玻璃膜的制造方法及玻璃膜的处理方法以及玻璃膜层叠体的制作方法
专利名称：玻璃膜的制造方法及玻璃膜的处理方法以及玻璃膜层叠体的制作方法
技术领域：
本发明涉及在液晶显示器或有机EL显示器等平板显示器、太阳能电池、锂离子电池、数字招牌、触摸板、电子纸等装置的玻璃基板、以及有机EL照明等装置的防护玻璃或医药品包装等中使用的玻璃膜的制造方法、以及通过支承玻璃支承的玻璃膜层叠体。
背景技术：
从节省空间化的观点出发，近年来，正在普及液晶显示器、等离子体显示器、有机 EL显示器、场致发射显示器等平板显示器来代替以往普及的CRT型显示器。这些平板显示器中，要求进一步的薄型化。特别是在有机EL显示器中，通过折叠或卷绕使携带变得容易， 同时要求不仅平面而且曲面也可以使用。另外，并不限于要求不仅平面而且曲面也可以使用的显示器，如果能够在例如汽车的车体表面或建筑物的屋顶、柱或外壁等具有曲面的物体的表面上形成太阳能电池，或者形成有机EL照明，则其用途变广泛。因此，对于这些装置中使用的基板或防护玻璃要求进一步的薄板化和高可挠性。有机EL显示器中使用的发光体，通过接触氧气和水蒸气等气体而劣化。因此，对于有机EL显示器中使用的基板要求高气体阻隔性，因而期待使用玻璃基板。但是，在基板中使用的玻璃与树脂膜不同，拉伸应力弱，因此，可挠性低，通过弯曲玻璃基板而在玻璃基板表面施加拉伸应力时，产生破损。为了对玻璃基板赋予可挠性，需要进行超薄板化，提出了如下述专利文献1中记载的厚度200 μ m以下的玻璃膜。对平板显示器或太阳能电池等电子装置中使用的玻璃基板进行加工处理、清洗处理等各种电子装置制造相关的处理。但是，在进行这些电子装置中使用的玻璃基板的膜化时，由于玻璃为脆性材料，因此，通过略微的应力变化而产生破损，在进行上述各种电子装置制造相关处理时，具有处理非常困难的问题。此外，厚度200 μ m以下的玻璃膜的可挠性优良，因此，还具有在进行处理时难以进行定位、在形成图形时产生错位等问题。为了提高玻璃膜的处理性，提出了在下述专利文献2记载的层叠体。下述专利文献2中提出了隔着即使通过反复使用支承玻璃基板和玻璃片也几乎维持一定的粘合材料层进行层叠的层叠体。由此，即使使用单体中不具有强度和刚性的玻璃片，也可以共用以往的玻璃用液晶显示元件制造生产线来制造液晶显示元件，在工序结束后，在不使玻璃基板破损的情况下能够快速地剥离。另外，由于支承体的刚性高，因此，也难以产生处理时的定位时的错位等问题。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2008-133174号公报专利文献2 日本特开平8-86993号公报
发明内容
发明所要解决的问题
但是，所述各种制造相关处理中存在透明导电膜的形成处理、或密封处理等伴随加热工序的处理。由于粘合剂层的耐热性差，因此，在进行伴随加热的处理时，由于粘合剂层的熔敷，玻璃膜有可能被污染。另外，也可以认为，例如将由结晶化玻璃等构成的烧结用调节器等用于玻璃膜的支承而不使用粘合剂层，但玻璃膜有可能在调节器上滑动，再次产生难以进行处理时的定位的问题。因此，以往，关于玻璃膜的支承，无法出现以下情况能够确定玻璃膜的适当的位置而不会在支承构件的表面上滑动，并且在进行伴随加热的处理后，能够在洁净的状态下容易地剥离玻璃膜。本发明是为了解决如上所述的现有技术的问题而进行的，其目的在于，提高对玻璃膜进行装置制造相关处理等时的处理性，能够确定适当的位置，并且特别是在伴随加热的处理后，将玻璃膜组装到各种装置中时等，能够从支承玻璃容易地剥离玻璃膜，并且确实地防止在剥离后粘合剂等在玻璃膜上残存，从而得到洁净的玻璃膜。解决问题的手段本发明人发现，将Ra为2. Onm以下的玻璃基板之间贴合，对贴合的面进行加热，由此，玻璃基板之间发生胶粘；在一个玻璃基板上形成无机薄膜时，即使进行加热，玻璃基板之间也不会发生胶粘；另外，在减小无机薄膜的表面粗糙度的情况下，玻璃基板之间隔着无机薄膜贴合，另一方面，即使进行伴随加热的处理也不会胶粘，在加热后能够容易地剥离， 从而完成了本发明。本申请发明涉及一种玻璃膜的制造方法，其特征在于，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下；第2工序，其中， 在使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠， 从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4 工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。本发明中，优选所述无机薄膜为氧化物薄膜。另外，本发明中，可以得到如下结构所述玻璃膜与所述支承玻璃在边缘部的至少一部分设置高低差而进行层叠。另外，本发明涉及一种玻璃膜的处理方法，其特征在于，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下；第2工序，其中，使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠，从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。另外，本发明涉及一种玻璃膜层叠体，为在支承玻璃上层叠有玻璃膜的玻璃膜层叠体，其特征在于，在层叠所述玻璃膜的所述支承玻璃的表面形成有无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下，所述玻璃膜的至少层叠侧的表面的表面粗糙度Ra为2. Onm 以下，所述玻璃膜层叠体是使所述无机薄膜的表面与所述玻璃膜的表面接触的状态下进行层置。本发明中，优选所述玻璃膜的层叠侧的表面与所述无机薄膜的表面的GI值分别为lOOOpcs/m2以下。另外，优选所述玻璃膜的厚度为300 μ m以下。优选所述支承玻璃的厚度为400 μ m以上。另外，优选所述玻璃膜与所述支承玻璃的30 380°C下的热膨胀系数之差为5X10_7°C以下。本发明中的玻璃膜与支承玻璃通过溢出下拉法成形。发明效果根据本发明，在支承玻璃的表面形成的表面粗糙度为2. Onm以下的无机薄膜的表面上使表面粗糙度为2. Onm以下的玻璃膜在接触的状态下进行层叠，构成玻璃膜层叠体， 因此，玻璃膜与无机薄膜的密合性好，即使不使用粘合剂，也可以将玻璃膜与支承玻璃隔着无机薄膜固定并进行层叠。