一种防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法
专利名称：一种防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法
技术领域：
本发明涉及一种防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，尤其涉及一种制造可适用于大型或小型薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕上，具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射等效果的光学栅板方法。
背景技术：
由于科技的发达，使用计算机及电视传播的趋势也达到普及化，因此人们每天曝露在屏幕辐射线下的时间也愈来愈长。根据专家研究，由于眼睛长时间接受光线辐射的原因，使得患视觉病痛的患者日益增多，包括近视、斜视、白内障及严重的视觉障碍等，故目前世界视讯家电厂商在提供高画质、低辐射及成本方面有竞争性的屏幕产品时，莫不考虑其屏幕产品的辐射阻隔的重要性。
目前薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕，为使其画面所产生出来的辐射及静电不直接危害到观赏者，于是进一步在屏幕前加装光学栅板予以阻隔，该光学栅板为经过镀上多层膜处理予以阻隔辐射及静电的玻璃基板。然而，目前视讯家电厂商所制出的屏幕有愈来愈大的趋势，就现今该阻隔辐射及静电的玻璃基板工艺而言，已无法适用其大量生产的需求了，原因是由于受工艺设备及薄膜工艺的限制和影响。
现今阻隔辐射及静电的玻璃基板工艺，是利用真空溅镀的方式，是在玻璃基板镀上多层薄膜。然而，多层薄膜采用真空溅镀方式涂布于玻璃基板上，其涂布面积会受限，无法适用大面积的基板面上，因此，面积愈大的薄膜愈易产生剥膜剥离现象，故一般只能适用于15″～20″的基板面上，大于30″基板面无法适用，只能少量制造，故现今阻隔辐射及静电的玻璃基板采真空溅镀的方式已无法适用大型屏幕商品化大量生产的需求。
并且，现今大型屏幕的等离子显示器(PDP)，其画面达到300Ω的阻抗值时，观赏者会产生一种晕眩现象，造成视觉不舒服感，故该种晕眩现象也是目前视讯家电厂商需要克服的技术瓶颈。
目前薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等大型屏幕阻隔辐射及静电的光学栅板，还没有适合的产品研发出来，因此需要在产业上寻找或开发可替代的产品。
有鉴于此，本发明者基于现今薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕阻隔辐射及静电的光学栅板只能小面积制造，不合乎经济效益的规模化生产等缺点，以及产业上的需求，于是着手加以研究，终于创制出在产业上使用的一种具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法及其制品。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，克服了现今薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕阻隔辐射及静电的光学栅板只能小面积制造，无法合乎经济效益的大量生产的缺点。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的提供基板；将基板浸镀涂布防晕眩薄膜，是在基板表面上进行浸镀涂布，使之覆盖上防晕眩薄膜；贴合防静电隔离层，是将基板已浸镀放晕眩膜的表面上贴合防静电隔离层，制出具有光学绕射的光学栅板。
更详细来说，该方案如卞提供经强化后的玻璃或光学有机玻璃或光学塑料等材料制成的基板。
将大面积的基板予以强化后，进行浸镀涂布形成多层纳米粒子的防晕眩薄膜，使基板表面上具有黑化处理效果，不仅能防晕眩并能有效阻隔辐射，也具有吸光增艳效果的特性；再在该镀膜处理的基板表面进一步贴合防静电隔离层，该隔离层是以聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyester简称PET)或聚碳酸酯树脂(Polycarbonate简称PC)为基材，将纳米导电纤维编织成的金属导电网黏着于基材表面，用以消除屏幕所产生的静电。故本发明所提供光学栅板的制造方法，能制造出镀有防晕眩薄膜及贴合防静电层的光学栅板制品，不仅具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射等效果，并且基板只需较少层数薄膜处理，而且防静电层也直接贴付于基板上。该工艺处理方式完全克服了大面积基板的镀膜处理，并使工艺更趋简化，相对购置设备成本也降低，极适合产业经济效益的规模生产。
本发明具有工艺简单，适合规模化生产，进而降低制造成本，制出的产品更具竞争力的优点，其所制出的光学栅板产品可适用于大型或小型薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕，因而具有产生增艳、防晕眩、防静电及防辐射等效果。
