一种真空镀膜用钨制旋压坩埚的制作方法
一种真空镀膜用钨制旋压坩埚的制作方法
【专利摘要】一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，包括一体结构的纯钨制坩埚本体，所述坩埚本体包括圆锥台形的坩埚壳体，坩埚壳体底部的直径小于其上端口部的直径，所述的坩埚壳体侧壁的壁厚从上端口部至底部由1mm逐渐线性增加至3mm，坩埚壳体侧壁的顶端设有直径大于上端口部直径的外沿，外沿的上表面与其壳体外壁之间形成夹角。本实用新型的坩埚为一整体结构，避免因采用焊接存在焊缝、或是铆接造成其整体质量下降的缺陷，延长了坩埚的使用寿命；坩埚壳体的外沿与其侧壁之间、坩埚壳体的内底面与其壳体内壁之间，均采用倒圆角过渡，能够避免各连接的弯折部位较为尖锐造成其耐用度降低的缺陷，提高了其使用寿命。
【专利说明】 一种真空镀膜用钨制旋压坩埚
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种坩埚，具体的说是一种真空镀膜用钨制旋压坩埚。
【背景技术】
[0002]真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜机的工作原理为，在高真空状态下通过高温将坩埚中的蒸发源熔化蒸发，使蒸发源的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜或金属式薄膜的表面上，从而使薄膜表面具有金属光泽。目前在真空镀膜机中使用的坩埚一般为耐高温石墨坩埚、无氧铜坩埚、钨坩埚等，坩埚的规格较小，传统有使用焊接的坩埚，因存在焊缝易引起整体质量下降。钨坩埚可采用旋压法制备，即通过旋轮作进给运动，加压于随芯模沿同一轴线旋转的高纯度钨板上，使其产生连续局部塑性成形，成为所需要的空心回转件，能够节省资源，降低成本。钨制旋压坩埚是冶金行业的关重件，有着耐高温的优点，但现有使用的钨制旋压坩埚耐用度较低，使用寿命较短。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术中使用的钨制旋压坩埚耐用度低、使用寿命短暂的问题，提供一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，该坩埚的结构采用变壁厚无缝的方式，对其使用寿命的提高起到了关键的作用。
[0004]本实用新型为解决上述问题所采用的技术方案为:一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，包括一体结构的纯钨制坩埚本体，所述坩埚本体包括圆锥台形的坩埚壳体，坩埚壳体底部的直径小于其上端口部的直径，所述的坩埚壳体侧壁的壁厚从上端口部至底部由Imm逐渐线性增加至3mm，坩埚壳体侧壁的顶端设有直径大于上端口部直径的外沿，外沿的上表面与其壳体外壁之间形成夹角。
[0005]所述坩埚壳体侧壁顶端的外沿与侧壁之间倒圆角过渡；坩埚壳体的内底面与其壳体内壁之间倒圆角过渡。
[0006]本实用新型中，坩埚壳体外沿的上表面与其壳体外壁之间的夹角为35-40°，坩埚壳体的中轴线与其壳体内壁之间的夹角10°，避免其倾角过大造成应力外扩，进而影响坩埚壳体壁的强度的问题。
[0007]有益效果:本实用新型的坩埚为一整体结构，避免因采用焊接存在焊缝、或是铆接造成其整体质量下降的缺陷，延长了坩埚的使用寿命；坩埚壳体的外沿与其侧壁之间、坩埚壳体的内底面与其壳体内壁之间，均采用倒圆角过渡，能够避免各连接的弯折部位较为尖锐造成其耐用度降低的缺陷，提高了其使用寿命。
【专利附图】
【附图说明】
[0008]图1为本实用新型的结构示意图；
[0009]图2为图1中沿A-A线的剖视图。[0010]附图标记:1、坩埚壳体，2、外沿。
【具体实施方式】
[0011]如图1和图2所示，一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，包括一体结构的纯钨制坩埚本体，所述坩埚本体包括圆锥台形的坩埚壳体1，坩埚壳体I底部的直径小于其上端口部的直径，所述的坩埚壳体I侧壁的壁厚从上端口部至底部由Imm逐渐线性增加至3_，坩埚壳体I侧壁的顶端设有直径大于上端口部直径的外沿2，外沿2的上表面与其壳体外壁之间形成夹角。