由此，在装置制造相关处理时等玻璃膜相对于支承玻璃不会错位移动，能够将玻璃膜定位于正确的位置。另外，即使受到伴随加热的处理，玻璃膜也不会与无机薄膜胶粘，因此，在处理后能够将玻璃膜从支承玻璃(无机薄膜)上容易地剥离。并且，剥离后的玻璃膜成为没有附着粘合剂等的洁净的玻璃膜。另一方面，无机薄膜和玻璃膜的表面粗糙度Ra超过2. Onm时，二者的密合性降低， 无法将玻璃膜和支承玻璃在没有粘合剂的条件下强固地固定并进行层叠。作为上述无机薄膜，采用氧化物薄膜时，能够将玻璃膜和支承玻璃更稳定地固定并进行层叠。另外，通过将所述玻璃膜与所述支承玻璃在边缘部的至少一部分上设置高低差的状态下进行层叠，玻璃膜从支承玻璃上突出的情况下，能够将玻璃膜和支承玻璃更容易并且确实地剥离。另一方面，支承玻璃从玻璃膜上突出的情况下，能够从击打(打突)等中适当地保护玻璃膜的端部。将支承玻璃和玻璃膜隔着无机薄膜进行层叠而成的本发明的玻璃膜层叠体，与玻璃膜单体相比操作性好，另外，即使在经过伴随加热的装置制造相关处理等后，也能够从支承玻璃上将玻璃膜容易地剥离。另外，由于没有使用粘合剂等，因此，玻璃膜在剥离后也没有附着粘合剂等，是洁净的。通过将无机薄膜的表面和玻璃膜的层叠侧的表面的GI值分别设定为lOOOpcs/m2 以下，能够将玻璃膜和支承玻璃更强固地层叠固定。本发明通过厚度为300 μ m以下，适于操作更困难的超薄玻璃膜的制造以及处理。 另外，通过使支承玻璃的厚度为400 μ m以上，能够确实地支承玻璃膜。另外，通过将玻璃膜和支承玻璃的30 380°C下的热膨胀系数之差规定在 5X10_7°C以内，即使进行伴随加热的处理，也能够得到难以产生热翘曲等的玻璃膜层叠体。本发明中的玻璃膜和支承玻璃通过溢出下拉法成形，由此，不需要研磨工序，也能够得到表面精度极高的玻璃。由此，能够在支承玻璃的表面上容易地形成表面精度高的无机薄膜。
图1是本发明的玻璃膜层叠体的截面图。图2是玻璃膜、以及支承玻璃的制造装置的说明图。图3 (a)是将玻璃膜和支承玻璃在边缘部设置高低差并层叠而成的玻璃膜层叠体的图，是支承玻璃从玻璃膜突出的形式的图。图3 (b)是将玻璃膜和支承玻璃在边缘部设置高低差并层叠而成玻璃膜层叠体的图，是玻璃膜从支承玻璃突出的形式的图。图3(c)是在支承玻璃上设置有缺口部的形式的图。图4是本发明的玻璃膜制造方法的示意图。
具体实施例方式以下，关于本发明的玻璃膜的制造方法的优选的实施方式，参照附图的同时进行说明。本发明的玻璃膜的制造方法，如图4所示，包括第1工序，通过成膜单元(8)，在支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下；第2工序，在无机薄膜(4)的表面上使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜( 在接触的状态下进行层叠，得到玻璃膜层叠体(1)；第3工序，通过处理单元(9)对玻璃膜层叠体(1)进行伴随加热的处理；和第4工序，在所述伴随加热的处理后，将玻璃膜( 从支承玻璃(3)上剥离。图1表示经过上述第2工序制作的玻璃膜层叠体(1)。在支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜，在无机薄膜(4)的表面上将玻璃膜( 在直接接触的状态下进行层叠固定。玻璃膜( 使用硅酸盐玻璃，优选使用二氧化硅玻璃、硼硅酸玻璃，最优选使用无碱玻璃。在玻璃膜O)中含有碱成分时，在表面上发生阳离子的脱落，产生所谓的碳酸钠析出的现象，结构上变粗。此时，使玻璃膜(2)弯曲来使用时，有可能由于经年劣化而变粗的部分而破损。另外，在此，无碱玻璃是实质上不含有碱成分(碱金属氧化物)的玻璃，具体而言是碱为IOOOppm以下的玻璃。本发明中的碱成分的含量优选为500ppm以下，更优选为 300ppm 以下。玻璃膜⑵的厚度优选为300 μ m以下，更优选为5 μ m 200 μ m，最优选为5 μ m
100 μ m。由此，使玻璃膜(2)的厚度更薄，能够赋予适当的可挠性，同时操作性困难，并且能够对易产生定位错误或形成图形时的错位等问题的玻璃膜O容易地进行装置制造相关处理等。玻璃膜⑵的厚度低于5μπι时，玻璃膜⑵的强度容易不足，从玻璃膜层叠体(1) 上将玻璃膜(2)剥离组装到装置中时，变得容易引起破损。支承玻璃C3)与玻璃膜( 同样，使用硅酸盐玻璃、二氧化硅玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃等。关于支承玻璃(3)，优选使用与玻璃膜O)的30 380°C下的热膨胀系数之差在5X10_7°C以内的玻璃。由此，即使在制造相关处理时进行热处理，也难以产生由于膨胀率之差引起的热翘曲等，从而可以得到能够维持稳定的层叠状态的玻璃膜层叠体(1)。最优选支承玻璃C3)和玻璃膜( 使用具有相同组成的玻璃。支承玻璃(3)的厚度优选为400 μ m以上。这是由于，如果支承玻璃(3)的厚度低于400 μ m，则以支承玻璃单体进行处理的情况下，在强度方面有可能产生问题。支承玻璃 (3)的厚度优选为400 μ m 700 μ m,最优选为500 μ m 700 μ m。由此，能够确实地支承玻璃膜O)，同时可以有效地抑制将玻璃膜( 和支承玻璃C3)剥离时能够产生的破损。另夕卜，在未图示的调节器上载置玻璃膜层叠体(1)时，支承玻璃(3)的厚度可以低于400μπι。上述第1工序是在支承玻璃( 的表面上形成无机薄膜(4)使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下的工序。由于在支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜(4)，即使进行热处理等伴随加热的处理，也能够防止支承玻璃C3)和玻璃膜( 发生胶粘。另外，由于无机薄膜(4)的表面粗糙度Ra为2. Onm以下，因此，不使用粘合剂等，也可以将玻璃膜(2)在接触的状态下层叠固定。在支承玻璃(3)上形成的无机薄膜⑷的表面粗糙度Ra优选为1. Onm以下，更优选为0. 5nm以下，最优选为0. 2nm以下。如果能够形成无机薄膜⑷使表面粗糙度Ra为2. Onm以下，则对支承玻璃(3)的表面粗糙度Ra没有特别的限定。但是，支承玻璃C3)的表面粗糙时，对形成表面的凹凸后的无机薄膜(4)不产生影响，因此，有可能难以将无机薄膜(4)的表面粗糙度Ra形成为2. Onm 以下。因此，支承玻璃(3)的表面粗糙度Ra优选为2. Onm以下，更优选为1. Onm以下，进一步优选为0. 5nm以下，最优选为0. 2nm以下。无机薄膜(4)的厚度优选为Inm lOOOOnm。为了控制成膜成本，膜厚越少越有禾丨J，更优选为Inm lOOOnm，最优选为Inm 200nm。无机薄膜(4)优选由选自IT0、Ti、Si、Au、Ag、Al、Cr、Cu、Mg、Ti、Si0、Si02、Al203、