图1为本发明方法的制造流程示意图。
图2为本发明方法制品的结构示意图。
图3为图2基板表面镀防晕眩薄膜的侧视结构示意图。
图4为图2的分解结构示意图。
符号说明1…………基板 3………… 隔离层2…………防晕眩薄膜 31…………基材21……… 内层 32…………纳米导电纤维22……… 外层 4………… 屏幕具体实施方式
为达成上述目的，本发明所采用的技术手段及其方法，现举可行实施例，并配合附图详述如下。
实施例如图1至图4所示，图1为本发明方法的制造流程示意图，其制作处理方法的步骤包括第一步骤，提供基板，该基板为经强化后的玻璃或光学有机玻璃或光学塑料等基板1。
第二步骤，基板浸镀涂布防晕眩薄膜，是在基板1表面上进行浸镀涂布使之覆盖上防晕眩薄膜2。该防晕眩薄膜2是在电镀槽中浸镀5～20分钟而形成的镀膜厚度为0.1mm～0.3mm的多层薄膜，且该多层薄膜实际是多层纳米粒子均布覆盖所构成的，如图3所示其内层21是铜(Cu)或铝(Al)纳米粒子，外层22是铬(Cr)纳米粒子，能达到全透光系数(Total light permeation)为90+0-3、光散射系数(Diffused light permeation)为1.45±0.2、模糊度(Haze)为1.6±0.3、光泽度(Gloss)为80±5、硬度(Hardness)为7H的防晕眩薄膜2，能有效阻隔辐射，并使基板1表层具有黑化处理的效果，而该覆盖的铬粒子具有吸光点增艳的作用，因此，屏幕4所投射出的影像光线能透过防晕眩薄膜2绕射，进而具有防晕眩、抗辐射及增艳的效果。
第三步骤，贴合防静电隔离层制出光学栅板，是将基板1防晕眩镀膜表面再贴合防静电隔离层3，以完成制出具有光学绕射的光学栅板。该隔离层3为光透射率(light trans-mittance)为66％、表面阻抗(surfaceresistivity)为0.14Ω/sq的纳米导电纤维32编织的金属导电网黏着在PET或PC基材31表面(如图4所示)形成的，使屏幕4上所产生的静电能透过该纳米导电纤维32予以放电，以消除屏幕4上的静电。
本发明所提供具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，以及其所制成的具有光学绕射的光栅板，该光学栅板镀有防晕眩薄膜并贴合一层防静电层，确能达成预期的防晕眩、增艳、防静电及防辐射实用价值，基板只需较少层数薄膜处理，而且防静电层也直接贴付于基板上。该工艺处理方式完全克服了大面积基板镀膜处理的困难，使工艺更趋简化容易，相对购置设备成本也降低，极适合产业上经济效益高的规模化生产。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，凡运用本发明的技术思想，依据本说明书及申请专利权利范围所述的等效变化，理应包含在本发明的专利权范围内。
权利要求
1.一种防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其包括下列步骤提供基板；将基板浸镀涂布防晕眩薄膜，是在基板表面上进行浸镀涂布，使之覆盖上防晕眩薄膜；贴合防静电隔离层，是将基板已浸镀放晕眩膜的表面上贴合防静电隔离层，制出具有光学绕射的光学栅板。
2.根据权利要求1所述防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其中该基板为经强化后的玻璃或光学有机玻璃或光学塑料基板；
3.根据权利要求1所述防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其中防晕眩薄膜是在电镀槽中浸镀5～20分钟形成的、镀膜厚度为0.1mm～0.3mm的多层薄膜。
4.根据权利要求1或3所述的具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，该多层薄膜是由内层铜(Cu)或铝(Al)纳米粒子，外层铬(Cr)纳米粒子均布覆盖构成的。
5.根据权利要求1、2、或3所述的具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其中隔离层是将纳米导电纤维编织的金属导电网黏着在聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯树脂的基材表面形成的。
全文摘要
本发明涉及一种防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其包括下列步骤提供基板，该基板为经强化后的玻璃或光学有机玻璃或光学塑料等基板；基板浸镀涂布防晕眩薄膜，该防晕眩薄膜是由多层纳米粒子均布覆盖所构成，其内层是铜(Cu)或铝(Al)纳米粒子覆盖，外层是铬(Cr)纳米粒子覆盖；再贴合防静电隔离层，制造出光学栅板，该镀有防晕眩薄膜及贴合一层防静电层的光学栅板，能达成预期的防晕眩、增艳、防静电及防辐射等效果。
文档编号G09F9/00GK1536375SQ03109099
