Tft玻璃基板减薄液及其制备方法、tft玻璃基板减薄工艺的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种TFT玻璃基板减薄液,包括:氢氟酸10%~12%,氟化氢铵4%~6%,硝酸5%~8%,硫酸5%~8%,水余量。将TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起,既得成品。本发明提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率,针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳,能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大,软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题,且安全、稳定,有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求,满足了客户的需求。
【专利说明】TFT玻璃基板减薄液及其制备方法、TFT玻璃基板减薄工艺
【技术领域】
[0001]本发明涉及TFT玻璃基板减薄领域,具体涉及一种TFT玻璃基板减薄液及其制备方法,还涉及一种TFT玻璃基板减薄工艺。
【背景技术】
[0002]液晶显示屏目前通常的减薄方法有两种,一为物理抛光研磨,一为化学蚀刻,其中化学薄化玻璃有一下几个特点:
[0003]1、薄化时间短;
[0004]2、薄化产量较高;
[0005]3、成分简单,配制比较容易。
[0006]目前,有进行TFT玻璃减薄的厂家,大部分是以氢氟酸为主要原料,且有些仅使用单一氢氟酸溶液,这种做法存在以下缺点:1,直接接触氢氟酸,毒性高,且该药液易产生氢氟酸气体,生产过程中特别是配制时危险性高,如果辅以加热,则危险性更高;2,蚀刻过程产生白色难溶物,容易悬浮在蚀刻液中及粘附于管道槽壁,难于处理。而且该难溶物吸附性较强,容易粘附在FPD玻璃表面,使TFT玻璃基板的边缘产生凸起,对TFT玻璃基板外观良品率以及后处理造成了很大的影响;3,生产过程中速率不稳定且利用率较低;4,由于利用率低,废液处理困难,与之相配套的废液处理成本较高;5,蚀刻过程中,玻璃上的凹点、划伤缺陷等会放大。
[0007]随着薄化TFT市场发展越来越大,TFT玻璃基板的减薄将有越来越多的企业加入,采用单一氢氟酸根本满足不了 TFT玻璃基板减薄品质要求,适量添加其它辅助酸液来增加其TFT玻璃减薄的品质是必行之势。
【发明内容】
[0008]本发明的目的在于克服上述不足,提供一种TFT玻璃基板减薄液,为TFT玻璃基板提供安全、稳定、高效的生产环境的同时,能有效避免控制蚀刻过程中TFT玻璃基板产生的凹点、划伤缺陷的放大,解决凸起的问题。
[0009]本发明的第一个方面是提供一种TFT玻璃基板减薄液,按照质量百分比计,其组分包括:
[0010]氢氟酸10% ~12%,
[0011]氟化氢铵4%~6%,
[0012]硝酸5% ~8%,
[0013]硫酸5% ~8%
[0014]水余量。
[0015]优选地,所述TFT玻璃基板减薄液的各组分重量配比为:
[0016]氧氣酸10 .5% ~11.5%,
[0017]氟化氢铵4.5%~5.5%,[0018]硝酸5.5% ~7.5%,
[0019]硫酸5.5% ~7.5%,
[0020]水余量。
[0021]进一步优选地,所述TFT玻璃基板减薄液的各组分重量配比为:
[0022]氢氟酸10%,
[0023]氟化氢铵5%,
[0024]硝酸8%,
[0025]硫酸8%,
[0026]水69%。
[0027]其中所述水为超纯水,其纯度≥99%,优选为≥99.9%,更优选为≥99.99%。
[0028]本发明的第二个方面是提供一种本发明第一个方面所述的TFT玻璃基板减薄液的制备方法:将本发 明第一个方面所述的TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起,既得。
[0029]本发明的第三个方面是提供一种TFT玻璃基板减薄工艺,包括以下步骤:
[0030]步骤I,对TFT玻璃基板进行封胶处理,UV固化;
[0031]步骤2,将步骤I处理后的TFT玻璃基板置入装有权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻;
[0032]步骤3,清洗。
[0033]优选地,所述TFT玻璃基板减薄工艺,还包括:
[0034]步骤4,对步骤3处理后的TFT玻璃基板进行成品质量检验,不合格进行步骤5,合格进行步骤6 ;
[0035]步骤5,物理抛光处理,清洗后进行步骤4 ;
[0036]步骤6,进行出货品质检验,合格进行步骤7,不合格进行步骤4,
[0037]步骤7,包装入库。
[0038]本发明提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率,针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳,能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大,软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题,且安全、稳定,有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求,满足了客户的需求。
【专利附图】
【附图说明】
[0039]图1为本发明提供的TFT玻璃基板减薄工艺流程图。
【具体实施方式】