MgO J2O3、La2O3、Pr6O1 丄、Sc2O3、WO3、HfO2、In2O3、ITO、ZrO2、Nd2O3、Ta2O5、CeO2、Nb2O5、Ti0、TiO2、 Ti305、Ni0、Zn0中的1种或者2种以上形成。无机薄膜(4)更优选为氧化物薄膜。氧化物薄膜热稳定。因此，通过在支承玻璃上设置氧化物薄膜，即使对玻璃膜层叠体(1)进行伴随加热的处理，也能够反复使用带薄膜的支承玻璃⑶。作为氧化物薄膜，优选使用SiCKSiO^Al^JgCKYWrLEiAJreOnjc^、 WO3、HfO2、In2O3、I TO、ZrO2、Nd2O3、Ta2O5, CeO2、Nb2O5、TiO、TiO2、Ti3O5、NiO、SiO 以及它们的组
口 O图1中，在支承玻璃C3)上仅形成1层无机薄膜，但也可以由多层构成无机薄膜G)。此时，最外层(与玻璃膜⑵接触的层)优选为氧化物薄膜。如上所述，这是由于氧化物薄膜是热稳定的。图1中，仅在层叠玻璃膜O)的支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜G)，但也可以为了使用支承玻璃(3)的两面，在与上述表面相反侧的表面上也可以形成无机薄膜G)。 另外，也可以在支承玻璃(3)的整个表面上形成无机薄膜G)。上述第1工序中，作为图4所示的成膜单元(8)，可以使用公知的方法，可以使用溅射法、蒸镀法、CVD法、溶胶凝胶法等。上述第2工序是在无机薄膜的表面上使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜( 在接触的状态下进行层叠并形成图1所示的玻璃膜层叠体(1)的工序。无机薄膜的表面和玻璃膜O)的层叠侧的表面的表面粗糙度Ra均为2. Onm 以下。Ra超过2. Onm时，玻璃膜⑵与支承玻璃(3)上的无机薄膜⑷的密合性降低，从而无法将玻璃膜( 与支承玻璃( 上的无机薄膜(4)在无胶粘剂的情况下强固地进行层叠固定。玻璃膜O)的表面粗糙度Ra优选为l.Onm以下，更优选为0.5nm以下，最优选为 0. 2nm以下。优选玻璃膜( 的层叠侧的表面以及支承玻璃C3)上的无机薄膜(4)的表面的GI 值分别为lOOOpcs/m2以下。由此，由于玻璃膜O)的层叠侧的表面和支承玻璃C3)上的无机薄膜的表面为洁净的，因此，不会损害表面的活性，即使不使用胶粘剂，也能够将玻璃膜( 和支承玻璃C3)上的无机薄膜(4)更强固地稳定地进行层叠固定。本说明书中，GI值是在Im2的区域内存在的长径1 μ m以上的不纯粒子的个数(pes)。更优选玻璃膜O) 的层叠侧的表面以及支承玻璃C3)上的无机薄膜的表面的GI值分别为500pCS/m2以下，最优选为lOOpcs/m2以下。优选本发明中使用的玻璃膜O)以及支承玻璃C3)通过下拉法成形。这是由于， 能够使玻璃膜O)以及支承玻璃(3)的表面更光滑地成形。特别是图2所示的溢出下拉法是在成形时玻璃板的两面与成形构件不接触的成形法，在所得到的玻璃板的两面(透光面)上难以产生损伤，即使不进行研磨，也能够得到高表面品位。在图2所示的溢出下拉法中，从截面为楔形的成形体(6)的下端部(61)流下后的玻璃带(G)通过冷却辊(7)来限制宽度方向的收缩，同时向下方拉伸，变薄至规定的厚度。 接着，将达到所述规定厚度的玻璃带(G)在徐冷炉(退火炉)中缓慢地冷却，排除玻璃带 (G)的热变形，将玻璃带(G)切割成规定尺寸，由此，形成玻璃膜O)以及支承玻璃(3)。上述第3工序是通过处理单元(9)对第2工序中制作的玻璃膜层叠体⑴进行伴随加热的处理的工序。作为第3工序中的伴随加热的处理，例如在装置、特别是电子装置制造中，可以列举利用溅射法等的成膜处理、密封元件等的密封处理、玻璃粉的烧结处理等。另外，在玻璃膜的制造中，可以列举利用溅射法等的防反射膜、防透射膜等的成膜处理。第3工序中使用的处理单元(9)，可以由单一的处理单元构成，也可以由多个相同或者不同的处理单元构成。上述第4工序是在第3工序后将玻璃膜(2)从支承玻璃(3)上剥离的工序。由于通过第1工序在支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜(4)，因此，即使在第3工序中进行伴随加热的制造相关处理，也能够防止支承玻璃C3)和玻璃膜( 发生胶粘，从而可以容易地剥离玻璃膜O)。另外，在装置制造相关处理后将玻璃膜( 组装到各种装置中时，如果从支承玻璃(3)上将玻璃膜(2)在1个部位上剥离，则之后能够连续地将整个玻璃膜(2)容易地从支承玻璃(3)上剥离。另外，剥离后的玻璃膜(2)是粘合剂等完全没有残留的洁净的膜。经过上述第2工序制作的玻璃膜层叠体(1)，如图3所示，优选玻璃膜( 和支承玻璃C3)在边缘部上设置高低差( 进行层叠。在如图3(a)所示的形式中，以支承玻璃 (3)比玻璃膜( 突出的方式设置高低差(51)。由此，能够更加适当地保护玻璃膜O)的端部。另一方面，在如图3(b)所示的形式中，在玻璃膜( 从支承玻璃C3)突出的状态下设置高低差(52)。由此，在玻璃膜(2)与支承玻璃(3)的剥离开始时，能够容易地仅把持玻璃膜O)，并且能够将二者更容易并且确实地剥离。在如图3 (c)所示的形式中，在支承玻璃 (3)的边缘部设置缺口部。高低差(5)只要在玻璃膜层叠体(1)的周边部的至少一部分设置即可，例如，在玻璃膜层叠体(1)从平面上看为矩形状的情况下，在4边中至少1个边上设置即可。另外，通过支承玻璃C3)或者玻璃膜O)的4个角的一部分上设置缺口(定向平面(才U 7，))，
