一种薄膜的制作方法
一种薄膜的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种薄膜，其包括：石墨烯薄膜层，以及形成在石墨烯薄膜层上下表面的PEN薄膜层。通过在石墨烯薄膜层上设PEN薄膜层得到的薄膜，具备了石墨烯的柔韧性好，刚度高的特点，同时也利用了PEN的化学稳定性好，耐酸碱性等都优于其他聚酯薄膜。在石墨烯薄膜层的表面设PEN薄膜层，也很好的利用了PEN薄膜层具有很好的耐热性能，和阻隔性能，即保护了石墨烯薄膜层又提升了薄膜整体的性能。
【专利说明】一种薄膜
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及薄膜材料领域，尤其涉及一种薄膜。
【背景技术】
[0002]薄膜是一种薄而软的透明薄片。一般是由塑料、橡胶制成。其中聚酯薄膜包括如:光学薄膜、复合薄膜、超导薄膜、聚酯薄膜、尼龙薄膜、塑料薄膜等等。其被广泛用于电子电器，机械，印刷等行业。然而，对于目前使用的薄膜，如:聚碳酸酯材料(PC)，虽具备高强度及弹性系数、高抗冲击强度、使用温度范围广、但是其最大不足之处在于表面硬度低，抗划伤性不好；聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，高光学透明性、耐候性好、表面硬度高，但其耐冲击强度低，加工困难；聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，综合性能较优，但PET薄膜一般需经双向拉伸工艺加工，平整度不易控制，并由于取向结双向拉伸聚酯薄膜由于其高透明度、高亮度、较高的耐热稳定性、较好的阻隔性能等优异的物理机械性能在烟包转移、高档镀铝市场的应用越来越广泛，但随着下游市场自动化程度的要求越来越高以及生产成本的考虑，需要聚酯薄膜厚度越来越薄。
【发明内容】
[0003]为了解决现有技术中的问题，本实用新型的目的是提供一种薄膜。其抗划伤性能好、抗拉强度高，厚度小。
[0004]为实现上述目的，本实用新型采用以下设计方案:
[0005]一种薄膜，其包括:
[0006]石墨烯薄膜层及在石墨烯薄膜层上下表面的PEN薄膜层。
[0007]优选的，在PEN薄膜层的外表面上还设有金属膜层。
[0008]优选的，所述金属膜层为T1、TiN或TiC膜层。
[0009]优选的，所述金属膜层的厚度为0.5?10 μ m。
[0010]优选的，所述石墨烯薄膜层为单层石墨烯层或多层石墨烯层。
[0011]本实用新型采用以上设计方案，其在石墨烯薄膜层上设PEN薄膜层得到的薄膜，具备了石墨烯的柔韧性好，刚度高的特点，同时也利用了 PEN的化学稳定性好，耐酸碱性等都优于其他聚酯薄膜。在石墨烯薄膜层的表面设PEN薄膜层，也很好的利用了 PEN薄膜层具有很好的耐热性能，和阻隔性能，即保护了石墨烯薄膜层又提升了薄膜整体的性能。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明:
[0013]图1为本实用新型薄膜实施例一的结构示意图；
[0014]图2为本实用新型薄膜实施例二的结构示意图。
【具体实施方式】
[0015]为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0016]实施例一:
[0017]如图1所述，本实用新型公开的一种薄膜，其包括:
[0018]石墨烯薄膜层I ;形成在石墨烯薄膜层I上下表面的PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)薄膜层2。所述石墨烯薄膜层I为单层石墨烯层。
[0019]实施例二:
[0020]如图2所示，与实施例一不同的是，其中在PEN薄膜层2的外表面上还设有金属膜层3。所述金属膜层3为Ti膜层。所述金属膜层3的厚度为0.5 μ m。所述石墨烯薄膜层I为多层石墨烯层。
[0021]实施例三:
[0022]与实施例一不同的是，其中在PEN薄膜层2的外表面上还设有金属膜层3。所述金属膜层3为TiN膜层。所述金属膜层3的厚度为10 μ m。所述石墨烯薄膜层I为单层石墨烯层。