[0040]下面参照附图,结合具体的实施例对本发明作进一步的说明,以更好地理解本发明。
[0041]实施例1
[0042]一种TFT玻璃基板减薄液,按照质量百分比计,其组分包括:
[0043]氢氟酸10%,
[0044]氟化氢铵5%,
[0045]硝酸8%,[0046]硫酸8%,
[0047]超纯水69%。
[0048]将配方中的超纯水、氢氟酸、氟化氢铵、硝酸、硫酸依次加入配酸容器中混合,用搅拌机以搅拌速度120r/min~200r/min的速度搅拌分散40~60min后,即可得到成品TFT玻璃基板减薄液。
[0049]实施例2
[0050]本实施例与实施例的不同在于,TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0051]氢氟酸12%,
[0052]氟化氢铵4%,
[0053]硝酸7%,
[0054]硫酸5%,
[0055]超纯水72%。
[0056]实施例3
[0057]本实施例与实施例的不同在于,TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0058]氢氟酸11%,
[0059]氟化氢铵6%,
[0060]硝酸8%,
[0061]硫酸5%,
[0062]超纯水70%。
[0063]实施例4
[0064]本实施例与实施例的不同在于,TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0065]氢氟酸10.5%,
[0066]氟化氢铵5.5%,
[0067]硝酸7%,
[0068]硫酸6%,
[0069]超纯水71%。
[0070]实施例5
[0071]本实施例与实施例的不同在于,TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0072]氢氟酸12%,
[0073]氟化氢铵5%,
[0074]硝酸5%,
[0075]硫酸5%,
[0076]超纯水73%。
[0077]实施例6
[0078]本实施例与实施例的不同在于,TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0079]氢氟酸10.5%,
[0080]氟化氢铵5.5%,
[0081]硝酸7.5%,
[0082]硫酸6.5%,[0083]超纯水70%。
[0084]实施例7
[0085]参照图1,一种TFT玻璃基板减薄工艺:
[0086]I)从客户/供应商获得TFT玻璃基板材料进行IQC (来料质量控制),合格后,进行封胶处理,UV固化,手动清洗后,进行蚀刻前清洗;
[0087]2)将处理后的TFT玻璃基板置入装有实施例1提供的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻20min ;
[0088]3)进行蚀刻后清洗;
[0089]4)进行FQC (最终品质管制,FinalQualityControl),检测合格进行步骤6),检测不合格进行步骤5);
[0090]5)物理抛光处理,清洗后进行步骤4);
[0091]6)进行OQC (出货品质检验,Outgoing Quality Control),合格进行步骤7),不合格则进行步骤4);
[0092]7)包装入库。
[0093]采用实施例1~6提供的TFT玻璃基板减薄液,按照实施例7提供的TFT玻璃基板减薄工艺的步骤I)~3),对铝硅材质玻璃(3.97寸,厚度为1.1mm)进行减薄处理,单边的蚀刻量控制在0.15mm,然后进行外观检测和蚀刻速度检测,检查结果见表1。其中,对比例I采用3.5%的氢氟酸。
[0094]表1检测结果
【权利要求】
1.一种 TFT玻璃基板减薄液,其特征在于,按照质量百分比计,其组分包括: 氢氟酸10%~12%, 氟化氢铵4%~6%, 硝酸5%~8%, 硫酸5%~8% 水余量。
2.根据权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液,其特征在于,各组分重量配比为: 氢氟酸10.5%~11.5%, 氟化氢铵4.5%~5.5%, 硝酸5.5%~7.5%, 硫酸5.5%~7.5%, 水余量。
3.根据权利要求2所述的TFT玻璃基板减薄液,其特征在于,各组分重量配比为: 氢氟酸10%, 氟化氢铵5%, 硝酸8%, 硫酸8%, 水 69%ο
4.根据权利要求1~3中任意一项所述的TFT玻璃基板减薄液,其特征在于,所述水为超纯水,其纯度> 99.99%。
5.一种权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液,其特征在于,将权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起,既得。
6.一种TFT玻璃基板减薄工艺,其特征在于,包括以下步骤: 步骤1,对TFT玻璃基板进行封胶处理,UV固化; 步骤2,将步骤I处理后的TFT玻璃基板置入装有权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻; 步骤3,清洗。
7.根据权利要求6所述的TFT玻璃基板减薄工艺,其特征在于,还包括: 步骤4,对步骤3处理后的TFT玻璃基板进行成品质量检验,不合格进行步骤5,合格进行步骤6 ; 步骤5,物理抛光处理,清洗后进行步骤4 ; 步骤6,进行出货品质检验,合格进行步骤7,不合格进行步骤4, 步骤7,包装入库。
【文档编号】C03C15/00GK103922602SQ201410136026
【公开日】2014年7月16日 申请日期:2014年4月4日 优先权日:2014年4月4日
【发明者】郑资来, 李胜坤 申请人:惠州市清洋实业有限公司