可以设置高低差。在如图3(b)所示的形式中，玻璃膜(3)的突出量优选为Imm 20mm。如果低于 1mm，则在剥离开始时有可能难以把持玻璃膜O)的边缘部，如果超过20mm，则在玻璃膜层叠体(1)的侧边缘部施加击打等外力时，玻璃膜( 有可能破损。
另外，在玻璃膜层叠体⑴的端部设置从玻璃膜⑵的边缘部使支承玻璃⑶的边缘部突出而形成的高低差、和从支承玻璃(3)的边缘部使玻璃膜O)的边缘部突出而形成的高低差( 二者，由此，能够分别同时把持玻璃膜( 和支承玻璃(3)，另外可以容易地使玻璃膜(2)剥离。上述二种高低差最优选彼此接近地形成。另外，如图3(c)所示，在玻璃膜O)比支承玻璃C3)小的情况下，优选在支承玻璃 (3)的端部设置缺口部(31)。适当地保护玻璃膜O)的端部，并且在玻璃膜O)的剥离时能够容易地把持在支承玻璃(3)的缺口部(31)露出的玻璃膜(2)，从而能够容易地剥离玻璃膜( 。通过磨石等对支承玻璃C3)端部的一部分进行研削，或者通过空心钻等切掉端部的一部分，由此能够形成缺口部(31)。本发明的玻璃膜的制造方法，可以连续地进行图4中示意表示的第1工序、第2工序、第3工序以及第4工序。支承玻璃(3)由于能够再利用，因此，作为第1工序，也包括将已经形成有无机薄膜的支承玻璃(3)投入刚要进行第2工序前的生产线。另外，并不限于从第1工序至第4工序连续地进行的构成，例如，在第2工序后将所制造的玻璃膜层叠体(1)包装、出货，在另外制造相关处理设施中，也可以为进行第3工序以及第4工序的构成。实施例1以下，基于实施例对本发明的玻璃膜的制造方法详细地进行说明，但本发明并不限定于这些实施例。(层叠试验)将纵250mm、横250mm、厚度700 μ m的矩形状的透明的玻璃板作为支承玻璃使用。 作为在支承玻璃上层叠的玻璃膜，使用纵230mm、横230mm、厚度100 μ m的玻璃膜。支承玻璃和玻璃膜使用日本电气硝子株式会社制造的无碱玻璃(制品名0A-10G、30 380°C下的热膨胀系数38X10_7°C)。将通过溢出下拉法成形的玻璃在未研磨的状态下直接使用，或者通过适当控制研磨以及化学蚀刻的量来进行Ra的控制。在支承玻璃上，如表1所示，作为无机薄膜将ITO以及Ti成膜50 200nm。成膜使用BOC公司制连续式溅射装置进行。 接着，使用Veeco公司制AFM(Nanoscope III a)在扫描尺寸10 μ m、扫描速度IHz、样品生产线512的条件下测定支承玻璃上的无机薄膜的表面、以及玻璃膜的层叠侧的表面的表面粗糙度Ra。表面粗糙度Ra由测定范围10 μ m见方的测定值计算出。测定后，在表1所示的试验区内对支承玻璃以及玻璃膜进行划分。之后，根据各自表1所示的划分，在支承玻璃上的无机薄膜的表面上直接重合玻璃膜。将支承玻璃和玻璃膜能够强固地贴合并层叠的情况判定为〇，将无法贴合的情况判定为X。将结果示于表1。表 权利要求
1.一种玻璃膜的制造方法，其特征在于，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到 2. Onm以下；第2工序，其中，在使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠，从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。
2.根据权利要求1所述的玻璃膜的制造方法，其特征在于，所述无机薄膜为氧化物薄膜。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃膜的制造方法，其特征在于，所述玻璃膜与所述支承玻璃在边缘部的至少一部分设置高低差而进行层叠。
4.一种玻璃膜的处理方法，其特征在于，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到 2. Onm以下；第2工序，其中，使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠，从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。
5.一种玻璃膜层叠体，为在支承玻璃上层叠有玻璃膜的玻璃膜层叠体，其特征在于， 在层叠所述玻璃膜的所述支承玻璃的表面形成有无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下，所述玻璃膜的至少层叠侧的表面的表面粗糙度Ra为2. Onm以下， 所述玻璃膜层叠体是使所述无机薄膜的表面与所述玻璃膜的表面接触的状态下进行层置。
6.根据权利要求5所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述玻璃膜的层叠侧的表面与所述无机薄膜的表面的GI值分别为lOOOpcs/m2以下。
7.根据权利要求5或6所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述玻璃膜的厚度为 300 μ m以下。
8.根据权利要求5 7中任一项所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述支承玻璃的厚度为400 μ m以上。
9.根据权利要求5 8中任一项所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述玻璃膜与所述支承玻璃的在30 380°C下的热膨胀系数之差为5X10_7°C以下。
10.根据权利要求5 9中任一项所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述玻璃膜与所述支承玻璃分别通过溢出下拉法成形。
全文摘要
玻璃膜的制造方法，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2.0nm以下；第2工序，其中，在使表面粗糙度Ra为2.0nm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠，从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。
文档编号G09F9/30GK102471129SQ20108002761