[0023]本实用新型的薄膜可以采用以下方法制备:在Cu衬底上生长石墨烯(Graphene)；在Graphene/Cu表面旋涂一层约1m厚的PMMA，待PMMA自然固化约30分钟；将样品置于Fe (NO3) 3或(NH3) SO4等溶液表面，将Cu衬底腐蚀掉，PMMA-Graphene漂浮在液面上；用硅片从液面下往上将PMMA-Graphene捞起，放置晾干后置于干燥箱或者低真空(10-2Torr)中使得石墨烯和硅片接触更好；用丙酮溶液将PMMA溶解，将石墨烯转移到目标基底PEN薄膜层上；在附有石墨烯的PEN薄膜上再附上一层PEN薄膜层，石墨烯薄膜层位于PEN薄膜层之间。
[0024]进一步的，可以在上述制得的薄膜的PEN薄膜层的外表面喷涂或镀设金属膜层。
[0025]本实用新型公开的薄膜具备了石墨烯的柔韧性好，刚度高的特点，同时也利用了PEN的化学稳定性好，耐酸碱性等都优于其他聚酯薄膜。在石墨烯薄膜层的表面设PEN薄膜层，也很好的利用了 PEN薄膜曾具有很好的耐热性能，和阻隔性能，即保护了石墨烯薄膜层又提升了薄膜整体的性能。可以广泛的应用于制作超薄录像带基及高性能电子元件，以及用于精密仪器和国防产品的高档包装和抗冲击包装等各个领域。
[0026]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种薄膜，其特征在于，其包括:石墨烯薄膜层及石墨烯薄膜层上下表面的PEN薄膜层。
2.根据权利要求1所述的薄膜，其特征在于:在所述PEN薄膜层的外表面上还设有金属膜层。
3.根据权利要求2所述的薄膜，其特征在于:所述金属膜层为T1、TiN或TiC膜层。
4.根据权利要求2所述的薄膜，其特征在于:所述金属膜层的厚度为0.5?10 μ m。
5.根据权利要求1所述的薄膜，其特征在于:所述石墨烯薄膜层为单层石墨烯层或多层石墨烯层。
【文档编号】B32B15/09GK204160823SQ201420532380
【公开日】2015年2月18日 申请日期:2014年9月16日 优先权日:2014年9月16日
【发明者】林朝晖 申请人:福建省辉锐材料科技有限公司
【专利摘要】本实用新型公开了一种薄膜，其包括：石墨烯薄膜层，以及形成在石墨烯薄膜层上下表面的PEN薄膜层。通过在石墨烯薄膜层上设PEN薄膜层得到的薄膜，具备了石墨烯的柔韧性好，刚度高的特点，同时也利用了PEN的化学稳定性好，耐酸碱性等都优于其他聚酯薄膜。在石墨烯薄膜层的表面设PEN薄膜层，也很好的利用了PEN薄膜层具有很好的耐热性能，和阻隔性能，即保护了石墨烯薄膜层又提升了薄膜整体的性能。
【专利说明】一种薄膜
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及薄膜材料领域，尤其涉及一种薄膜。
【背景技术】
[0002]薄膜是一种薄而软的透明薄片。一般是由塑料、橡胶制成。其中聚酯薄膜包括如:光学薄膜、复合薄膜、超导薄膜、聚酯薄膜、尼龙薄膜、塑料薄膜等等。其被广泛用于电子电器，机械，印刷等行业。然而，对于目前使用的薄膜，如:聚碳酸酯材料(PC)，虽具备高强度及弹性系数、高抗冲击强度、使用温度范围广、但是其最大不足之处在于表面硬度低，抗划伤性不好；聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，高光学透明性、耐候性好、表面硬度高，但其耐冲击强度低，加工困难；聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，综合性能较优，但PET薄膜一般需经双向拉伸工艺加工，平整度不易控制，并由于取向结双向拉伸聚酯薄膜由于其高透明度、高亮度、较高的耐热稳定性、较好的阻隔性能等优异的物理机械性能在烟包转移、高档镀铝市场的应用越来越广泛，但随着下游市场自动化程度的要求越来越高以及生产成本的考虑，需要聚酯薄膜厚度越来越薄。
【发明内容】
[0003]为了解决现有技术中的问题，本实用新型的目的是提供一种薄膜。其抗划伤性能好、抗拉强度高，厚度小。
[0004]为实现上述目的，本实用新型采用以下设计方案:
[0005]一种薄膜，其包括:
[0006]石墨烯薄膜层及在石墨烯薄膜层上下表面的PEN薄膜层。