[0012]进一步的，该坩埚壳体I侧壁顶端的外沿2与侧壁之间倒圆角过渡，过渡圆角半径为3-5mm 甘祸壳体I的内底面与其壳体内壁之间倒圆角过渡，过渡圆角半径为3_5mm。
[0013]在本实用新型的较佳实施例中，所述的纯钨制旋压坩埚中上端口部的外沿2与其壳体外壁之间的夹角α为35-40°，优选的该夹角为35° ;坩埚壳体I的中轴线与其壳体内壁之间的夹角为10°。
[0014]本实用新型中，该钨制旋压坩埚的壳体采用变壁厚设计，在不影响其强度的基础上节约了原材料；整体结构设计的旋压坩埚，避免了现有使用的焊接或铆接纯钨制坩埚耐用度低的问题；其中，坩埚壳体I侧壁顶端的外沿2与侧壁之间、坩埚壳体I的内底面与其壳体内壁之间，均采用倒圆角过渡，能够使各过渡部位形状更为圆滑不尖锐，提高了其使用强度和寿命。
【权利要求】
1.一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，其特征在于:包括一体结构的纯钨制坩埚本体，所述坩埚本体包括圆锥台形的坩埚壳体(1)，坩埚壳体(I)底部的直径小于其上端口部的直径，所述的坩埚壳体(I)侧壁的壁厚从上端口部至底部由1_逐渐线性增加至3_，坩埚壳体(I)侧壁的顶端设有直径大于上端口部直径的外沿(2)，外沿(2)的上表面与其壳体外壁之间形成夹角。
2.如权利要求1所述的一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，其特征在于:所述坩埚壳体(I)侧壁顶端的外沿(2)与侧壁之间倒圆角过渡。
3.如权利要求1所述的一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，其特征在于:所述坩埚壳体(I)的内底面与其壳体内壁之间倒圆角过渡。
【文档编号】C23C14/24GK203546134SQ201320568681
【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年9月13日 优先权日:2013年9月13日
【发明者】王小淼, 耿宏安 申请人:洛阳爱科麦钨钼制品有限公司
【专利摘要】一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，包括一体结构的纯钨制坩埚本体，所述坩埚本体包括圆锥台形的坩埚壳体，坩埚壳体底部的直径小于其上端口部的直径，所述的坩埚壳体侧壁的壁厚从上端口部至底部由1mm逐渐线性增加至3mm，坩埚壳体侧壁的顶端设有直径大于上端口部直径的外沿，外沿的上表面与其壳体外壁之间形成夹角。本实用新型的坩埚为一整体结构，避免因采用焊接存在焊缝、或是铆接造成其整体质量下降的缺陷，延长了坩埚的使用寿命；坩埚壳体的外沿与其侧壁之间、坩埚壳体的内底面与其壳体内壁之间，均采用倒圆角过渡，能够避免各连接的弯折部位较为尖锐造成其耐用度降低的缺陷，提高了其使用寿命。
【专利说明】 一种真空镀膜用钨制旋压坩埚
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种坩埚，具体的说是一种真空镀膜用钨制旋压坩埚。
【背景技术】
[0002]真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜机的工作原理为，在高真空状态下通过高温将坩埚中的蒸发源熔化蒸发，使蒸发源的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜或金属式薄膜的表面上，从而使薄膜表面具有金属光泽。目前在真空镀膜机中使用的坩埚一般为耐高温石墨坩埚、无氧铜坩埚、钨坩埚等，坩埚的规格较小，传统有使用焊接的坩埚，因存在焊缝易引起整体质量下降。钨坩埚可采用旋压法制备，即通过旋轮作进给运动，加压于随芯模沿同一轴线旋转的高纯度钨板上，使其产生连续局部塑性成形，成为所需要的空心回转件，能够节省资源，降低成本。钨制旋压坩埚是冶金行业的关重件，有着耐高温的优点，但现有使用的钨制旋压坩埚耐用度较低，使用寿命较短。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术中使用的钨制旋压坩埚耐用度低、使用寿命短暂的问题，提供一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，该坩埚的结构采用变壁厚无缝的方式，对其使用寿命的提高起到了关键的作用。