公开日2012年5月23日 申请日期2010年9月14日 优先权日2009年9月18日
发明者折口长敏, 泷本博司, 笘本雅博, 高谷辰弥 申请人:日本电气硝子株式会社
技术领域：
本发明涉及在液晶显示器或有机EL显示器等平板显示器、太阳能电池、锂离子电池、数字招牌、触摸板、电子纸等装置的玻璃基板、以及有机EL照明等装置的防护玻璃或医药品包装等中使用的玻璃膜的制造方法、以及通过支承玻璃支承的玻璃膜层叠体。
背景技术：
从节省空间化的观点出发，近年来，正在普及液晶显示器、等离子体显示器、有机 EL显示器、场致发射显示器等平板显示器来代替以往普及的CRT型显示器。这些平板显示器中，要求进一步的薄型化。特别是在有机EL显示器中，通过折叠或卷绕使携带变得容易， 同时要求不仅平面而且曲面也可以使用。另外，并不限于要求不仅平面而且曲面也可以使用的显示器，如果能够在例如汽车的车体表面或建筑物的屋顶、柱或外壁等具有曲面的物体的表面上形成太阳能电池，或者形成有机EL照明，则其用途变广泛。因此，对于这些装置中使用的基板或防护玻璃要求进一步的薄板化和高可挠性。有机EL显示器中使用的发光体，通过接触氧气和水蒸气等气体而劣化。因此，对于有机EL显示器中使用的基板要求高气体阻隔性，因而期待使用玻璃基板。但是，在基板中使用的玻璃与树脂膜不同，拉伸应力弱，因此，可挠性低，通过弯曲玻璃基板而在玻璃基板表面施加拉伸应力时，产生破损。为了对玻璃基板赋予可挠性，需要进行超薄板化，提出了如下述专利文献1中记载的厚度200 μ m以下的玻璃膜。对平板显示器或太阳能电池等电子装置中使用的玻璃基板进行加工处理、清洗处理等各种电子装置制造相关的处理。但是，在进行这些电子装置中使用的玻璃基板的膜化时，由于玻璃为脆性材料，因此，通过略微的应力变化而产生破损，在进行上述各种电子装置制造相关处理时，具有处理非常困难的问题。此外，厚度200 μ m以下的玻璃膜的可挠性优良，因此，还具有在进行处理时难以进行定位、在形成图形时产生错位等问题。为了提高玻璃膜的处理性，提出了在下述专利文献2记载的层叠体。下述专利文献2中提出了隔着即使通过反复使用支承玻璃基板和玻璃片也几乎维持一定的粘合材料层进行层叠的层叠体。由此，即使使用单体中不具有强度和刚性的玻璃片，也可以共用以往的玻璃用液晶显示元件制造生产线来制造液晶显示元件，在工序结束后，在不使玻璃基板破损的情况下能够快速地剥离。另外，由于支承体的刚性高，因此，也难以产生处理时的定位时的错位等问题。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2008-133174号公报专利文献2 日本特开平8-86993号公报
发明内容
发明所要解决的问题
但是，所述各种制造相关处理中存在透明导电膜的形成处理、或密封处理等伴随加热工序的处理。由于粘合剂层的耐热性差，因此，在进行伴随加热的处理时，由于粘合剂层的熔敷，玻璃膜有可能被污染。另外，也可以认为，例如将由结晶化玻璃等构成的烧结用调节器等用于玻璃膜的支承而不使用粘合剂层，但玻璃膜有可能在调节器上滑动，再次产生难以进行处理时的定位的问题。因此，以往，关于玻璃膜的支承，无法出现以下情况能够确定玻璃膜的适当的位置而不会在支承构件的表面上滑动，并且在进行伴随加热的处理后，能够在洁净的状态下容易地剥离玻璃膜。本发明是为了解决如上所述的现有技术的问题而进行的，其目的在于，提高对玻璃膜进行装置制造相关处理等时的处理性，能够确定适当的位置，并且特别是在伴随加热的处理后，将玻璃膜组装到各种装置中时等，能够从支承玻璃容易地剥离玻璃膜，并且确实地防止在剥离后粘合剂等在玻璃膜上残存，从而得到洁净的玻璃膜。解决问题的手段本发明人发现，将Ra为2. Onm以下的玻璃基板之间贴合，对贴合的面进行加热，由此，玻璃基板之间发生胶粘；在一个玻璃基板上形成无机薄膜时，即使进行加热，玻璃基板之间也不会发生胶粘；另外，在减小无机薄膜的表面粗糙度的情况下，玻璃基板之间隔着无机薄膜贴合，另一方面，即使进行伴随加热的处理也不会胶粘，在加热后能够容易地剥离， 从而完成了本发明。本申请发明涉及一种玻璃膜的制造方法，其特征在于，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下；第2工序，其中， 在使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠， 从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4 工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。本发明中，优选所述无机薄膜为氧化物薄膜。另外，本发明中，可以得到如下结构所述玻璃膜与所述支承玻璃在边缘部的至少一部分设置高低差而进行层叠。另外，本发明涉及一种玻璃膜的处理方法，其特征在于，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下；第2工序，其中，使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠，从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。另外，本发明涉及一种玻璃膜层叠体，为在支承玻璃上层叠有玻璃膜的玻璃膜层叠体，其特征在于，在层叠所述玻璃膜的所述支承玻璃的表面形成有无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下，所述玻璃膜的至少层叠侧的表面的表面粗糙度Ra为2. Onm 以下，所述玻璃膜层叠体是使所述无机薄膜的表面与所述玻璃膜的表面接触的状态下进行层置。本发明中，优选所述玻璃膜的层叠侧的表面与所述无机薄膜的表面的GI值分别为lOOOpcs/m2以下。另外，优选所述玻璃膜的厚度为300 μ m以下。优选所述支承玻璃的厚度为400 μ m以上。另外，优选所述玻璃膜与所述支承玻璃的30 380°C下的热膨胀系数之差为5X10_7°C以下。本发明中的玻璃膜与支承玻璃通过溢出下拉法成形。发明效果根据本发明，在支承玻璃的表面形成的表面粗糙度为2. Onm以下的无机薄膜的表面上使表面粗糙度为2. Onm以下的玻璃膜在接触的状态下进行层叠，构成玻璃膜层叠体， 因此，玻璃膜与无机薄膜的密合性好，即使不使用粘合剂，也可以将玻璃膜与支承玻璃隔着无机薄膜固定并进行层叠。