[0007]优选的，在PEN薄膜层的外表面上还设有金属膜层。
[0008]优选的，所述金属膜层为T1、TiN或TiC膜层。
[0009]优选的，所述金属膜层的厚度为0.5?10 μ m。
[0010]优选的，所述石墨烯薄膜层为单层石墨烯层或多层石墨烯层。
[0011]本实用新型采用以上设计方案，其在石墨烯薄膜层上设PEN薄膜层得到的薄膜，具备了石墨烯的柔韧性好，刚度高的特点，同时也利用了 PEN的化学稳定性好，耐酸碱性等都优于其他聚酯薄膜。在石墨烯薄膜层的表面设PEN薄膜层，也很好的利用了 PEN薄膜层具有很好的耐热性能，和阻隔性能，即保护了石墨烯薄膜层又提升了薄膜整体的性能。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明:
[0013]图1为本实用新型薄膜实施例一的结构示意图；
[0014]图2为本实用新型薄膜实施例二的结构示意图。
【具体实施方式】
[0015]为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0016]实施例一:
[0017]如图1所述，本实用新型公开的一种薄膜，其包括:
[0018]石墨烯薄膜层I ;形成在石墨烯薄膜层I上下表面的PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)薄膜层2。所述石墨烯薄膜层I为单层石墨烯层。
[0019]实施例二:
[0020]如图2所示，与实施例一不同的是，其中在PEN薄膜层2的外表面上还设有金属膜层3。所述金属膜层3为Ti膜层。所述金属膜层3的厚度为0.5 μ m。所述石墨烯薄膜层I为多层石墨烯层。
[0021]实施例三:
[0022]与实施例一不同的是，其中在PEN薄膜层2的外表面上还设有金属膜层3。所述金属膜层3为TiN膜层。所述金属膜层3的厚度为10 μ m。所述石墨烯薄膜层I为单层石墨烯层。
[0023]本实用新型的薄膜可以采用以下方法制备:在Cu衬底上生长石墨烯(Graphene)；在Graphene/Cu表面旋涂一层约1m厚的PMMA，待PMMA自然固化约30分钟；将样品置于Fe (NO3) 3或(NH3) SO4等溶液表面，将Cu衬底腐蚀掉，PMMA-Graphene漂浮在液面上；用硅片从液面下往上将PMMA-Graphene捞起，放置晾干后置于干燥箱或者低真空(10-2Torr)中使得石墨烯和硅片接触更好；用丙酮溶液将PMMA溶解，将石墨烯转移到目标基底PEN薄膜层上；在附有石墨烯的PEN薄膜上再附上一层PEN薄膜层，石墨烯薄膜层位于PEN薄膜层之间。
[0024]进一步的，可以在上述制得的薄膜的PEN薄膜层的外表面喷涂或镀设金属膜层。
[0025]本实用新型公开的薄膜具备了石墨烯的柔韧性好，刚度高的特点，同时也利用了PEN的化学稳定性好，耐酸碱性等都优于其他聚酯薄膜。在石墨烯薄膜层的表面设PEN薄膜层，也很好的利用了 PEN薄膜曾具有很好的耐热性能，和阻隔性能，即保护了石墨烯薄膜层又提升了薄膜整体的性能。可以广泛的应用于制作超薄录像带基及高性能电子元件，以及用于精密仪器和国防产品的高档包装和抗冲击包装等各个领域。
[0026]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种薄膜，其特征在于，其包括:石墨烯薄膜层及石墨烯薄膜层上下表面的PEN薄膜层。
2.根据权利要求1所述的薄膜，其特征在于:在所述PEN薄膜层的外表面上还设有金属膜层。
3.根据权利要求2所述的薄膜，其特征在于:所述金属膜层为T1、TiN或TiC膜层。
4.根据权利要求2所述的薄膜，其特征在于:所述金属膜层的厚度为0.5?10 μ m。
5.根据权利要求1所述的薄膜，其特征在于:所述石墨烯薄膜层为单层石墨烯层或多层石墨烯层。
【文档编号】B32B15/09GK204160823SQ201420532380
【公开日】2015年2月18日 申请日期:2014年9月16日 优先权日:2014年9月16日
【发明者】林朝晖 申请人:福建省辉锐材料科技有限公司
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