公开日2004年10月13日 申请日期2003年4月3日 优先权日2003年4月3日
发明者张道光, 张智丰, 张志荣 申请人:道麒科技股份有限公司
技术领域：
本发明涉及一种防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，尤其涉及一种制造可适用于大型或小型薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕上，具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射等效果的光学栅板方法。
背景技术：
由于科技的发达，使用计算机及电视传播的趋势也达到普及化，因此人们每天曝露在屏幕辐射线下的时间也愈来愈长。根据专家研究，由于眼睛长时间接受光线辐射的原因，使得患视觉病痛的患者日益增多，包括近视、斜视、白内障及严重的视觉障碍等，故目前世界视讯家电厂商在提供高画质、低辐射及成本方面有竞争性的屏幕产品时，莫不考虑其屏幕产品的辐射阻隔的重要性。
目前薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕，为使其画面所产生出来的辐射及静电不直接危害到观赏者，于是进一步在屏幕前加装光学栅板予以阻隔，该光学栅板为经过镀上多层膜处理予以阻隔辐射及静电的玻璃基板。然而，目前视讯家电厂商所制出的屏幕有愈来愈大的趋势，就现今该阻隔辐射及静电的玻璃基板工艺而言，已无法适用其大量生产的需求了，原因是由于受工艺设备及薄膜工艺的限制和影响。
现今阻隔辐射及静电的玻璃基板工艺，是利用真空溅镀的方式，是在玻璃基板镀上多层薄膜。然而，多层薄膜采用真空溅镀方式涂布于玻璃基板上，其涂布面积会受限，无法适用大面积的基板面上，因此，面积愈大的薄膜愈易产生剥膜剥离现象，故一般只能适用于15″～20″的基板面上，大于30″基板面无法适用，只能少量制造，故现今阻隔辐射及静电的玻璃基板采真空溅镀的方式已无法适用大型屏幕商品化大量生产的需求。
并且，现今大型屏幕的等离子显示器(PDP)，其画面达到300Ω的阻抗值时，观赏者会产生一种晕眩现象，造成视觉不舒服感，故该种晕眩现象也是目前视讯家电厂商需要克服的技术瓶颈。
目前薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等大型屏幕阻隔辐射及静电的光学栅板，还没有适合的产品研发出来，因此需要在产业上寻找或开发可替代的产品。
有鉴于此，本发明者基于现今薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕阻隔辐射及静电的光学栅板只能小面积制造，不合乎经济效益的规模化生产等缺点，以及产业上的需求，于是着手加以研究，终于创制出在产业上使用的一种具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法及其制品。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，克服了现今薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕阻隔辐射及静电的光学栅板只能小面积制造，无法合乎经济效益的大量生产的缺点。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的提供基板；将基板浸镀涂布防晕眩薄膜，是在基板表面上进行浸镀涂布，使之覆盖上防晕眩薄膜；贴合防静电隔离层，是将基板已浸镀放晕眩膜的表面上贴合防静电隔离层，制出具有光学绕射的光学栅板。
更详细来说，该方案如卞提供经强化后的玻璃或光学有机玻璃或光学塑料等材料制成的基板。
将大面积的基板予以强化后，进行浸镀涂布形成多层纳米粒子的防晕眩薄膜，使基板表面上具有黑化处理效果，不仅能防晕眩并能有效阻隔辐射，也具有吸光增艳效果的特性；再在该镀膜处理的基板表面进一步贴合防静电隔离层，该隔离层是以聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyester简称PET)或聚碳酸酯树脂(Polycarbonate简称PC)为基材，将纳米导电纤维编织成的金属导电网黏着于基材表面，用以消除屏幕所产生的静电。故本发明所提供光学栅板的制造方法，能制造出镀有防晕眩薄膜及贴合防静电层的光学栅板制品，不仅具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射等效果，并且基板只需较少层数薄膜处理，而且防静电层也直接贴付于基板上。该工艺处理方式完全克服了大面积基板的镀膜处理，并使工艺更趋简化，相对购置设备成本也降低，极适合产业经济效益的规模生产。
本发明具有工艺简单，适合规模化生产，进而降低制造成本，制出的产品更具竞争力的优点，其所制出的光学栅板产品可适用于大型或小型薄膜液晶显示器(TFT-LCD)或等离子显示器(PDP)等屏幕，因而具有产生增艳、防晕眩、防静电及防辐射等效果。
图1为本发明方法的制造流程示意图。
图2为本发明方法制品的结构示意图。