由此，在装置制造相关处理时等玻璃膜相对于支承玻璃不会错位移动，能够将玻璃膜定位于正确的位置。另外，即使受到伴随加热的处理，玻璃膜也不会与无机薄膜胶粘，因此，在处理后能够将玻璃膜从支承玻璃(无机薄膜)上容易地剥离。并且，剥离后的玻璃膜成为没有附着粘合剂等的洁净的玻璃膜。另一方面，无机薄膜和玻璃膜的表面粗糙度Ra超过2. Onm时，二者的密合性降低， 无法将玻璃膜和支承玻璃在没有粘合剂的条件下强固地固定并进行层叠。作为上述无机薄膜，采用氧化物薄膜时，能够将玻璃膜和支承玻璃更稳定地固定并进行层叠。另外，通过将所述玻璃膜与所述支承玻璃在边缘部的至少一部分上设置高低差的状态下进行层叠，玻璃膜从支承玻璃上突出的情况下，能够将玻璃膜和支承玻璃更容易并且确实地剥离。另一方面，支承玻璃从玻璃膜上突出的情况下，能够从击打(打突)等中适当地保护玻璃膜的端部。将支承玻璃和玻璃膜隔着无机薄膜进行层叠而成的本发明的玻璃膜层叠体，与玻璃膜单体相比操作性好，另外，即使在经过伴随加热的装置制造相关处理等后，也能够从支承玻璃上将玻璃膜容易地剥离。另外，由于没有使用粘合剂等，因此，玻璃膜在剥离后也没有附着粘合剂等，是洁净的。通过将无机薄膜的表面和玻璃膜的层叠侧的表面的GI值分别设定为lOOOpcs/m2 以下，能够将玻璃膜和支承玻璃更强固地层叠固定。本发明通过厚度为300 μ m以下，适于操作更困难的超薄玻璃膜的制造以及处理。 另外，通过使支承玻璃的厚度为400 μ m以上，能够确实地支承玻璃膜。另外，通过将玻璃膜和支承玻璃的30 380°C下的热膨胀系数之差规定在 5X10_7°C以内，即使进行伴随加热的处理，也能够得到难以产生热翘曲等的玻璃膜层叠体。本发明中的玻璃膜和支承玻璃通过溢出下拉法成形，由此，不需要研磨工序，也能够得到表面精度极高的玻璃。由此，能够在支承玻璃的表面上容易地形成表面精度高的无机薄膜。
图1是本发明的玻璃膜层叠体的截面图。图2是玻璃膜、以及支承玻璃的制造装置的说明图。图3 (a)是将玻璃膜和支承玻璃在边缘部设置高低差并层叠而成的玻璃膜层叠体的图，是支承玻璃从玻璃膜突出的形式的图。图3 (b)是将玻璃膜和支承玻璃在边缘部设置高低差并层叠而成玻璃膜层叠体的图，是玻璃膜从支承玻璃突出的形式的图。图3(c)是在支承玻璃上设置有缺口部的形式的图。图4是本发明的玻璃膜制造方法的示意图。
具体实施例方式以下，关于本发明的玻璃膜的制造方法的优选的实施方式，参照附图的同时进行说明。本发明的玻璃膜的制造方法，如图4所示，包括第1工序，通过成膜单元(8)，在支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下；第2工序，在无机薄膜(4)的表面上使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜( 在接触的状态下进行层叠，得到玻璃膜层叠体(1)；第3工序，通过处理单元(9)对玻璃膜层叠体(1)进行伴随加热的处理；和第4工序，在所述伴随加热的处理后，将玻璃膜( 从支承玻璃(3)上剥离。图1表示经过上述第2工序制作的玻璃膜层叠体(1)。在支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜，在无机薄膜(4)的表面上将玻璃膜( 在直接接触的状态下进行层叠固定。玻璃膜( 使用硅酸盐玻璃，优选使用二氧化硅玻璃、硼硅酸玻璃，最优选使用无碱玻璃。在玻璃膜O)中含有碱成分时，在表面上发生阳离子的脱落，产生所谓的碳酸钠析出的现象，结构上变粗。此时，使玻璃膜(2)弯曲来使用时，有可能由于经年劣化而变粗的部分而破损。另外，在此，无碱玻璃是实质上不含有碱成分(碱金属氧化物)的玻璃，具体而言是碱为IOOOppm以下的玻璃。本发明中的碱成分的含量优选为500ppm以下，更优选为 300ppm 以下。玻璃膜⑵的厚度优选为300 μ m以下，更优选为5 μ m 200 μ m，最优选为5 μ m
100 μ m。由此，使玻璃膜(2)的厚度更薄，能够赋予适当的可挠性，同时操作性困难，并且能够对易产生定位错误或形成图形时的错位等问题的玻璃膜O容易地进行装置制造相关处理等。玻璃膜⑵的厚度低于5μπι时，玻璃膜⑵的强度容易不足，从玻璃膜层叠体(1) 上将玻璃膜(2)剥离组装到装置中时，变得容易引起破损。支承玻璃C3)与玻璃膜( 同样，使用硅酸盐玻璃、二氧化硅玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃等。关于支承玻璃(3)，优选使用与玻璃膜O)的30 380°C下的热膨胀系数之差在5X10_7°C以内的玻璃。由此，即使在制造相关处理时进行热处理，也难以产生由于膨胀率之差引起的热翘曲等，从而可以得到能够维持稳定的层叠状态的玻璃膜层叠体(1)。最优选支承玻璃C3)和玻璃膜( 使用具有相同组成的玻璃。支承玻璃(3)的厚度优选为400 μ m以上。这是由于，如果支承玻璃(3)的厚度低于400 μ m，则以支承玻璃单体进行处理的情况下，在强度方面有可能产生问题。支承玻璃 (3)的厚度优选为400 μ m 700 μ m,最优选为500 μ m 700 μ m。由此，能够确实地支承玻璃膜O)，同时可以有效地抑制将玻璃膜( 和支承玻璃C3)剥离时能够产生的破损。另夕卜，在未图示的调节器上载置玻璃膜层叠体(1)时，支承玻璃(3)的厚度可以低于400μπι。上述第1工序是在支承玻璃( 的表面上形成无机薄膜(4)使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下的工序。由于在支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜(4)，即使进行热处理等伴随加热的处理，也能够防止支承玻璃C3)和玻璃膜( 发生胶粘。另外，由于无机薄膜(4)的表面粗糙度Ra为2. Onm以下，因此，不使用粘合剂等，也可以将玻璃膜(2)在接触的状态下层叠固定。在支承玻璃(3)上形成的无机薄膜⑷的表面粗糙度Ra优选为1. Onm以下，更优选为0. 5nm以下，最优选为0. 2nm以下。如果能够形成无机薄膜⑷使表面粗糙度Ra为2. Onm以下，则对支承玻璃(3)的表面粗糙度Ra没有特别的限定。但是，支承玻璃C3)的表面粗糙时，对形成表面的凹凸后的无机薄膜(4)不产生影响，因此，有可能难以将无机薄膜(4)的表面粗糙度Ra形成为2. Onm 以下。因此，支承玻璃(3)的表面粗糙度Ra优选为2. Onm以下，更优选为1. Onm以下，进一步优选为0. 5nm以下，最优选为0. 2nm以下。无机薄膜(4)的厚度优选为Inm lOOOOnm。为了控制成膜成本，膜厚越少越有禾丨J，更优选为Inm lOOOnm，最优选为Inm 200nm。无机薄膜(4)优选由选自IT0、Ti、Si、Au、Ag、Al、Cr、Cu、Mg、Ti、Si0、Si02、Al203、
