置在彩膜修复机的研磨杆I上迎着研磨带2运动方向的一侧。这样,经过润滑后的研磨带2能更顺畅地经过研磨头11,并避免碎屑堆积在研磨头11 一侧或下部。
[0025]优选的,润滑装置包括腔体3和润滑布条5,腔体3设置有开口(根据实际情况开口可设置在腔体3的上下端面或侧面),腔体3内部设有润滑剂,润滑布条5 —端穿过开口与润滑剂接触,另一端与彩膜修复机研磨带2接触。润滑布条与润滑剂接触会被浸润,从而实现对研磨带2的润滑。很显然,该装置结构简单,易于制作,生产成本较低。
[0026]进一步优选的,腔体3内设有固体泡沫4,润滑剂浸润在固体泡沫4中,固体泡沫4压住润滑布条5,从开口引出润滑布条5并与研磨带2接触。固体泡沫4浸润润滑剂后可以存储润滑剂并将润滑剂缓慢渗透释放给润滑布条5,从而使得润滑布条5的湿度在一个较佳的范围内,进而确保研磨带2具有良好的润滑。
[0027]进一步优选的,润滑布条5为无尘布条。无尘布条本身不含尘埃,所以不会增加研磨带2上的杂质,从而不会对研磨效果带来不良影响。
[0028]进一步优选的,开口设置在腔体3的下端面,研磨头11与腔体3的下端面的垂直距离为10?20mm。润滑布条5从开口引出,自然的下垂与研磨带2接触,这样润滑布条5的长度大致和研磨头11与腔体3的下端面的垂直距离一样。布条引出后下垂与研磨带2接触这样一个长度太长太短都会影响到对研磨带2的润滑效果。布条太长,则其湿度受到环境因素(比如空气和风)的影响后会降低,会对研磨带2的润滑效果带来不良影响。布条太短则可能湿度较大,则可能出现润滑剂滴落到研磨带2或者彩膜基板7上的情况,从而造成污染。
[0029]进一步优选的,本实施例的润滑装置还包括湿度感应器6,其可利用湿敏材料对液体分子的吸附能力或对水分子产生物理效应的方法测量湿度,从而可用于检测润滑布条5的湿度。
[0030]更优选的,本实施例的润滑装置还包括湿度调节单元(附图中未示出),其用于根据湿度感应器6检测的结果自动调节润滑布条5的湿度。润滑装置包括湿度调节单元特别适用于腔体3中设置有固体泡沫4的情形。当湿度感应器6检测到润滑布条5的湿度不足以对研磨带2形成良好润滑时,启动湿度调节单元向腔体3中注入润滑剂以增加固体泡沫4中润滑剂的含量,从而增加润滑布条5的湿度。当然,设置湿度调节单元也适用于腔体3中不设固体泡沫4的情形,比如当腔体3中的润滑剂用完的时候,可以根据湿度感应器6检测的结果启动湿度调节单元。
[0031]再优选的,本实施例的润滑装置还包括报警装置(附图中未示出),其用于根据湿度感应器6检测的润滑布条5的湿度的数值进行报警以提示操作人员进行相应的维护。即湿度感应器6检测的润滑布条5的湿度超过预先设定的湿度阈值的上限代表润滑布条5湿度过大,可能会有润滑剂掉落至彩膜基板7上造成污染,需报警。而如果低于预先设定的湿度阈值的下限代表润滑布条5的湿度过小,润滑布条5不能起到润滑研磨带2的作用,也需报警。
[0032]在本实施例中,润滑装置也可为其他形式的结构,例如由喷头向研磨带2喷洒润滑剂或者使用滴嘴向研磨带2滴润滑剂也可以实现本实用新型的目的。
[0033]可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式,然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。
【权利要求】
1.一种彩膜修复机,包括研磨带、研磨杆,研磨杆的下端部设有研磨头,所述研磨头用于压紧研磨带,其特征在于, 所述彩膜修复机还包括润滑装置,其用于向所述研磨带提供润滑剂。
2.根据权利要求1所述的彩膜修复机,其特征在于,所述润滑装置设置在研磨杆上。
3.根据权利要求1所述的彩膜修复机,其特征在于,所述润滑装置设置在研磨杆上迎着研磨带运动方向的一侧。
4.根据权利要求1所述的彩膜修复机,其特征在于,所述润滑装置包括腔体和润滑布条,所述腔体设置有开口,腔体内部用于设置润滑剂,所述润滑布条一端穿过所述开口与润滑剂接触,另一端与彩膜修复机研磨带接触。
5.根据权利要求4所述的彩膜修复机,其特征在于,所述开口设置在腔体的下端面,所述研磨头与腔体的下端面的垂直距离为10?20mm。
6.根据权利要求4所述的彩膜修复机,其特征在于,所述腔体内设有固体泡沫,所述润滑剂浸润在固体泡沫中,固体泡沫压住润滑布条。
7.根据权利要求4所述的彩膜修复机,其特征在于,所述润滑装置还包括湿度感应器,其用于检测所述润滑布条的湿度。
8.根据权利要求7所述的彩膜修复机,其特征在于,所述润滑装置还包括湿度调节单元,其用于根据所述湿度感应器检测的结果自动调节润滑布条的湿度。
9.根据权利要求7或8所述的彩膜修复机,其特征在于,所述润滑装置还包括报警装置,其用于根据所述湿度感应器检测的结果进行报警。
10.根据权利要求4所述的彩膜修复机,其特征在于,所述润滑布条为无尘布条。
【文档编号】B24B21/18GK203460034SQ201320567616
【公开日】2014年3月5日 申请日期:2013年9月13日 优先权日:2013年9月13日
【发明者】王贺, 刘光海, 杨玉, 高宝才, 张春爱, 罗鹏 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥鑫晟光电科技有限公司