图3为图2基板表面镀防晕眩薄膜的侧视结构示意图。
图4为图2的分解结构示意图。
符号说明1…………基板 3………… 隔离层2…………防晕眩薄膜 31…………基材21……… 内层 32…………纳米导电纤维22……… 外层 4………… 屏幕具体实施方式
为达成上述目的，本发明所采用的技术手段及其方法，现举可行实施例，并配合附图详述如下。
实施例如图1至图4所示，图1为本发明方法的制造流程示意图，其制作处理方法的步骤包括第一步骤，提供基板，该基板为经强化后的玻璃或光学有机玻璃或光学塑料等基板1。
第二步骤，基板浸镀涂布防晕眩薄膜，是在基板1表面上进行浸镀涂布使之覆盖上防晕眩薄膜2。该防晕眩薄膜2是在电镀槽中浸镀5～20分钟而形成的镀膜厚度为0.1mm～0.3mm的多层薄膜，且该多层薄膜实际是多层纳米粒子均布覆盖所构成的，如图3所示其内层21是铜(Cu)或铝(Al)纳米粒子，外层22是铬(Cr)纳米粒子，能达到全透光系数(Total light permeation)为90+0-3、光散射系数(Diffused light permeation)为1.45±0.2、模糊度(Haze)为1.6±0.3、光泽度(Gloss)为80±5、硬度(Hardness)为7H的防晕眩薄膜2，能有效阻隔辐射，并使基板1表层具有黑化处理的效果，而该覆盖的铬粒子具有吸光点增艳的作用，因此，屏幕4所投射出的影像光线能透过防晕眩薄膜2绕射，进而具有防晕眩、抗辐射及增艳的效果。
第三步骤，贴合防静电隔离层制出光学栅板，是将基板1防晕眩镀膜表面再贴合防静电隔离层3，以完成制出具有光学绕射的光学栅板。该隔离层3为光透射率(light trans-mittance)为66％、表面阻抗(surfaceresistivity)为0.14Ω/sq的纳米导电纤维32编织的金属导电网黏着在PET或PC基材31表面(如图4所示)形成的，使屏幕4上所产生的静电能透过该纳米导电纤维32予以放电，以消除屏幕4上的静电。
本发明所提供具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，以及其所制成的具有光学绕射的光栅板，该光学栅板镀有防晕眩薄膜并贴合一层防静电层，确能达成预期的防晕眩、增艳、防静电及防辐射实用价值，基板只需较少层数薄膜处理，而且防静电层也直接贴付于基板上。该工艺处理方式完全克服了大面积基板镀膜处理的困难，使工艺更趋简化容易，相对购置设备成本也降低，极适合产业上经济效益高的规模化生产。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，凡运用本发明的技术思想，依据本说明书及申请专利权利范围所述的等效变化，理应包含在本发明的专利权范围内。
权利要求
1.一种防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其包括下列步骤提供基板；将基板浸镀涂布防晕眩薄膜，是在基板表面上进行浸镀涂布，使之覆盖上防晕眩薄膜；贴合防静电隔离层，是将基板已浸镀放晕眩膜的表面上贴合防静电隔离层，制出具有光学绕射的光学栅板。
2.根据权利要求1所述防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其中该基板为经强化后的玻璃或光学有机玻璃或光学塑料基板；
3.根据权利要求1所述防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其中防晕眩薄膜是在电镀槽中浸镀5～20分钟形成的、镀膜厚度为0.1mm～0.3mm的多层薄膜。
4.根据权利要求1或3所述的具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，该多层薄膜是由内层铜(Cu)或铝(Al)纳米粒子，外层铬(Cr)纳米粒子均布覆盖构成的。
5.根据权利要求1、2、或3所述的具有防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其中隔离层是将纳米导电纤维编织的金属导电网黏着在聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯树脂的基材表面形成的。
全文摘要
本发明涉及一种防晕眩、增艳、防静电及防辐射的光学栅板制造方法，其包括下列步骤提供基板，该基板为经强化后的玻璃或光学有机玻璃或光学塑料等基板；基板浸镀涂布防晕眩薄膜，该防晕眩薄膜是由多层纳米粒子均布覆盖所构成，其内层是铜(Cu)或铝(Al)纳米粒子覆盖，外层是铬(Cr)纳米粒子覆盖；再贴合防静电隔离层，制造出光学栅板，该镀有防晕眩薄膜及贴合一层防静电层的光学栅板，能达成预期的防晕眩、增艳、防静电及防辐射等效果。
文档编号G09F9/00GK1536375SQ03109099
公开日2004年10月13日 申请日期2003年4月3日 优先权日2003年4月3日
发明者张道光, 张智丰, 张志荣 申请人:道麒科技股份有限公司
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