MgO J2O3、La2O3、Pr6O1 丄、Sc2O3、WO3、HfO2、In2O3、ITO、ZrO2、Nd2O3、Ta2O5、CeO2、Nb2O5、Ti0、TiO2、 Ti305、Ni0、Zn0中的1种或者2种以上形成。无机薄膜(4)更优选为氧化物薄膜。氧化物薄膜热稳定。因此，通过在支承玻璃上设置氧化物薄膜，即使对玻璃膜层叠体(1)进行伴随加热的处理，也能够反复使用带薄膜的支承玻璃⑶。作为氧化物薄膜，优选使用SiCKSiO^Al^JgCKYWrLEiAJreOnjc^、 WO3、HfO2、In2O3、I TO、ZrO2、Nd2O3、Ta2O5, CeO2、Nb2O5、TiO、TiO2、Ti3O5、NiO、SiO 以及它们的组
口 O图1中，在支承玻璃C3)上仅形成1层无机薄膜，但也可以由多层构成无机薄膜G)。此时，最外层(与玻璃膜⑵接触的层)优选为氧化物薄膜。如上所述，这是由于氧化物薄膜是热稳定的。图1中，仅在层叠玻璃膜O)的支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜G)，但也可以为了使用支承玻璃(3)的两面，在与上述表面相反侧的表面上也可以形成无机薄膜G)。 另外，也可以在支承玻璃(3)的整个表面上形成无机薄膜G)。上述第1工序中，作为图4所示的成膜单元(8)，可以使用公知的方法，可以使用溅射法、蒸镀法、CVD法、溶胶凝胶法等。上述第2工序是在无机薄膜的表面上使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜( 在接触的状态下进行层叠并形成图1所示的玻璃膜层叠体(1)的工序。无机薄膜的表面和玻璃膜O)的层叠侧的表面的表面粗糙度Ra均为2. Onm 以下。Ra超过2. Onm时，玻璃膜⑵与支承玻璃(3)上的无机薄膜⑷的密合性降低，从而无法将玻璃膜( 与支承玻璃( 上的无机薄膜(4)在无胶粘剂的情况下强固地进行层叠固定。玻璃膜O)的表面粗糙度Ra优选为l.Onm以下，更优选为0.5nm以下，最优选为 0. 2nm以下。优选玻璃膜( 的层叠侧的表面以及支承玻璃C3)上的无机薄膜(4)的表面的GI 值分别为lOOOpcs/m2以下。由此，由于玻璃膜O)的层叠侧的表面和支承玻璃C3)上的无机薄膜的表面为洁净的，因此，不会损害表面的活性，即使不使用胶粘剂，也能够将玻璃膜( 和支承玻璃C3)上的无机薄膜(4)更强固地稳定地进行层叠固定。本说明书中，GI值是在Im2的区域内存在的长径1 μ m以上的不纯粒子的个数(pes)。更优选玻璃膜O) 的层叠侧的表面以及支承玻璃C3)上的无机薄膜的表面的GI值分别为500pCS/m2以下，最优选为lOOpcs/m2以下。优选本发明中使用的玻璃膜O)以及支承玻璃C3)通过下拉法成形。这是由于， 能够使玻璃膜O)以及支承玻璃(3)的表面更光滑地成形。特别是图2所示的溢出下拉法是在成形时玻璃板的两面与成形构件不接触的成形法，在所得到的玻璃板的两面(透光面)上难以产生损伤，即使不进行研磨，也能够得到高表面品位。在图2所示的溢出下拉法中，从截面为楔形的成形体(6)的下端部(61)流下后的玻璃带(G)通过冷却辊(7)来限制宽度方向的收缩，同时向下方拉伸，变薄至规定的厚度。 接着，将达到所述规定厚度的玻璃带(G)在徐冷炉(退火炉)中缓慢地冷却，排除玻璃带 (G)的热变形，将玻璃带(G)切割成规定尺寸，由此，形成玻璃膜O)以及支承玻璃(3)。上述第3工序是通过处理单元(9)对第2工序中制作的玻璃膜层叠体⑴进行伴随加热的处理的工序。作为第3工序中的伴随加热的处理，例如在装置、特别是电子装置制造中，可以列举利用溅射法等的成膜处理、密封元件等的密封处理、玻璃粉的烧结处理等。另外，在玻璃膜的制造中，可以列举利用溅射法等的防反射膜、防透射膜等的成膜处理。第3工序中使用的处理单元(9)，可以由单一的处理单元构成，也可以由多个相同或者不同的处理单元构成。上述第4工序是在第3工序后将玻璃膜(2)从支承玻璃(3)上剥离的工序。由于通过第1工序在支承玻璃(3)的表面上形成无机薄膜(4)，因此，即使在第3工序中进行伴随加热的制造相关处理，也能够防止支承玻璃C3)和玻璃膜( 发生胶粘，从而可以容易地剥离玻璃膜O)。另外，在装置制造相关处理后将玻璃膜( 组装到各种装置中时，如果从支承玻璃(3)上将玻璃膜(2)在1个部位上剥离，则之后能够连续地将整个玻璃膜(2)容易地从支承玻璃(3)上剥离。另外，剥离后的玻璃膜(2)是粘合剂等完全没有残留的洁净的膜。经过上述第2工序制作的玻璃膜层叠体(1)，如图3所示，优选玻璃膜( 和支承玻璃C3)在边缘部上设置高低差( 进行层叠。在如图3(a)所示的形式中，以支承玻璃 (3)比玻璃膜( 突出的方式设置高低差(51)。由此，能够更加适当地保护玻璃膜O)的端部。另一方面，在如图3(b)所示的形式中，在玻璃膜( 从支承玻璃C3)突出的状态下设置高低差(52)。由此，在玻璃膜(2)与支承玻璃(3)的剥离开始时，能够容易地仅把持玻璃膜O)，并且能够将二者更容易并且确实地剥离。在如图3 (c)所示的形式中，在支承玻璃 (3)的边缘部设置缺口部。高低差(5)只要在玻璃膜层叠体(1)的周边部的至少一部分设置即可，例如，在玻璃膜层叠体(1)从平面上看为矩形状的情况下，在4边中至少1个边上设置即可。另外，通过支承玻璃C3)或者玻璃膜O)的4个角的一部分上设置缺口(定向平面(才U 7，))，
可以设置高低差。在如图3(b)所示的形式中，玻璃膜(3)的突出量优选为Imm 20mm。如果低于 1mm，则在剥离开始时有可能难以把持玻璃膜O)的边缘部，如果超过20mm，则在玻璃膜层叠体(1)的侧边缘部施加击打等外力时，玻璃膜( 有可能破损。
