V型铜镍硅合金异形带的制作方法
专利名称：V型铜镍硅合金异形带的制作方法
技术领域：
V型铜镍硅合金异形带技术领域[0001]本实用新型涉及一种适用于电子行业中的V型铜镍硅合金异形带。[0002]背景技术[0003]随着国内外电机行业的迅速发展，对与之配套的铜排的技术要求越来越苛刻。传 统的电工用铜排采用高精度的纯铜且其横截面呈矩形，只能用与一般电器产品作导体材 料，而对于一些对导体材料有特殊屈服强度，导电率和截面形状要求的场合则不能适用。因 而满足不了电器行业产品升级换代的需求。实用新型内容[0004]本实用新型的目的在于克服上述不足，目的在于提供一种能适用于对导体材料有 屈服强度，导电率和特殊截面形状要求的场合的电工V型铜镍硅合金异形带。[0005]为此本实用新型采用的技术方案是:其整体呈矩形状，其上方开设一凹槽，该凹槽 由两部分组成，上部分截面为V型，下部分为和V型下端面对应的矩形。[0006]本实用新型的优点是:本实用新型设置成的异形状，满足用于对导体材料有特殊 截面形状要求的场合。
[0007]图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
[0008]本实用新型整体呈矩形状，其上方开设一凹槽，该凹槽由两部分组成，上部分截面 为V型，下部分为和V型下端面对应的矩形。[0009]本实用新型铜排使用先进的铜镍硅合金，具有良好的屈服强度和电导率。
权利要求1.V型铜镍硅合金异形带，其特征在于，整体呈矩形状，其上方开设一凹槽，该凹槽由两 部分组成，上部分截面为V型，下部分为和V型下端面对应的矩形。
专利摘要本实用新型涉及一种V型铜镍硅合金异形带，适用于电子行业中。整体呈矩形状，其上方开设一凹槽，该凹槽由两部分组成，上部分截面为V型，下部分为和V型下端面对应的矩形。本实用新型设置成的异形状，满足用于对导体材料有特殊截面形状要求的场合。
文档编号H01B1/02GK203165486SQ20132005036
公开日2013年8月28日 申请日期2013年1月30日 优先权日2013年1月30日
发明者刘平, 周志云, 刘新宽, 马凤仓, 陈小红, 胡锡贞 申请人:江苏迅达电磁线有限公司
技术领域：
V型铜镍硅合金异形带技术领域[0001]本实用新型涉及一种适用于电子行业中的V型铜镍硅合金异形带。[0002]背景技术[0003]随着国内外电机行业的迅速发展，对与之配套的铜排的技术要求越来越苛刻。传 统的电工用铜排采用高精度的纯铜且其横截面呈矩形，只能用与一般电器产品作导体材 料，而对于一些对导体材料有特殊屈服强度，导电率和截面形状要求的场合则不能适用。因 而满足不了电器行业产品升级换代的需求。实用新型内容[0004]本实用新型的目的在于克服上述不足，目的在于提供一种能适用于对导体材料有 屈服强度，导电率和特殊截面形状要求的场合的电工V型铜镍硅合金异形带。[0005]为此本实用新型采用的技术方案是:其整体呈矩形状，其上方开设一凹槽，该凹槽 由两部分组成，上部分截面为V型，下部分为和V型下端面对应的矩形。[0006]本实用新型的优点是:本实用新型设置成的异形状，满足用于对导体材料有特殊 截面形状要求的场合。
[0007]图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
[0008]本实用新型整体呈矩形状，其上方开设一凹槽，该凹槽由两部分组成，上部分截面 为V型，下部分为和V型下端面对应的矩形。[0009]本实用新型铜排使用先进的铜镍硅合金，具有良好的屈服强度和电导率。
权利要求1.V型铜镍硅合金异形带，其特征在于，整体呈矩形状，其上方开设一凹槽，该凹槽由两 部分组成，上部分截面为V型，下部分为和V型下端面对应的矩形。
专利摘要本实用新型涉及一种V型铜镍硅合金异形带，适用于电子行业中。整体呈矩形状，其上方开设一凹槽，该凹槽由两部分组成，上部分截面为V型，下部分为和V型下端面对应的矩形。本实用新型设置成的异形状，满足用于对导体材料有特殊截面形状要求的场合。
文档编号H01B1/02GK203165486SQ20132005036
公开日2013年8月28日 申请日期2013年1月30日 优先权日2013年1月30日
发明者刘平, 周志云, 刘新宽, 马凤仓, 陈小红, 胡锡贞 申请人:江苏迅达电磁线有限公司
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