[0004]本实用新型为解决上述问题所采用的技术方案为:一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，包括一体结构的纯钨制坩埚本体，所述坩埚本体包括圆锥台形的坩埚壳体，坩埚壳体底部的直径小于其上端口部的直径，所述的坩埚壳体侧壁的壁厚从上端口部至底部由Imm逐渐线性增加至3mm，坩埚壳体侧壁的顶端设有直径大于上端口部直径的外沿，外沿的上表面与其壳体外壁之间形成夹角。
[0005]所述坩埚壳体侧壁顶端的外沿与侧壁之间倒圆角过渡；坩埚壳体的内底面与其壳体内壁之间倒圆角过渡。
[0006]本实用新型中，坩埚壳体外沿的上表面与其壳体外壁之间的夹角为35-40°，坩埚壳体的中轴线与其壳体内壁之间的夹角10°，避免其倾角过大造成应力外扩，进而影响坩埚壳体壁的强度的问题。
[0007]有益效果:本实用新型的坩埚为一整体结构，避免因采用焊接存在焊缝、或是铆接造成其整体质量下降的缺陷，延长了坩埚的使用寿命；坩埚壳体的外沿与其侧壁之间、坩埚壳体的内底面与其壳体内壁之间，均采用倒圆角过渡，能够避免各连接的弯折部位较为尖锐造成其耐用度降低的缺陷，提高了其使用寿命。
【专利附图】
【附图说明】
[0008]图1为本实用新型的结构示意图；
[0009]图2为图1中沿A-A线的剖视图。[0010]附图标记:1、坩埚壳体，2、外沿。
【具体实施方式】
[0011]如图1和图2所示，一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，包括一体结构的纯钨制坩埚本体，所述坩埚本体包括圆锥台形的坩埚壳体1，坩埚壳体I底部的直径小于其上端口部的直径，所述的坩埚壳体I侧壁的壁厚从上端口部至底部由Imm逐渐线性增加至3_，坩埚壳体I侧壁的顶端设有直径大于上端口部直径的外沿2，外沿2的上表面与其壳体外壁之间形成夹角。
[0012]进一步的，该坩埚壳体I侧壁顶端的外沿2与侧壁之间倒圆角过渡，过渡圆角半径为3-5mm 甘祸壳体I的内底面与其壳体内壁之间倒圆角过渡，过渡圆角半径为3_5mm。
[0013]在本实用新型的较佳实施例中，所述的纯钨制旋压坩埚中上端口部的外沿2与其壳体外壁之间的夹角α为35-40°，优选的该夹角为35° ;坩埚壳体I的中轴线与其壳体内壁之间的夹角为10°。
[0014]本实用新型中，该钨制旋压坩埚的壳体采用变壁厚设计，在不影响其强度的基础上节约了原材料；整体结构设计的旋压坩埚，避免了现有使用的焊接或铆接纯钨制坩埚耐用度低的问题；其中，坩埚壳体I侧壁顶端的外沿2与侧壁之间、坩埚壳体I的内底面与其壳体内壁之间，均采用倒圆角过渡，能够使各过渡部位形状更为圆滑不尖锐，提高了其使用强度和寿命。
【权利要求】
1.一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，其特征在于:包括一体结构的纯钨制坩埚本体，所述坩埚本体包括圆锥台形的坩埚壳体(1)，坩埚壳体(I)底部的直径小于其上端口部的直径，所述的坩埚壳体(I)侧壁的壁厚从上端口部至底部由1_逐渐线性增加至3_，坩埚壳体(I)侧壁的顶端设有直径大于上端口部直径的外沿(2)，外沿(2)的上表面与其壳体外壁之间形成夹角。
2.如权利要求1所述的一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，其特征在于:所述坩埚壳体(I)侧壁顶端的外沿(2)与侧壁之间倒圆角过渡。
3.如权利要求1所述的一种真空镀膜用钨制旋压坩埚，其特征在于:所述坩埚壳体(I)的内底面与其壳体内壁之间倒圆角过渡。
【文档编号】C23C14/24GK203546134SQ201320568681
【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年9月13日 优先权日:2013年9月13日
【发明者】王小淼, 耿宏安 申请人:洛阳爱科麦钨钼制品有限公司
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