另外，在玻璃膜层叠体⑴的端部设置从玻璃膜⑵的边缘部使支承玻璃⑶的边缘部突出而形成的高低差、和从支承玻璃(3)的边缘部使玻璃膜O)的边缘部突出而形成的高低差( 二者，由此，能够分别同时把持玻璃膜( 和支承玻璃(3)，另外可以容易地使玻璃膜(2)剥离。上述二种高低差最优选彼此接近地形成。另外，如图3(c)所示，在玻璃膜O)比支承玻璃C3)小的情况下，优选在支承玻璃 (3)的端部设置缺口部(31)。适当地保护玻璃膜O)的端部，并且在玻璃膜O)的剥离时能够容易地把持在支承玻璃(3)的缺口部(31)露出的玻璃膜(2)，从而能够容易地剥离玻璃膜( 。通过磨石等对支承玻璃C3)端部的一部分进行研削，或者通过空心钻等切掉端部的一部分，由此能够形成缺口部(31)。本发明的玻璃膜的制造方法，可以连续地进行图4中示意表示的第1工序、第2工序、第3工序以及第4工序。支承玻璃(3)由于能够再利用，因此，作为第1工序，也包括将已经形成有无机薄膜的支承玻璃(3)投入刚要进行第2工序前的生产线。另外，并不限于从第1工序至第4工序连续地进行的构成，例如，在第2工序后将所制造的玻璃膜层叠体(1)包装、出货，在另外制造相关处理设施中，也可以为进行第3工序以及第4工序的构成。实施例1以下，基于实施例对本发明的玻璃膜的制造方法详细地进行说明，但本发明并不限定于这些实施例。(层叠试验)将纵250mm、横250mm、厚度700 μ m的矩形状的透明的玻璃板作为支承玻璃使用。 作为在支承玻璃上层叠的玻璃膜，使用纵230mm、横230mm、厚度100 μ m的玻璃膜。支承玻璃和玻璃膜使用日本电气硝子株式会社制造的无碱玻璃(制品名0A-10G、30 380°C下的热膨胀系数38X10_7°C)。将通过溢出下拉法成形的玻璃在未研磨的状态下直接使用，或者通过适当控制研磨以及化学蚀刻的量来进行Ra的控制。在支承玻璃上，如表1所示，作为无机薄膜将ITO以及Ti成膜50 200nm。成膜使用BOC公司制连续式溅射装置进行。 接着，使用Veeco公司制AFM(Nanoscope III a)在扫描尺寸10 μ m、扫描速度IHz、样品生产线512的条件下测定支承玻璃上的无机薄膜的表面、以及玻璃膜的层叠侧的表面的表面粗糙度Ra。表面粗糙度Ra由测定范围10 μ m见方的测定值计算出。测定后，在表1所示的试验区内对支承玻璃以及玻璃膜进行划分。之后，根据各自表1所示的划分，在支承玻璃上的无机薄膜的表面上直接重合玻璃膜。将支承玻璃和玻璃膜能够强固地贴合并层叠的情况判定为〇，将无法贴合的情况判定为X。将结果示于表1。表 权利要求
1.一种玻璃膜的制造方法，其特征在于，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到 2. Onm以下；第2工序，其中，在使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠，从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。
2.根据权利要求1所述的玻璃膜的制造方法，其特征在于，所述无机薄膜为氧化物薄膜。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃膜的制造方法，其特征在于，所述玻璃膜与所述支承玻璃在边缘部的至少一部分设置高低差而进行层叠。
4.一种玻璃膜的处理方法，其特征在于，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到 2. Onm以下；第2工序，其中，使表面粗糙度Ra为2. Onm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠，从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。
5.一种玻璃膜层叠体，为在支承玻璃上层叠有玻璃膜的玻璃膜层叠体，其特征在于， 在层叠所述玻璃膜的所述支承玻璃的表面形成有无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2. Onm以下，所述玻璃膜的至少层叠侧的表面的表面粗糙度Ra为2. Onm以下， 所述玻璃膜层叠体是使所述无机薄膜的表面与所述玻璃膜的表面接触的状态下进行层置。
6.根据权利要求5所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述玻璃膜的层叠侧的表面与所述无机薄膜的表面的GI值分别为lOOOpcs/m2以下。
7.根据权利要求5或6所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述玻璃膜的厚度为 300 μ m以下。
8.根据权利要求5 7中任一项所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述支承玻璃的厚度为400 μ m以上。
9.根据权利要求5 8中任一项所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述玻璃膜与所述支承玻璃的在30 380°C下的热膨胀系数之差为5X10_7°C以下。
10.根据权利要求5 9中任一项所述的玻璃膜层叠体，其特征在于，所述玻璃膜与所述支承玻璃分别通过溢出下拉法成形。
全文摘要
玻璃膜的制造方法，包括第1工序，其中，在支承玻璃的表面形成无机薄膜，使成膜后的表面粗糙度Ra达到2.0nm以下；第2工序，其中，在使表面粗糙度Ra为2.0nm以下的玻璃膜接触于所述无机薄膜的表面的状态下进行层叠，从而作为玻璃膜层叠体；第3工序，其中，对所述玻璃膜层叠体进行伴随加热的处理；和第4工序，其中，在所述伴随加热的处理后，将所述玻璃膜从所述支承玻璃上剥离。
文档编号G09F9/30GK102471129SQ20108002761
公开日2012年5月23日 申请日期2010年9月14日 优先权日2009年9月18日
发明者折口长敏, 泷本博司, 笘本雅博, 高谷辰弥 申请人:日本电气硝子株式会社
最新回复(0)